[实用新型]一种用于真空蒸镀的样品支架无效
申请号: | 00218165.7 | 申请日: | 2000-06-27 |
公开(公告)号: | CN2428490Y | 公开(公告)日: | 2001-05-02 |
发明(设计)人: | 侯晓远;何钧;吕明;邓振波;廖良生;周翔;熊祖洪;张松涛;何劲;钟高余 | 申请(专利权)人: | 复旦大学 |
主分类号: | C23C14/50 | 分类号: | C23C14/50 |
代理公司: | 复旦大学专利事务所 | 代理人: | 姚静芳 |
地址: | 20043*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 一种适用于真空蒸镀的样品支架的设计。以往的真空沉积设备的设计中,掩模和样品托之间都有一点距离,使得真正得到的薄膜的形状并不是所设计的形状。本实用新型设计了一套样品支架,包括样品托、样品架和样品叉,其独特简捷的结构配合使用使得掩模和样品托之间的距离减少到零。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 真空 样品 支架 | ||
【主权项】:
1.一种用于真空蒸镀的样品支架,有样品托、样品架和样品叉,其特征是样品托方形有耳(1),左、右侧面和后侧面封实(2),上、下面和前侧面是敞开的,其底部从封实的左右侧分别延伸有两个台阶(3);样品架两侧(4)宽度与样品托左右侧宽度一致,其底部(5)相连,在样品架两侧内有相隔一定间距的两对台阶(6);样品叉是两根平行杆(7),上有两对凸起叉头(8),两对凸起叉头间距与样品托左侧和右侧宽度一致。
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