专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]用于具有高透明度、高耐磨性和低摩擦的抗指纹涂层的亲油性硅烷-CN202180028150.1在审
  • C·M·汉斯克;M·施莱辛格;S·达门 - 巴斯夫欧洲公司
  • 2021-04-26 - 2022-11-25 - C08G77/18
  • 本发明涉及一种涂料组合物,其包含式(I)或(II)所示的有机硅烷化合物:R13‑nR2nSi‑(CH2)x‑Ar(I),R13‑nR2nSi‑(CH2)x‑Si(R3)2‑Ar(II),其中:R1为可水解基团,独立地选自卤素或‑OR4,优选独立地选自‑OR4;R4独立地选自H或具有1‑4个碳原子的直链或支化烷基;R2独立地为H或具有1‑4个碳原子的直链或支化烷基;n为0、1或2,优选为0或1,最优选为0;R3独立地为H或具有1‑4个碳原子的直链或支化烷基;Ar为具有5‑10个碳原子的取代或未取代芳基,其中任选的取代基独立地选自直链或支化烷基、直链或支化卤代烷基,例如直链或支化氟化或氯化烷基,‑OR5、‑N(R5)2和卤素,例如F或Cl,优选Ar为具有5‑10个碳原子的未取代芳基,最优选Ar为未取代的苯基;R5独立地为H或具有1‑4个碳原子的直链或支化烷基;且x为6‑16,优选为8‑14;或其混合物;和任选的溶剂;还涉及源自所述有机硅烷化合物的指纹不可见膜、形成所述指纹不可见膜的方法以及包括所述指纹不可见膜的制品。
  • 用于具有透明度耐磨性摩擦指纹涂层油性硅烷
  • [发明专利]制备阴离子粘土的方法-CN02804714.1无效
  • D·施塔米雷斯;W·琼斯;S·达门 - 阿克佐诺贝尔股份有限公司
  • 2002-02-05 - 2004-09-08 - C01F7/00
  • 本发明涉及一种制备3R1型结晶阴离子粘土的方法,包括如下步骤:a)制备包含三水合铝或其热处理形式和镁源的含水前体混合物,其中将镁源在使用之前或当存在于该前体混合物中时研磨;b)于30-100℃下将该前体混合物陈化以得到结晶粘土产物;以及c)任选将步骤b)的产物成型。镁源单独或与(热处理的)三水合铝一起研磨导致更快的反应和对阴离子粘土的更高转化率。所得阴离子粘土可通过简单地将从反应器中取出的浆体干燥而得到。无需洗涤和过滤,且可以使反应产物得到较宽范围的Mg/Al比。
  • 制备阴离子粘土方法

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