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- [实用新型]皮肤处理系统-CN202121207791.7有效
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Y·B·布拉达
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皇家飞利浦有限公司
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2021-06-01
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2022-05-03
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A61B5/00
- 本公开的实施例涉及一种皮肤处理系统。一种皮肤处理系统，包括：功能构件，被配置为在皮肤上执行处理动作并且在系统操作期间在皮肤上被移动；以及包括测量单元，包括测量构件，该测量构件被配置为随着功能构件一起在皮肤上被移动并且在该过程中使皮肤凹陷。测量构件能够在测量单元中位移，并且测量单元被配置为测量与程度相关的值，即测量构件通过皮肤的动作、相对于测量单元中的默认位置而被位移的程度。所测量的值对应于测量构件使皮肤凹陷的程度的测量。基于由测量单元生成的测量结果，可以使系统的操作自动地适应被处理身体区域的类型。通过上述布置，本实用新型提供了自动调节皮肤处理系统的功能构件的操作方式的可能性。
- 皮肤处理系统
- [实用新型]皮肤处理系统-CN202120748810.0有效
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Y·B·布拉达
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皇家飞利浦有限公司
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2021-04-13
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2022-04-15
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A61B17/00
- 本公开涉及一种皮肤处理系统(1)。该皮肤处理系统包括功能构件(20)和测量单元(40)，皮肤处理系统诸如脱毛系统，功能构件被配置成对皮肤(2)执行处理动作并在系统(1)的操作期间在皮肤(2)上方被移动；测量单元包括测量构件(41)，测量构件被配置成在功能构件(20)的操作期间也在皮肤(2)上方被移动并且在过程中接触皮肤(2)。测量单元(40)被配置成测量测量构件(41)在功能构件(20)的操作期间在皮肤(2)上方被移动的前进方向上的至少力值。出于确定表示皮肤(2)的摩擦系数的摩擦系数值的目的，在前进方向上的测量力值被使用，从而允许评估皮肤状况。
- 皮肤处理系统
- [发明专利]皮肤处理系统-CN202110608468.9在审
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Y·B·布拉达
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皇家飞利浦有限公司
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2021-06-01
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2021-12-07
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A61B5/00
- 本公开的实施例涉及一种皮肤处理系统。一种皮肤处理系统，包括：功能构件(20)，被配置为在皮肤上执行处理动作并且在系统(1)操作期间在皮肤(2)上被移动；以及包括测量单元，包括测量构件(41)，该测量构件被配置为随着功能构件一起在皮肤上被移动并且在该过程中使皮肤(2)凹陷。测量构件(41)能够在测量单元(40)中位移，并且测量单元(40)被配置为测量与程度相关的值，即测量构件(41)通过皮肤(2)的动作、相对于测量单元(40)中的默认位置而被位移的程度。所测量的值对应于测量构件(41)使皮肤凹陷的程度的测量。基于由测量单元(40)生成的测量结果，可以使系统(1)的操作自动地适应被处理身体区域的类型。
- 皮肤处理系统
- [发明专利]二维力传感器-CN202080020466.1在审
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Y·B·布拉达;M·科伊南
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皇家飞利浦有限公司
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2020-03-04
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2021-10-29
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G01L1/22
- 一种二维力传感器，用于测量在第一方向(X)上的第一力(Fx)以及在不同于第一方向(X)的第二方向(Y)上的第二力(Fy)。二维力传感器包括：第一弹性板(H1)，被定向在第二方向(Y)上，第一弹性板(H1)的第一端被布置用于耦合到参考点；第二弹性板(H2)，被定向在第一方向(X)上，第二弹性板(H2)的第一端被耦合到第一弹性板(H1)的第二端；以及测量探头(P)，被耦合到第二弹性板(H2)的第二端。有利地，测量探头(P)被安装在延伸设备(A)上，延伸设备被安装到第二弹性板(H2)的第二端，延伸设备(A)被布置用于将测量探头(P)定位在一位置处，该位置从第一弹性板(H1)和第二弹性板(H2)的假想横截面点偏离延伸设备的长度的不超过20％、优选地10％以及更优选地5％。
- 二维传感器
- [发明专利]皮肤处理系统-CN202110395961.7在审
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Y·B·布拉达
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皇家飞利浦有限公司
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2021-04-13
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2021-10-22
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A61B17/00
- 本公开涉及一种皮肤处理系统(1)。该皮肤处理系统包括功能构件(20)和测量单元(40)，皮肤处理系统诸如脱毛系统，功能构件被配置成对皮肤(2)执行处理动作并在系统(1)的操作期间在皮肤(2)上方被移动；测量单元包括测量构件(41)，测量构件被配置成在功能构件(20)的操作期间也在皮肤(2)上方被移动并且在过程中接触皮肤(2)。测量单元(40)被配置成测量测量构件(41)在功能构件(20)的操作期间在皮肤(2)上方被移动的前进方向上的至少力值。出于确定表示皮肤(2)的摩擦系数的摩擦系数值的目的，在前进方向上的测量力值被使用，从而允许评估皮肤状况。
- 皮肤处理系统
- [发明专利]毛发造型设备-CN201880058506.4有效
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W·H·C·斯布伦顿克;N·V·吉罗查;Y·B·布拉达;L·科斯特卡尔德
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皇家飞利浦有限公司
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2018-09-05
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2021-04-27
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A45D1/04
- 一种毛发造型设备，包括：用于辐射毛发(H)的光学辐射源(L)、用于测量辐射毛发(H)的效果的传感器单元(S)，以及用于根据来自传感器单元(S)的信号来控制光学辐射源(L)的前馈控制设备。光学辐射源(L1，L2)可以产生具有第一能量密度的第一闪光，该第一能量密度可以低于光热毛发再塑形所需的能量密度，光学辐射源被控制，以根据响应于第一闪光而获得的传感器信号来产生后续的闪光，该后续的闪光可以至少具有第一能量密度。传感器单元(S)可以包括在毛发流的方向上布置在光学辐射源之前的传感器。毛发造型设备沿着毛发(H)被引导的方向可以包括：第一传感器(S1)、根据来自第一传感器(S1)的信号控制的第一LED单元(L1)、第二传感器(S2)，以及根据来自第二传感器(S2)的信号控制的第二LED单元(L2)。引导毛发通过毛发造型设备的方向可以确定光学辐射源的哪一部分将充当第一LED单元(L1)。毛发造型设备可以包括驱动机构(D)，以根据来自传感器单元(S)的信号，以由前馈控制设备控制的速度使毛发(H)沿着光学辐射源(L)移动。
- 毛发造型设备
- [发明专利]用于测量毛发特性的设备-CN201880061023.X在审
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Y·B·布拉达;M·斯考滕;M·科伊南;N·V·吉罗查;M·J·勒利维尔德;彭骏宇;M·范伊斯
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皇家飞利浦有限公司
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2018-09-12
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2020-05-29
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G01L1/22
- 本发明提供了一种用于测量毛发特性的设备，具有第一部分(I)和第二部分(II)，毛发(H)在所述第一部分(I)与所述第二部分(II)之间被引导。所述第一部分(I)包括测量探针(MP)，并且所述第二部分(II)被布置用于使所述毛发(H)抵靠所述测量探针(MP)而变形。当所述设备沿着所述毛发(H)运动时，所述测量探针(MP)受到摩擦力和变形力(DF)，该摩擦力因为所述毛发(H)沿着所述测量探针(MP)被引导所产生，该变形力因为所述毛发(H)由所述第二部分(II)抵靠所述测量探针(MP)而变形所产生。有利地，所述第二部分(II)包括压力元件(PB、S)，用于将所述毛发(H)压靠所述测量探针(MP)，以挤压所述毛发(H)。在备选实施例中，所述第二部分(II)包括：对齐元件(AE)，位于所述测量探针(MP)的相对两侧，用于使所述毛发(H)在所述测量探针(MP)上弯曲，以及引导元件(G)，用于减轻所述设备被应用于所述毛发(H)的角度对所述摩擦力和/或所述变形力的影响，同时所述测量探针(MP)被安装到载荷单元模块(LC‑X、LC‑Y)上，用于测量二维空间中的载荷，以分别测量摩擦力和变形力。
- 用于测量毛发特性设备
- [发明专利]具有超晶格涂层的切削构件-CN03819832.0无效
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D·H·J·蒂尤;Y·B·布拉达
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皇家飞利浦电子股份有限公司
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2003-07-14
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2005-09-28
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B26B21/60
- 本发明涉及一种用于剃削毛发的装置内的切削构件(7)。切削构件包括设置切削刃(9)的金属衬底(15)。包括切削刃的衬底的至少一部分设置保护涂层(19)。按照本发明，涂层(19)包括多个叠置成对的层(21)，每对层包括主要包括碳(C)的第一层(23)和主要包括金属的第二层，并且每对层具有1和10nm之间的厚度(Tp)。第二层最好包括Cr、Nb、Mo、Ti、V或W。因此，涂层具有超晶格结构，超晶格结构为涂层提供优于各层单个材料性能的物理性能。在第二层包括Cr并且每对层(21)具有1.8nm厚度的实施例中，涂层(19)具有Cr硬度的大致四倍的硬度，并在切削构件(7)和将要被剃削的毛发之间提供一定摩擦系数，该摩擦系数显著低于没有涂层的摩擦系数。
- 具有晶格涂层切削构件
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