[发明专利]卤素与氟化合物浓度的测定方法、测定装置以及卤素化合物的制造方法无效
| 申请号： | 01121898.3 | 申请日： | 2001-03-30 |
| 公开（公告）号： | CN1330267A | 公开（公告）日： | 2002-01-09 |
| 发明（设计）人： | 大野博基;大井敏夫;加贺一有;馆龙一;松田五明 | 申请（专利权）人： | 昭和电工株式会社 |
| 主分类号： | G01N21/25 | 分类号： | G01N21/25;G01N21/35 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所 | 代理人： | 陈剑华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 在一种制造卤素化合物或全氟化碳化合物的设备中,为了将卤素气体和/或氟代烃气体浓度控制在设定在范围内,提供卤素气体和/或氟代烃气体的管理上需要的迅速、容易且精度高的测定方法,加之结构小型化、另外零件交换迅速、容易的测定装置和使用它的制造卤素化合物或全氟化碳化合物的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 卤素 氟化 浓度 测定 方法 装置 以及 化合物 制造 | ||
【主权项】：
1、一种卤素浓度的测定方法，其特征在于将含卤素气体的气体导入含金属碘化物的溶液中生成碘，按照对该溶液特定波长区域的可见光线的透过光强度的测定来定量生成的碘。
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