[发明专利]含杂芳基乙烯侧链的可逆光敏树脂及其制备方法

摘要

本发明公开了一种含杂芳基乙烯侧链的可逆光敏树脂及其制备方法。该树脂能够在较长波长紫外光照射下交联形成不融不溶体型高分子且能成膜或成象，也可在较短波长紫外光照射下使交联的体型高分子解聚重新生成线型聚合物，并且具有耐氧、耐湿、储存稳定的特点。它的制备是把能够进行可逆光环加成反应的杂芳基乙烯光功能基团接枝到聚苯乙烯等聚合物分子链上而成。其制备过程简单。

主权项

1.含杂芳基乙烯侧链的可逆光敏树脂，其结构式如1～3式所示，该含杂芳基乙烯侧链的可逆光敏树脂，在波长为300～450nm紫外-可见光照射下交联聚合形成不融不溶体型高分子，并可成膜或成象，在波长为250～350nm紫外光照射下已交联的体型聚合物发生光解聚重新生成线型聚合物；式1                               式2                               式3Y＝O，S，NH，NR，NRCH₂X＝O，S，NHR¹＝H，F，Cl，Br，CN，R，RO，R₂N，RCONH，SO₃HR＝不超过12个碳原子的烷基，环戊基，环己基，乙烯基，烯丙基，苯基，苄基。