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[发明专利]用于投射光刻系统的光瞳分面反射镜、光学系统和照明光学系统-CN201880082025.7有效
发明人： S.比林;M.恩德雷斯;T.费舍尔 -专利权人：卡尔蔡司SMT有限责任公司
申请日： 2018-11-07 - 公布日： 2023-01-17 - 主分类号： G02B5/08 文献下载
摘要：在包括具有不可接近的入瞳的变形成像投射光学系统(7)的投射光刻系统(1)中，通过传输光学系统(15)对光瞳分面反射镜(14)和/或其光瞳分面(14a)和/或其成像动作进行各种适配可以是有利的。
用于投射光刻系统光瞳分面反射光学系统照明

[发明专利]投射曝光系统的照明光学单元-CN201580050425.6有效
发明人： M.帕特拉;S.比林;M.德冈瑟;R.米勒 -专利权人：卡尔蔡司SMT有限责任公司
申请日： 2015-10-02 - 公布日： 2020-05-22 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种投射曝光系统(1)的照明光学单元(17i)，包含多个辐射反射组件，其中所有辐射反射组件布置为使得含照明辐射(5)的光束(10i)会在这些组件上以相同方式偏转。
投射曝光系统照明光学单元

[发明专利]EUV投射光刻的照明光学单元-CN201580069078.1有效
发明人： M.恩德雷斯;R.米勒;S.比林 -专利权人：卡尔蔡司SMT有限责任公司
申请日： 2015-10-06 - 公布日： 2020-04-24 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种EUV投射光刻的照明光学单元(7)，用于以照明光(3)照明物场(8)。在物体位移方向(y)上可位移的待成像物体(19)可布置于物场(8)中。传输光学单元(14)通过照明通道，以叠加于彼此上的方式将场分面反射镜(5)的场分面成像至物场(8)中，所述照明通道各均已分配有所述场分面之一和光瞳分面反射镜(10)的一个光瞳分面。该叠加光学单元(14)具有布置于该光瞳分面反射镜(10)下游的至少两个用于掠入射的反射镜(12，13)。用于掠入射的反射镜(12，13)在物场(8)中生成由照明通道构成的照明光整体束(3G)的照明角带宽，该带宽对于平行于物体位移方向(y)的入射平面(yz)而言小于对于与其垂直的平面(xz)。所呈现的照明光学单元是这样的：通过其，投射光学单元可适配于照明光的EUV光源的配置。
euv 投射光刻照明光学单元

[发明专利]分面反射镜-CN201380026836.2有效
发明人： S.比林;M.德冈瑟;J.万格勒 -专利权人：卡尔蔡司SMT有限责任公司
申请日： 2013-05-07 - 公布日： 2018-08-28 - 主分类号： G02B17/00 文献下载
摘要：一种投射曝光设备(1)中照明物场(5)的照明光学单元(4)，包括：具有一结构的第一分面反射镜(13)，该结构在至少一个方向上具有至少0.2mm‑1的空间频率；以及第二分面反射镜(14)，其包括多个分面(14a)，其中所述分面(14a)分别设有抑制所述第一分面反射镜(13)的结构的空间频率的装置。
反射

[发明专利]用于铝热交换器的多层保护性涂层-CN201380014221.8有效
发明人： M.帕特森;M.R.贾沃洛夫斯基;M.T.隆巴多;S.比林 -专利权人：开利公司
申请日： 2013-03-11 - 公布日： 2017-03-08 - 主分类号： C23C22/83 文献下载
摘要：一种用于涂布铝合金热交换器的方法包括对所述热交换器的至少一个表面进行包括清洁在内的预处理工艺；用三价铬化合物转化涂布所述热交换器的所述至少一个表面；以及在含有有机腐蚀抑制剂的水溶液中对所述至少一个经过转化涂布的表面进行电泳涂布。
用于热交换器多层保护性涂层

[发明专利]具有耐腐蚀涂层的铝制热交换器-CN201480024532.7在审
发明人： M.R.贾沃罗夫斯基;M.T.隆巴多;M.F.塔拉斯;M.沃尔德塞马亚特;S.比林;M.帕特森 -专利权人：开利公司
申请日： 2014-02-28 - 公布日： 2015-12-30 - 主分类号： F28F19/02 文献下载
摘要：本文公开了一种热传递系统，所述热传递系统包括热传递流体循环回路；以及热交换器，所述热交换器包括铝合金外表面，所述铝合金外表面在其上具有由包含三价铬盐和碱金属六氟锆酸盐的组合物得到的顶表面涂层。
具有腐蚀涂层铝制热交换器

[发明专利]微光刻投射曝光设备的照明系统-CN201080066365.4有效
发明人： M.帕特拉;S.比林;M.德冈瑟;F.施莱森纳;M.施瓦布 -专利权人：卡尔蔡司SMT有限责任公司
申请日： 2010-12-28 - 公布日： 2013-01-02 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种微光刻投射曝光设备(10)的照明系统，其包含：光源(30)，其构造为产生投射光束(34)；及第一和第二衍射光学元件(42、44；242、244)，其布置在所述光源(30)和光瞳平面(84)之间。由每个衍射光学元件产生的衍射效应取决于光场(110)的位置，该光场被所述投射光束(34)辐射在所述衍射光学元件(42、44；242、244)上。位移机械装置(54、64)改变所述衍射光学元件的相互空间布置。在可借助所述位移机械装置(54、64)而获得的相互空间布置的至少一个中，所述光场(110)在所述第一和所述第二衍射光学元件(42、44；242、244)二者上延伸。这使得可以简单的方式连续产生可变的照明设定。
微光投射曝光设备照明系统