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- [发明专利]激光光源和具有激光光源的激光投影器-CN201980057496.7有效
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M·弗奇;S·亨格斯巴赫
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科安德有限公司
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2019-07-16
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2023-05-12
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H04N9/31
- 本发明涉及一种激光光源(1)，其包括：至少一个非线性光学介质(3)，尤其非线性晶体；至少一个泵浦激光源(2)，其用于产生泵浦激光射束(5)以通过参量降频转换来在所述非线性光学介质(3)中形成信号射束(7)和闲频射束(8)。激光光源(1)包括至少一个晶种光源(4)，其用于产生具有比泵浦激光射束(5)的相干长度小的相干长度的晶种信号射束(7')和/或晶种闲频射束；至少一个叠加装置(16)，其用于将晶种信号射束(7')和/或所述晶种闲频射束与所述泵浦激光射束(5)叠加以共同耦合输入到所述非线性光学介质(3)中。本发明还涉及一种具有这种激光光源(1)的激光投影器。
- 激光光源具有投影
- [发明专利]用于表征粒子的传感器布置-CN202080046511.0在审
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M·弗奇;S·亨格斯巴赫
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科安德有限公司
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2020-04-14
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2022-02-01
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G01N15/02
- 本发明涉及一种用于表征粒子(P)，尤其用于确定粒子位置(PX、PY)、粒子速度(vX、vY)、粒子加速度(aX、aY)和/或粒子大小(D)的传感器布置(1)，其包括：发射器(2)，其具有：激光源(5)，其用于产生激光束(3)；模式转换装置(7)，其用于产生该激光束(3)的场分布，该场分布在各位置(X、Y)处具有该激光束(3)的局部强度(I(X,Y))及局部偏振方向(R(X,Y))的不同组合；聚焦光学器件(8)，其用于将该激光束(3)的该场分布聚焦至该粒子(P)在焦平面(9)中行进通过的至少一个测量区域(10)上，接收器(4)，其具有：分析器光学器件(14)，其用于确定该至少一个测量区域(10)中的该激光束(3)的该场分布的偏振相关的强度信号(I1、I2、I3、I4)，且具有分析处理装置(20)，该分析处理装置(20)用于表征粒子(P)，尤其用于在该偏振相关的强度信号(I1、I2、I3、I4)的帮助下确定该粒子位置(PX、PY)、该粒子速度(vX、vY)、该粒子加速度(aX、aY)和/或该粒子大小(D)。本发明亦涉及一种尤其用于EUV辐射产生设备的具有此传感器布置(1)的光学布置。
- 用于表征粒子传感器布置
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