[发明专利]曝光装置无效
| 申请号： | 01101347.8 | 申请日： | 2001-01-10 |
| 公开（公告）号： | CN1306226A | 公开（公告）日： | 2001-08-01 |
| 发明（设计）人： | 二階堂胜;石野智明;田所彻也 | 申请（专利权）人： | 东芝株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01J9/227 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所 | 代理人： | 方晓虹 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种曝光装置,具有掩模支承部,该掩模支承部支承已形成曝光图形的光掩模,使之在与被曝光物接触的曝光位置和离开被曝光物的离开位置之间移动。设有曝光光源,该曝光光源在光掩模移至曝光位置的状态下,穿过光掩模而对被曝光物曝光。净化气体供给器在光掩模移至离开位置时由第1供给部向被曝光物和光掩模之间提供净化气体以防止异物进入,在光掩模移至曝光位置时,由第2供给部向光掩模的外侧面提供净化气体以使光掩模冷却。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 | ||
【主权项】：
1．一种对被曝光物进行曝光的曝光装置，包括：与所述被曝光物相对配置、支承已形成曝光图形的光掩模、同时使所述光掩模在与所述被曝光物接触的曝光位置及离开所述被曝光物的离开位置之间移动的掩模支承部，在所述光掩模移至所述曝光位置的状态下，穿过所述光掩模而对所述被曝光物进行曝光的曝光光源，在所述光掩模移至所述离开位置时，向所述被曝光物和光掩模之间提供净化气体的净化气体供给器。
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