[发明专利]多层膜在线连续镀制设备的工艺布置

摘要

本发明公开了一种多层膜在线连续镀制设备的工艺布置,设备具有装片真空室(1),过渡真空室(2)(10),转换真空室(3)(9),镀膜真空室(4)(5)(7)(8),缓冲真空室(6),卸片真空室(11)及独立阀门(A)(B)(C)(D)(E)(F),用于镀制两层或两层以上的复合薄膜,解决了连续镀制多层膜的技术问题,具有操作简便,产品质量高和重复性好,生产效率高等优点,广泛适用于镀膜尤其用于光学,电子方面的多层复合薄膜的镀制行业。

主权项

1.一种多层膜在线连续镀制设备的工艺布置，用于镀制两层或两层以上的薄膜，具有装片真空室，镀膜真空室，缓冲真空室和独立阀门装置，其特征在于：设备及装置的工艺布置依次为独立阀门(A)，装片真空室(1)，独立阀门(B)，过渡真空室(2)，独立阀门(C)，转换真空室(3)，镀膜真空室(4)，镀膜真空室(5)，缓冲真空室(6)，镀膜真空室(7)，镀膜真空室(8)，转换真空室(9)，独立阀门(D)，过渡真空室(10)，独立阀门(E)，卸片真空室(11)和独立阀门(F)，各真空室中配有中间加热系统和温度控制系统，镀膜真空室(4)(5)(7)(8)中配有带有质量流量控制仪的工艺气体分配系统，镀膜真空室(6)是一个高真空隔离气阱，独立阀门(A)设在装片真空室(1)之前，独立阀门(F)设在卸片真空室(11)之后，独立阀门(B)(C)(D)(E)设在各真空室之间，系统设有自控基片小车。