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专利名称
农业 化学；冶金 建筑 机械工程 区域搜索
主分类
A 农业
B 作业；运输
C 化学；冶金
D 纺织；造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]用于生成等离子体的方法和装置-CN202080087540.1在审
  • S.高特 - 戴森技术有限公司
  • 2020-12-04 - 2022-08-05 - H01J37/32
  • 提供了一种等离子体反应器，包括：处理室；等离子体天线组件，被配置为在处理室中生成等离子体；以及一个或多个磁体，被配置为将等离子体限制在处理室中远离等离子体天线组件的位置；其中等离子体天线组件包括：射频(RF)天线，被布置为由电流驱动，从而在等离子体生成区域中生成等离子体；壳体，被布置为将天线与在等离子体生成区域中生成的等离子体分离；以及铁磁或亚铁磁聚焦构件，被布置为部分地围绕天线的长度。
  • 用于生成等离子体方法装置
  • [发明专利]用于溅射沉积的方法和装置-CN202111134658.8在审
  • S.高特 - 戴森技术有限公司
  • 2021-09-27 - 2022-04-12 - C23C14/35
  • 公开了一种在表面上制造材料层的方法。该方法包括螺旋等离子体源在等离子体产生区中并且沿着等离子体产生轴线产生远离至少一个溅射靶的等离子体的步骤。螺旋等离子体源包括(a)一个或多个天线和(b)被布置成产生靠近磁体的磁场的一个或多个永磁体，该磁场沿着等离子体产生轴线并在等离子体产生区中。等离子体导致材料从溅射靶喷射。该方法包括将从溅射靶喷射的材料沉积到基底的表面上或由基底支撑的表面上以在表面上形成材料层的步骤。
  • 用于溅射沉积方法装置
  •  1 
  • 共 4 条
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