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- [发明专利]用于制造模制体的方法-CN201980035262.2有效
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N·施耐德;C·库斯;M·沃尔格;P-I·迪特里希
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卡尔斯鲁厄技术研究所
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2019-05-24
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2023-05-16
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B29C61/06
- 本发明涉及一种用于制造模制体(10)的方法，包括以下步骤：a)设置具有至少一个容器(12)的模制工具(40)，将至少一种材料(30)引入到所述容器(12)中，材料(30)包括至少一种形状记忆材料(31)，形状记忆材料(31)以第一状态(111)存在，通过使材料(30)邻接容器(12)的至少一个表面的方式，将材料(30)至少部分地填充到模制工具(40)的容器(12)；b)用材料(30)在模制工具(40)的容器(12)中构建模制体(10)，形状记忆材料(31)以第二状态(112)存在，在第二状态(112)期间，将形状(11)模压到模制体(10)中；c)将形状记忆材料(31)转变为第三状态(113)，在第三状态(113)期间，通过使模制体(10)从模制工具(40)的容器(12)脱模的方式，模制体(10)可以变形；以及d)通过使形状记忆材料(31)转变为第四状态(114)，至少部分地恢复模制体(10)的形状(11)，其中在第四状态(114)期间，模制体(10)至少部分地恢复根据步骤b)所述的形状(11)。
- 用于制造模制体方法
- [发明专利]光耦合点的定位-CN202180019068.2在审
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M·布莱克;P-I·迪特里希;C·库斯
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卡尔斯鲁厄技术研究所
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2021-03-04
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2022-10-18
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G02B6/42
- 本发明涉及用于定位光耦合点(11)的方法和装置(200)，以及用于在光耦合点(11)处产生微结构(100)的方法。用于定位光耦合点(11)的方法包括以下步骤：a)提供光学部件(10)，所述光学部件包括光耦合点(11)，光耦合点具有相互作用区域(15)，所述相互作用区域(15)位于由光学部件(10)包围的体积的外部；b)在生产区域(120)中产生光辐射，生产区域(120)至少部分地与光耦合点(11)的相互作用区域(15)重叠，光被施加到位于生产区域(120)的介质(19)，所述介质(19)改变光，从而产生光辐射；c)在捕获区域(130)中捕获产生的光辐射的至少一部分，捕获区域(130)至少部分地与光耦合点(11)的相互作用区域(15)重叠，并且确定产生的光辐射的捕获部分的空间分辨分布；以及d)根据所确定的产生的光辐射的捕获部分的空间分辨分布来确定光耦合点(11)的位置，产生的光辐射或产生的光辐射的至少一部分通过光耦合点(11)被捕获。因此，光耦合点(11)可以被精确地定位，相对定位公差优于1μm。因此，可以通过与光学部件(10)的光学连接实现低耦合损耗，并且可以将微结构(100)精确地放置在光耦合点(11)处。
- 耦合定位
- [发明专利]用于产生光学系统的方法以及光学系统-CN201780067313.0有效
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P-I·迪特里希;C·库斯;M·布莱克;I·罗伊特;Y·许
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卡尔斯鲁厄技术研究所
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2017-11-02
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2021-06-22
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G02B6/42
- 本发明涉及光学系统以及用于产生该光学系统的方法。该光学系统具有至少两个分开的光学部件(10、11)和两个光学部件(10、11)之间的至少一个光学连接。在此的方法包括以下步骤：a)提供第一光学部件(10)和第二、分开的光学部件(11)，其中第一光学部件(10)具有第一波束轮廓(30)，并且第二光学部件(11)具有第二波束轮廓(31)；b)通过指定第一光学部件(10)和第二光学部件(11)的布置以及至少一个波束成形元件(40、41)的形状和目标位置的布置来设计光学系统，其中波束成形元件(40、41)固定地连接到第一光学部件(10)和/或第二光学部件(11)，其中波束成形元件(40、41)被指定为改变第一波束轮廓(30)和/或第二波束轮廓(31)，使得在第一光学部件(10)和第二光学部件(11)的定位之后，形成第一光学部件(10)和第二光学部件(11)之间的光学耦合；c)使用在目标位置处在原位的三维直写光刻方法来产生波束成形元件(40、41)，由此获得由波束成形元件(40、41)补充的至少一个光学部件(15、16)；以及d)将由波束成形元件(40、41)补充的光学部件(15、16)定位和固定在公共基板(50)上，由此获得光学系统。采用本方法产生的光学系统可以优选地被用于光学数据转移、测量技术和传感器、生命科学和医学技术，或光学信号处理。
- 用于产生光学系统方法以及
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