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[发明专利]基于多个信号和配置的地理围栏-CN201780033713.X有效
发明人： W·A·M·A·M·范登敦根;S·莱丁厄姆;T·拉斯;W·J·博克斯 -专利权人：皇家飞利浦有限公司
申请日： 2017-05-30 - 公布日： 2021-08-17 - 主分类号： H04W4/021 文献下载
摘要：一种地理围栏系统(102)包括基站设备(104)，所述基站设备被配置为在所述基站设备周围创建界定安全区(110)的虚拟围栏(108)。所述地理围栏系统还包括初始位于所述安全区内的可穿戴设备(106)。所述地理围栏系统还包括配置为执行动态自适应控制算法的处理器，所述动态自适应控制算法基于由所述基站设备和所述可穿戴设备中的至少一个计算的指示所述可穿戴设备与所述基站设备之间的距离测量结果的不同信号的动态和自适应组合，来计算针对所述基站设备和可穿戴设备中的至少一个的至少一个操作参数。所述处理器将所述至少一个操作参数传送到所述基站设备和所述可穿戴设备中的所述至少一个，所述基站设备和所述可穿戴设备中的所述至少一个采用所述至少一个操作参数来操作和确定后续距离测量。
基于信号配置地理围栏

[发明专利]超声探头定位系统-CN201980035812.0在审
发明人： A·J·艾莱威尔特;W·J·博克斯;S·M·坎普斯;J·S·M·格拉茨;A·L·J·范努尔特;A·M·赖肯;J·L·库斯特拉 -专利权人：皇家飞利浦有限公司
申请日： 2019-05-28 - 公布日： 2021-01-08 - 主分类号： A61B8/08 文献下载
摘要：一种超声探头定位系统(100)包括定位单元(102)和定位控制单元(106)，所述定位单元用于保持超声探头单元(104)，并且用于移动所述超声探头单元并且将其定位在目标位置处，所述定位控制单元被配置为提供指示建立所述超声探头单元与外部对象(110)的机械接触的目标位置的目标定位数据，并且在将所述超声探头移动并且定位在所述目标位置处时控制所述机械定位单元。所述定位单元包括力致动单元(108)，所述力致动单元被配置为响应于反作用力的量的变化而调整被施加在所述对象上的机械压迫力的压迫力的量，以便维持由所述机械压迫力逆着所述反作用力而施加的预定的净压迫力的量。
超声探头定位系统

[发明专利]光刻投影装置-CN200910167452.8有效
发明人： P·R·巴特雷;W·J·博克斯;D·J·P·A·弗兰肯;B·A·J·卢蒂克惠斯;E·A·F·范德帕施;M·W·M·范德维斯特;M·J·M·恩格尔斯 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2004-06-25 - 公布日： 2010-02-03 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种光刻投影装置。该投影装置包括用于支撑构图装置例如中间掩模版的支撑结构。当通过投影光束照射中间掩模版时，利用中间掩模版上的图案对投影光束进行构图。投影系统构成和设置为使中间掩模版的受照射部分成像到基底的目标部分上。存在有用于确定中间掩模版相对于投影系统的空间位置的组件。该组件包括一测量单元，该测量单元具有足以确定所需空间位置的数量的传感器。
光刻投影装置

[发明专利]光刻装置及集成电路制造方法-CN200410061804.9有效
发明人： P·R·巴特雷;W·J·博克斯;D·J·P·A·弗兰肯;B·A·J·卢蒂克惠斯;E·A·F·范德帕施;M·W·M·范德维斯特;M·J·M·恩格尔斯 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2004-06-25 - 公布日： 2005-02-09 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种光刻投影装置(1)。该投影装置包括用于支撑构图装置例如中间掩模版的支撑结构。当通过投影光束PB照射中间掩模版时，利用中间掩模版上的图案对投影光束进行构图。投影系统PL构成和设置为使中间掩模版的受照射部分成像到基底的目标部分上。存在有用于确定中间掩模版相对于投影系统(PL)的空间位置的组件。该组件包括一测量单元，该测量单元具有足以确定所需空间位置的数量的传感器。
光刻装置集成电路制造方法