[发明专利]三线性图纹过滤方法无效
| 申请号： | 01120006.5 | 申请日： | 2001-07-02 |
| 公开（公告）号： | CN1165019C | 公开（公告）日： | 2004-09-01 |
| 发明（设计）人： | 叶国炜 | 申请（专利权）人： | 矽统科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G06T17/00 | 分类号： | G06T17/00 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 穆魁良 |
| 地址： | 台湾省新*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明提出一种三线性图纹过滤方法，可减少图纹元素的读取并避免模糊效应，包含下列步骤：读取一像素资料；计算像素尺寸及坐标，该图纹坐标具有整数部分及小数部分；选择两层多点解析贴图，根据像素尺寸选择图纹元素尺寸最接近该像素尺寸的高解析多点解析贴图与低解析多点解析贴图；计算图层距离；选取主要图纹元素，选取高解析多点解析贴图中最接近像素坐标的四个图纹元素作为主要图纹元素；计算主要颜色，即该像素相对于高解析多点解析贴图中的颜色；选取辅助图纹元素；以及，计算像素颜色，根据主要颜色与辅助图纹元素的颜色以该像素相对于各多点解析贴图的图层距离值计算出该像素的贴图颜色。 | ||
| 搜索关键词： | 线性 过滤 方法 | ||
【主权项】：
1.一种三线性图纹过滤方法，其特征是：它包含下列步骤：读取一像素资料；计算像素尺寸及坐标，根据前述像素资料计算该像素相对于一多点解析贴图的图纹坐标，该图纹坐标具有整数部分及小数部分；选择两层多点解析贴图，根据前述像素尺寸选择图纹元素尺寸最接近该像素尺寸的高解析多点解析贴图与低解析多点解析贴图；计算图层距离，根据前述像素尺寸的大小计算该像素距离前述高解析多点解析贴图的距离；选取主要图纹元素，选取前述高解析多点解析贴图中最接近前述像素坐标的四个图纹元素作为主要图纹元素；计算主要颜色，根据前述主要图纹元素及前述像素坐标的小数部分，计算出该像素相对于前述高解析多点解析贴图中的颜色，并作为主要颜色；选取辅助图纹元素，选取前述低解析多点解析贴图中最接近前述像素坐标的一个图纹元素作为辅助图纹元素；计算前述像素颜色，根据前述主要颜色与前述辅助图纹元素的颜色以该像素相对于各多点解析贴图的前述图层距离值计算出该像素的贴图颜色。
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