专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]用于增加通量的方法-CN202180037077.4在审
  • T·R·科维;G·伊沃什夫;P·科瓦里克;刘畅 - DH科技发展私人贸易有限公司
  • 2021-05-21 - 2023-02-03 - H01J49/00
  • 接收由质谱仪产生的针对一系列样品的强度关于时间值的描记。还接收由进样系统产生的与一系列样品对应的一系列喷射时间。使用从喷射到质量分析的已知延迟时间来计算对应于一系列喷射时间的一系列预期峰时间。使用一系列预期峰时间来识别描记的至少一个孤立峰。通过将至少两个不同的分布函数的混合拟合到至少一个孤立峰来计算峰轮廓。对于一系列预期峰时间中的至少一个时间,通过将峰轮廓拟合到该一个时间处的描记并计算拟合的峰轮廓的面积来计算在该一个时间处的峰的面积。
  • 用于增加通量方法
  • [发明专利]声学液滴喷射设备的自动调谐-CN202180037181.3在审
  • 刘畅;T·R·科维 - DH科技发展私人贸易有限公司
  • 2021-05-21 - 2023-02-03 - H01J49/00
  • 为ADE设备、OPI或离子源设备的至少一个参数计算最优值。对于ADE设备、OPI或离子源设备的至少一个参数的多个参数值中的每个值,使用处理器执行三个步骤。首先,将所述至少一个参数设置为该值。其次,ADE设备、OPI、离子源设备和质谱仪被指示为样本产生一个或多个强度相对于时间质量峰。第三,计算所述一个或多个强度相对于时间质量峰的至少一个特征的特征值。产生与所述多个参数值对应的多个特征值。从所述多个特征值中为所述至少一个参数计算最优值。
  • 声学喷射设备自动调谐
  • [发明专利]质量分析-CN202180038928.7在审
  • T·R·科维;刘畅 - DH科技发展私人贸易有限公司
  • 2021-05-25 - 2023-02-03 - G01N1/38
  • 提供用于分析物质样品的集合的技术。根据本公开的系统可以包括一个或更多个样品处理机、样品捕获设备、质量分析仪器和控制器,这些控制器操作为根据从操作员输入设备中的至少一个接收的指令和存储在控制器可访问的存储器中的机器可解释指令生成被配置为导致以下处理的信号:导致样品处理机从样品源集体取出一种或更多种物质的多个样品,并将多个收集的样品递送至至少一个样品捕获设备;导致样品捕获设备独立地捕获由样品处理机递送的集体取出的样品中的至少一个,并将至少一个捕获的样品转移到质量分析仪器;并且导致质量分析仪器电离并检测转移的处理样品的一个或更多个粒子。
  • 质量分析
  • [发明专利]通过质谱法进行固相亲和选择-CN202180036531.4在审
  • T·R·科维;刘畅 - DH科技发展私人贸易有限公司
  • 2021-05-20 - 2023-01-31 - G01N33/68
  • 在用于通过质谱法进行亲和选择的系统中,其中溶液中的多种药物候选物基于亲和力被分离,提供了方法,所述方法包括:将对选择的蛋白质具有结合亲和力的固相装置引入到溶液中,将多种药物候选物中的至少一种结合至固相装置作为选择的药物候选物,洗涤固相装置和选择的药物候选物以分离未结合的物质,对流经开放端口取样接口的取样区域的捕获流体中的选择的药物候选物取样,并将取样的选择的药物候选物和捕获流体引导至电离源。
  • 通过质谱法进行相亲选择
  • [发明专利]用于开放端口采样探头的高流速冲洗-CN202180037078.9在审
  • T·R·科维;刘畅 - DH科技发展私人贸易有限公司
  • 2021-05-20 - 2023-01-31 - H01J49/04
  • 在用于质谱的采样系统中,提出了一种用于经由采样探头(10)进行高流速冲洗和样品输送的方法和装置。采样系统包括采样探头(10),该采样探头具有带入口的第一流体导管(40)、带出口的第二流体导管(42)、以及流体连接第一流体导管(40)和第二流体导管(42)的采样端口。流体源(50)附接到该入口,并且真空源(60)附接到该出口,以使流体流过第一流体导管(40)经过采样端口并通过第二流体导管(42)流出。提供盖(90)以用于选择性地关闭和打开采样端口。当盖被移除时,因此当采样端口被打开时,样品可以被引入到流过采样端口的流体中并被其捕获。当盖就位时,因此当采样端口被关闭时,供应冲洗流体以用于冲洗采样探头(10)。
  • 用于开放端口采样探头流速冲洗
  • [发明专利]经由可移动电磁铁组件进行三维混合和粒子输送-CN201880075550.6有效
  • D·W·阿诺德;T·R·科维;刘畅 - DH科技发展私人贸易有限公司
  • 2018-11-20 - 2022-05-13 - B03C1/06
  • 一种流体处理系统,其可包含样品容器和至少一个可移动磁性组件,所述样品容器具有用于容纳流体和多个磁性粒子的样品室,所述可移动磁性组件被配置为可移动地插入所述样品室或从所述样品室中取出。所述可移动磁性组件可包含多个电磁铁,当所述组件至少部分插入所述样品室时,所述电磁铁在所述样品室的至少一部分内产生磁场。所述流体处理系统还可以包含信号发生器和控制器,所述信号发生器向所述磁性组件的所述电磁铁施加电信号(例如,交流电信号),所述控制器耦合到所述信号发生器,其被配置为控制施加到所述电磁铁的所述电信号的相位,以在所述样品室的所述部分内产生磁场梯度,从而有效地磁性影响所述多个磁性粒子。
  • 经由移动电磁铁组件进行三维混合粒子输送
  • [发明专利]用于控制离子污染的方法及系统-CN201780057314.7有效
  • T·R·科维;Y·勒布朗;B·B·施奈德 - DH科技发展私人贸易有限公司
  • 2017-09-13 - 2022-04-12 - H01J49/10
  • 由于质谱系统的大多数离子光学器件经受离子沉积且可在受到严重污染之后表现出明显不同的行为(例如,丧失灵敏度),因此必须定期清洁污浊的表面以维持灵敏度。虽然前端组件(例如,帘幕板、孔口板、Qjet、Q0、IQ0)的表面可相对容易清洁,但下游高真空腔室内所含有的组件(例如,Q1、IQ1)的污浊可导致极大的延迟及花费,这是因为在清洁之前必须将高真空腔室排气且基本上拆解。本文提供用于对质谱仪系统的组件的污染加以控制的方法及系统。通过在非数据获取周期期间减少污染离子的传输,本发明教示可提高吞吐量、改善稳健性及/或缩短对污浊的组件进行排气/拆解/清洁通常所需的停机时间。
  • 用于控制离子污染方法系统

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