[发明专利]使用等离子体诱导微波振荡器频率变化的电子密度测量和控制系统无效
| 申请号： | 00810563.4 | 申请日： | 2000-07-20 |
| 公开（公告）号： | CN1162712C | 公开（公告）日： | 2004-08-18 |
| 发明（设计）人： | 约瑟夫·T·沃德云;韦恩·L·约翰逊;默里·D·瑟基斯 | 申请（专利权）人： | 东京电子株式会社 |
| 主分类号： | G01R23/04 | 分类号： | G01R23/04;G01R31/26 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王永刚 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种用于测量等离子体密度和电子密度中的至少一种(例如在1010至1012cm-3的范围内)的方法和系统。使用反馈控制来测量至少一种等离子体密度和电子密度能够控制等离子体辅助过程，诸如沉积和刻蚀。测量方法和系统产生控制电压，它进而控制等离子体发生器(205)以将至少一种等离子体密度和电子密度维持在预定的值上。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 等离子体 诱导 微波 振荡器 频率 变化 电子密度 测量 控制系统 | ||
【主权项】：
1.一种用于在等离子体源，等离子体室和电子源中的至少一个中测量等离子体密度和电子密度中的至少一种的系统，该系统包括：用于提供第一信号的电路，该第一信号表示穿过等离子体源，等离子体室和电子源中的至少一个的一个振荡信号；用于输入第二信号的输入终端，第二信号包括表示所述等离子体密度和电子密度中的至少一种的参考值的输入数据；以及处理器，用于比较第一和第二信号之间的差别以确定等离子体源，等离子体室和电子源中至少一个的等离子体密度和电子密度中的至少一种。
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