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[发明专利]传感器设备-CN202010869789.X在审
发明人： W·乌尔里希 -专利权人：斯图姆机械装备制造有限公司
申请日： 2020-08-26 - 公布日： 2021-03-02 - 主分类号： G01B11/06 文献下载
摘要：本发明涉及一种传感器设备，其用于作为涂覆过程的部分检查盘的涂层。所述传感器设备包括用于确定施加到盘的涂层的层厚度的第一光学传感器系统，并且包括旋转装置。本发明的特征在于，第一光学传感器系统设计成同时识别至少一个第一基于位置的测量值和一个第二基于位置的测量值，第一和第二基于位置的测量值描述传感器系统和盘的表面之间的距离。据此，传感器系统配置成使得盘的涂覆区域的第一基于位置的测量值和盘的未涂覆区域的第二基于位置的测量值被识别。此外，第一光学传感器系统包括从中心区域延伸到边缘的至少一个线性引导件。此外，提供了控制和分析装置，用于通过第一和第二基于位置的测量值来计算在第一基于位置的测量值的位置处的盘的层厚度。此外，本发明涉及一种用于盘的涂层，包括检查涂层以确定施加到盘的涂层的层厚度。
传感器设备

[发明专利]用于加工工件的方法和组件-CN201980015767.2在审
发明人： W·乌尔里希;S·佩内尔特 -专利权人：斯图姆机械装备制造有限公司
申请日： 2019-09-10 - 公布日： 2020-10-30 - 主分类号： B23C3/32 文献下载
摘要：用于加工带有尤其在钻孔中的表面的工件(10)的方法，带有凹槽(14)和处在其间的桥接部(16)的凹槽结构(12)被引入到该表面中，其中，在凹槽结构(12)处可能构造有非期望的毛刺(18)，其特征在于，为了检查且确定毛刺(18)的形成设置有测量设备(20)，其将光线(24)发出到凹槽结构(12)的表面处且接收由表面所反射的光线(26)，其中，毛刺形成的程度取决于所反射的光线(26)被确定。
用于加工工件方法组件

[发明专利]反射折射投影物镜-CN201110158145.0有效
发明人： D·谢弗;W·乌尔里希;A·多多克;R·冯比瑙;H·-J·曼;A·埃普勒 -专利权人：卡尔蔡司SMT有限责任公司
申请日： 2005-01-13 - 公布日： 2011-10-05 - 主分类号： G02B17/08 文献下载
摘要：一种反射折射投影物镜，用于将提供在投影物镜物面中的图形成像到投影物镜的像面上，包括：第一物镜部分，将提供在物面中的图形成像为第一中间图像；第二物镜部分，将第一中间图像成像为第二中间图像；第三物镜部分，将第二中间图像成像到像面上；其中具有第一连续镜面的第一凹面镜和具有第二连续镜面的至少一个第二凹面镜布置在第二中间图像的上游；第一光瞳面形成在物面和第一中间图像之间，第二光瞳面形成在第一中间图像和第二中间图像之间，第三光瞳面形成在第二中间图像和像面之间；在第一物镜部分中第一光瞳面附近放置至少一个具有基本平行板表面的板，其中至少一个板表面被非球面化用于校正像差。
反射折射投影物镜

[发明专利]反射折射投影物镜-CN201110158559.3有效
发明人： D·谢弗;W·乌尔里希;A·多多克;R·冯比瑙;H·-J·曼;A·埃普勒 -专利权人：卡尔蔡司SMT有限责任公司
申请日： 2005-01-13 - 公布日： 2011-08-31 - 主分类号： G02B17/08 文献下载
摘要：本发明涉及一种反射折射投影物镜。一种投影物镜，用于将提供在所述投影物镜的物面中的图形成像到所述投影物镜的像面上，包括：第一物镜部分，用于将提供在所述物面中的图形成像为第一中间图像；第二物镜部分，用于将第一中间图像成像为第二中间图像；以及第三物镜部分，用于将第二中间图像成像到所述像面上；其中，所述投影物镜包括正好两个凹面镜和正好两个中间图像，并且其中，所述投影物镜是没有光瞳昏暗的清楚的系统。
反射折射投影物镜

[发明专利]预付费余额状态通知的控制-CN200880002268.1无效
发明人： W·D·巴特尔;蔡亦钢;W·乌尔里希 -专利权人：朗讯科技公司
申请日： 2008-01-14 - 公布日： 2009-12-09 - 主分类号： H04M17/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种增强的方法和装置，用于向使用预付费业务的电信客户提供他/她的预付费余额低于预先指定的阈值的通知。将指定间隔内的通知数限于指定的数目。有利地，客户避免了在他/她已经知道问题时接收到多次通知的不便。
预付余额状态通知控制

[发明专利]微光刻投影光学系统、工具及其制造方法-CN200780012528.9有效
发明人： H－J·曼;W·乌尔里希 -专利权人：卡尔蔡司SMT股份有限公司
申请日： 2007-01-05 - 公布日： 2009-04-22 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种微光刻投影光学系统(1100)包括多个光学元件(1110、1120、1130、1140、1150、1160)，这些元件设置为将具有波长λ的辐射从物平面(103)中的物场成像到像平面(102)中的像场。该多个光学元件(1110、1120、1130、1140、1150、1160)具有位于距物平面大于2.8m的入瞳。穿过该光学系统的辐射路径由具有相对于物平面的法线成3°或更大夹角的主光线表征。这尤其适宜使用相移掩模作为所要成像的物体，尤其适用于EUV波长。
微光投影光学系统工具及其制造方法

[发明专利]微光刻投影光学系统、用于制造装置的方法以及设计光学表面的方法-CN200680033544.1有效
发明人： H－J·曼恩;W·乌尔里希;M·普莱托里尔斯 -专利权人：卡尔蔡司SMT股份有限公司
申请日： 2006-09-12 - 公布日： 2008-09-10 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：总体上，本发明的一方面包括一种微光刻投影光学系统(101)，其包括：多个元件(310－360)，其被设置为将来自物平面(103)的光成像到像平面(102)，至少一个所述元件是反射元件，其具有位于光路上的旋转非对称表面。所述旋转非对称表面从旋转对称表面偏离约10nm以上，并且所述光学系统是微光刻投影光学系统。
微光投影光学系统用于制造装置方法以及设计光学表面

[发明专利]具有中间图像的反射折射投影物镜-CN200580023994.8有效
发明人： A·多多克;W·乌尔里希;A·埃普勒 -专利权人：卡尔蔡司SMT股份公司
申请日： 2005-05-13 - 公布日： 2007-06-20 - 主分类号： G02B17/08 文献下载
摘要：一种反射折射投影物镜，用于将布置在投影物镜的物面上的图案成像在投影物镜的像面上，具有用于物场的成像以形成第一真实的中间图像的第一物镜部分，利用来自第一物镜部分的辐射产生第二真实的中间图像的第二物镜部分；以及将第二真实的中间图像成像在像面上的第三物镜部分。第二物镜部分是具有凹面镜的反射折射物镜部分。提供沿凹面镜的方向偏转来自物面的辐射的第一折叠式反射镜和沿像面的方向偏转来自凹面镜的辐射的第二折叠式反射镜。在接近于第一中间图像的场的区域中，具有正折射本能的场透镜布置在第一中间图像和/或第一折叠式反射镜和凹面镜之间。
具有中间图像反射折射投影物镜

[发明专利]反射折射投影物镜-CN200580002499.9有效
发明人： D·谢弗;W·乌尔里希;A·多多克;R·冯比瑙;H·－J·曼;A·埃普勒 -专利权人：卡尔蔡司SMT股份公司
申请日： 2005-01-13 - 公布日： 2007-02-07 - 主分类号： G02B17/00 文献下载
摘要：一种反射折射投影物镜(200)，用于将提供在投影物镜的物面(201)中的图形成像在投影物镜的像面(202)上，包括：第一物镜部分(210)，用于将提供在物面中的图形成像为第一中间图像；第二物镜部分(220)，用于将第一中间图像成像为第二中间图像；第三物镜部分(230)，用于将第二中间图像直接成像到像面上；其中具有第一连续镜面的第一凹面镜(221)和具有第二连续镜面的至少一个第二凹面镜(222)布置在第二中间图像的上游；光瞳面形成在物面和第一中间图像之间，形成在第一和第二中间图像之间，并且形成在第二中间图像和像面之间；所有凹面镜布置成光学远离光瞳面。该系统在适度透镜材料物质消耗的情况下具有非常高的数值孔径。
反射折射投影物镜

[发明专利]具有光瞳遮蔽的物镜-CN200610079853.4无效
发明人： H·－J·曼;W·乌尔里希 -专利权人：卡尔蔡司SMT股份公司
申请日： 2002-08-16 - 公布日： 2006-12-06 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：物镜(1)具有：第一部分物镜(3)，其将第一场平面(7)投影到中间图像(11)上且包括具有第一中央镜孔径(15)的第一凸面镜(13)和具有第二中央镜孔径(19)的第二凹面镜(17)，所述第一镜(13)具有距所述第二镜(17)的第一轴上间距，且所述第二镜(17)具有距所述中间图像(11)的第二轴上间距，以及第一轴上间距与第二轴上间距的比率具有在0.95至1.05、尤其是在0.98至1.02之间的值；以及第二部分物镜(5)，其将所述中间图像(11)投影到第二场平面(9)上且包括具有第三中央镜孔径(23)的第三凹面镜(21)和具有第四中央镜孔径(27)的第四凹面镜(25)，所述第三镜(21)具有距第二场平面(9)的第三轴上间距Z_M3－IM，所述第三轴上间距与第二场平面(9)内的数值孔径NA以及与第三镜(21)的直径Du_M3具有下述关系：(I)，所述物镜(1)具有Petzval半径，所述半径的绝对值大于所述第一场平面(7)距所述第二场平面(9)的轴上间距。
有光遮蔽物镜

[发明专利]用于浸液式光刻的折射投影物镜-CN03805575.9有效
发明人： H·－J·罗斯塔尔斯基;W·乌尔里希 -专利权人：卡尔蔡司SMT股份公司
申请日： 2003-02-26 - 公布日： 2005-07-13 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种适合于浸液式显微光刻法的纯折射投影物镜设计成单腰部系统，所述系统具有五个透镜组，在这样的情况中，提供了具有负折射能力的第一透镜组、具有正折射能力的第二透镜组、具有负折射能力的第三透镜组、具有正折射能力的第四透镜组以及具有正折射能力的第五透镜组。所述系统孔布置在第四透镜组和第五透镜组之间的最大射束直径的区域中。本发明所涉及的投影物镜的实施例获得了NA＞1的非常高的数值孔径以及具有大像场，并且其特征在于，良好的光学校正状态和适度的总尺寸。当在操作波长低于200nm的情况下在投影物镜与衬底之间使用浸液时可分辨基本低于100nm的图像宽度。
用于浸液光刻折射投影物镜

[发明专利]具有光瞳遮蔽的物镜-CN02812100.7无效
发明人： H·－J·曼;W·乌尔里希 -专利权人：卡尔蔡司SMT股份公司
申请日： 2002-08-16 - 公布日： 2004-07-28 - 主分类号： G02B17/08 文献下载
摘要：物镜(1)具有：第一部分物镜(3)，其将第一场平面(7)投影到中间图像(11)上且包括具有第一中央镜孔径(15)的第一凸面镜(13)和具有第二中央镜孔径(19)的第二凹面镜(17)，所述第一镜(13)具有距所述第二镜(17)的第一轴上间距，且所述第二镜(17)具有距所述中间图像(11)的第二轴上间距，以及第一轴上间距与第二轴上间距的比率具有在0.95至1.05、尤其是在0.98至1.02之间的值；以及第二部分物镜(5)，其将所述中间图像(11)投影到第二场平面(9)上且包括具有第三中央镜孔径(23)的第三凹面镜(21)和具有第四中央镜孔径(27)的第四凹面镜(25)，所述第三镜(21)具有距第二场平面(9)的第三轴上间距Z_M3－IM，所述第三轴上间距与第二场平面(9)内的数值孔径NA以及与第三镜(21)的直径Du_M3具有下述关系：(I)，所述物镜(1)具有Petzval半径，所述半径的绝对值大于所述第一场平面(7)距所述第二场平面(9)的轴上间距。
有光遮蔽物镜

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