[发明专利]检测光学系统光远场参量的方法及其装置无效
| 申请号： | 00116390.6 | 申请日： | 2000-06-08 |
| 公开（公告）号： | CN1274842A | 公开（公告）日： | 2000-11-29 |
| 发明（设计）人： | 徐文东;孙洁林;林强;干福熹 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G01N21/84 | 分类号： | G01N21/84;G01M11/02 |
| 代理公司： | 上海华东专利事务所 | 代理人： | 李兰英 |
| 地址： | 201800 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种检测光学系统光远场参量的方法及其装置。检测方法是将光纤探针的带小孔针尖置于被测样品光远场位置上进行扫描的光纤探针扫描法。检测的装置主要包含中心轴线上置有光纤探针的具有三维粗细调的光纤扫描器,光纤探针将接收到的光信号传送给光电探测器,再经锁相放大器输入计算机。计算机通过高压放大器控制光纤探针扫描。具有对被测样品光远场的高精度和实时给出光参量的两维或三维分布的特点。 | ||
| 搜索关键词： | 检测 光学系统 光远场 参量 方法 及其 装置 | ||
【主权项】：
1.一种检测光学系统光远场参量的方法，其特征在于是采用光纤端部带小孔的针尖置于被测样品光远场位置上进行扫描的光纤探针扫描法，其具体步骤是：将光纤探针的针尖置于被测样品的焦点上，进行扫描，扫出焦点上光斑的大小；将光纤探针的针尖置于被测样品焦点之前距焦点五倍焦深D距离的位置和置于焦点之后距焦点五倍焦深D距离的位置上进行扫描，扫出焦点前和焦点后的两个光斑，上述焦深D＝λ/NA2，其中λ为检测时所使用光源的波长，NA为被测样品的数值孔径；根据上述获得焦点上，焦点前和焦点后的三个光斑的图样，利用普通光学车间加工检验的星点检验法，判断被测样品的成像质量。
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