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[发明专利]UV可固化有机硅组合物和含有这种组合物的防尘涂层组合物-CN201480066864.1有效
发明人： P-F·傅;埃里克·莫耶;荣玮 -专利权人：道康宁公司
申请日： 2014-12-22 - 公布日： 2017-10-31 - 主分类号： C09D183/06 文献下载
摘要：本发明在各种实施例中提供了用于制备紫外线辐射可固化(UV可固化)有机硅组合物的方法，以及由此类方法制备的UV可固化有机硅组合物。本发明在各种实施例中提供了使用此类UV可固化有机硅组合物来制备防尘涂层的方法，以及使用此类UV可固化有机硅组合物、采用此类方法制备的防尘涂层。所述UV可固化有机硅组合物可用于LED封装、封壳、灯具、照明设备、光学制品等的有机硅基制品的涂层中，其不仅显著减轻并/或消除粉尘粘附，还改善了所述有机硅基制品的光学特性。
uv 固化有机硅组合含有这种防尘涂层

[发明专利]产生甲硅烷基官能化聚烯烃以及结合了甲硅烷基单体的甲硅烷基官能化聚烯烃的方法-CN201280005871.1有效
发明人：加里·伯恩斯;F·德比耶;P-F·傅;图斌·J·马克斯;瓦莱丽·斯米茨 -专利权人：道康宁公司;西北大学
申请日： 2012-01-17 - 公布日： 2017-08-04 - 主分类号： C08F210/00 文献下载
摘要：本发明提供了产生结合了甲硅烷基单体的甲硅烷基官能化聚烯烃的方法。所述方法包括使含硅烯烃与α‑烯烃在存在催化量IV族催化剂的情况下反应足以产生甲硅烷基官能化聚烯烃的时间。
产生硅烷官能烯烃以及结合单体方法

[发明专利]用于设备制造的可曝光成像和可显影的倍半硅氧烷树脂-CN201280015369.9有效
发明人： P-F·傅;埃里克·S·莫耶;杰森·苏何尔 -专利权人：道康宁公司
申请日： 2012-03-28 - 公布日： 2017-03-01 - 主分类号： G03F7/075 文献下载
摘要：本发明提供了一种可涂覆型树脂溶液，其当涂敷到基底的所述表面时能够形成涂层，所述涂层在暴露于紫外线辐射时能够曝光成像并显影为介电材料。所述树脂溶液包含倍半硅氧烷基（SSQ基）树脂、至少一种引发剂以及有机溶剂。所述SSQ基树脂包含氢化物组分以及至少一种可光固化组分。所述得到的涂层具有小于或等于约3.5的介电常数。
用于设备制造曝光成像显影倍半硅氧烷树脂

[发明专利]硅酸酯树脂及其制备方法-CN201480066173.1在审
发明人： P-F·傅;埃里克·莫耶 -专利权人：道康宁公司
申请日： 2014-12-11 - 公布日： 2016-07-20 - 主分类号： C08G77/04 文献下载
摘要：本发明在多个实施例中提供了制备官能化硅酸酯MT'Q、MD'Q和MM'Q树脂组合物的方法以及用此类方法制备的所述官能化硅酸酯树脂组合物。所述官能化硅酸酯树脂组合物可用于，例如涂料、橡胶、密封剂、消泡剂、油漆、电子器件、个人护理产品、医疗设备等。
硅酸树脂及其制备方法

[发明专利]作为硬掩膜抗反射涂层材料的基于二叔丁氧基二乙酰氧基硅烷的倍半硅氧烷树脂及其制备方法-CN201380010313.9无效
发明人： P-F·傅;埃里克·S·莫耶;杰森·苏何尔 -专利权人：道康宁公司
申请日： 2013-01-08 - 公布日： 2014-11-05 - 主分类号： C08G77/04 文献下载
摘要：本发明提供一种制备基于DIABS的倍半硅氧烷树脂的方法，该树脂用在用于光刻技术的抗反射硬掩膜涂层中。或者本发明提供从基于DIABS的倍半硅氧烷树脂制备抗反射涂层的方法和在光刻技术中使用所述抗反射涂层的方法。基于DIABS的倍半硅氧烷树脂具有由包括二叔丁氧基二乙酰氧基硅烷(DIABS)以及选自含水R1SiX3、R2SiX3、R3SiX3和SiX4中的至少一种硅烷单体的水解和缩合形成的结构单元；其中R1是H或烷基，X是卤化物或烷氧基，R2是发色团部分，且R3是反应位点或交联位点。基于DIABS的倍半硅氧烷树脂的特征在于，存在通过二叔丁氧基二乙酰氧基硅烷(DIABS)的水解而形成的至少一个四官能SiO4/2单元。
作为硬掩膜抗反射涂层材料基于二叔丁氧基二乙酰硅烷倍半硅氧烷树脂及其制备方法

[发明专利]纳米级光刻-CN201180050104.8无效
发明人： P-F·傅;L·J·郭;E·S·莫耶;卡洛斯·碧娜-赫尔南德 -专利权人：道康宁公司;密歇根大学董事会
申请日： 2011-11-07 - 公布日： 2013-07-24 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明描述了一种简单而实用的方法，可减小带有表面羟基基团的图案化结构的特征尺寸。可通过任何图案化技术获得所述图案化结构，所述图案化技术包括光刻、电子束微影技术、纳米压印光刻等。所述方法包括：（1）通过优选地为环状化合物的胺试剂的所述处理，将所述富含羟基或硅烷醇的表面初始转换为富含胺的表面；（2）在所述图案化结构的所述顶部涂覆环氧化物材料；（3）在通过表面引发的聚合施加热时形成额外层；（4）施加胺偶联剂来重新生成所述富含胺的表面；（5）在所述图案化结构的所述顶部涂覆环氧化物材料来形成所述下个层；（6）重复步骤4和5来形成多个层；该方法可实现传统光刻方法难以实现的所述各种图案和接触孔的特征尺寸的制造。
纳米光刻

[发明专利]用于双重图案化的方法和材料-CN201080022161.0有效
发明人： P-F·傅;E·S·梅尔;杰森·D·苏尔 -专利权人：道康宁公司
申请日： 2010-06-22 - 公布日： 2012-05-02 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：硅倍半氧烷树脂被施用于图案化光致抗蚀剂上并在图案表面固化，以在图案表面上产生固化的硅倍半氧烷树脂。然后除去未固化的硅倍半氧烷树脂层，在图案表面上留下固化的硅倍半氧烷树脂。除去水平表面上的固化的硅倍半氧烷树脂，以暴露下面的光致抗蚀剂。除去该光致抗蚀剂，留下固化的硅倍半氧烷的图案。任选地，可将新的图案转印到下层中。
用于双重图案方法材料

[发明专利]倍半硅氧烷树脂-CN200980107733.2有效
发明人： P-F·傅;E·S·梅尔 -专利权人：陶氏康宁公司
申请日： 2009-02-03 - 公布日： 2011-02-09 - 主分类号： C08G77/38 文献下载
摘要：本发明涉及可用于抗反射涂层的倍半硅氧烷树脂，其中所述倍半硅氧烷树脂由以下单元组成(Ph(CH2)rSiO(3-x)/2(OR′)x)m(HSiO(3-x)/2(OR′)x)n(MeSiO(3-x)/2(OR′)x)o(RSiO(3-x)/2(OR′)x)p(R1SiO(3-x)/2(OR′)x)q其中Ph是苯基，Me是甲基；R′是氢原子或具有1至4个碳原子的烃基；R选自羟基产生基；R1选自取代的苯基、酯基、聚醚基、巯基、和反应性或可固化的有机官能团；r为0，1，2，3或4；x为0，1或2；其中在树脂中m为0至0.95；n为0.05至0.95；o为0.05至0.95；p为0.05至0.5；q为0至0.5；并且m+n+o+p+q≈1。
倍半硅氧烷树脂