[发明专利]离子发生装置及静电去除设备无效
| 申请号： | 00128196.8 | 申请日： | 2000-10-21 |
| 公开（公告）号： | CN1297269A | 公开（公告）日： | 2001-05-30 |
| 发明（设计）人： | 阪田总一郎 | 申请（专利权）人： | 高砂热学工业株式会社 |
| 主分类号： | H01T19/04 | 分类号： | H01T19/04;H01T23/00;B08B6/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 叶恺东 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 包括针状的放电极(12)与导电性的成对电极(13),通过对该放电极(12)施加交流高电压,因电晕放电,使放电极(12)周边的空气形成离子。至少放电极(12)的前端(12”)由硅单晶形成,放电极(12)的前端(12”)与成对电极(13)之间的最短距离(L)在0.4～4cm的范围内,施加于放电极(12)上的交流高电压的有效值V小于8kV,并且按照下述方式设定,该方式为1.8L(cm)+0.52.8L(cm)+1.0。 | ||
| 搜索关键词： | 离子 发生 装置 静电 去除 设备 | ||
【主权项】：
1．一种离子发生装置，其包括针状的放电极与导电性的成对电极，通过对该放电极施加交流高电压，因电晕放电，使放电极周边的空气形成离子，其特征在于：至少放电极的前端由硅单晶形成，放电极的前端与成对电极之间的最短距离在0.4～4cm的范围内，施加于放电极上的交流高电压的有效值V小于8kV，并且按照下述方式设定，该方式为：1.8L(cm)+0.5＜V(kV)＞2.8L(cm)+1.0。
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