[发明专利]低亲合性N－甲基－D－天冬氨酸拮抗剂用于制备治疗抑郁症的药物的应用

摘要

本发明涉及某些低亲合性NMDA拮抗剂作为抗抑郁药的应用。优选化合物包括式(I)的化合物和其药学上可接受的盐，式中R¹为吡啶基、苯基或4-氟苯基；R²为苯基或4-氟苯基；R³为氢、C_1-6烷基或甲酯基；R⁴为氢或甲基；R⁵为氢或COCH₂NH₂。∴

主权项

1.式(I)的低亲合性N-甲基-D-天冬氨酸拮抗剂活性的化合物或其药学上可接受的盐或代谢产物在制备治疗抑郁症的药物中的应用，式中：R¹为吡啶基、苯基或4-氟苯基；R²为苯基或4-氟苯基；R³为氢、C_1-6烷基或甲酯基；R⁴为氢或甲基；和R⁵为氢或COCH₂NH₂。