专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]光隔离阵列-CN202180075965.5在审
  • O·苏赫;S·勒格纳;K·泰伯;M·达尔吉;E·汉 - 肖特公司;肖特股份有限公司
  • 2021-11-16 - 2023-08-08 - G02B6/10
  • 本公开涉及光隔离阵列(也可称为“光管”或“光管阵列”),所述光隔离阵列能够使光从一个位置(例如透镜)到另一个位置(例如光电探测器二极管(每个光电探测器二极管称为“PD”)的阵列)的传输效率和隔离度提高。光隔离阵列可以提供输入光的光学隔离,并且能够消除串扰,从而通过提高进入信号的对比度来提高分辨率。当在户外设备中使用时,光隔离阵列还能够保护PD免受污染。
  • 隔离阵列
  • [发明专利]波导体和用于制造波导体的方法-CN202180044748.X在审
  • A·科格鲍尔;A·奥特纳;O·苏赫;D·苏赫;A·拉瓦利 - 肖特股份有限公司
  • 2021-06-22 - 2023-04-04 - G02B6/02
  • 本发明涉及一种波导体(1),其用于传输电磁波、尤其是用于沿着在近端端部与远端端部之间延伸的输送方向(5)并且在横向于输送方向延伸的横截面上从波导体的近端端部(2)向波导体的远端端部(4)传输图像信息,其中所述波导体(1)包括多个结构元件(10),结构元件(10)具有至少两种不同类型的结构元件,即具有第一折射率的第一类型(10a)和具有第二折射率的第二类型(10b),其中每个所述结构元件(10)分别沿着输送方向(5)并且部分地在波导体(1)的横截面上如此延伸,使得在波导体(1)的横截面中限定了多个横截面区域(20),所述横截面区域分别对应于各个结构元件(10)的横截面,其特征在于,所述结构元件(10)、尤其是其横截面区域(20)不均匀地、然而明确地通过预先确定的规则来确定地构造。
  • 波导用于制造方法
  • [实用新型]具有带标记元件的主体的容器-CN202022506032.2有效
  • O·苏赫;B·汉兹格尔;F·毛瑞尔;P·托马斯 - 肖特股份有限公司
  • 2020-11-03 - 2022-01-07 - A61J1/06
  • 本实用新型涉及一种具有带标记元件的主体的容器,该容器用于盛放至少一种药物组合物,该容器具有携带至少一个标记元件的主体其中所述主体的在所述位置处的至少一个应力参数的值小于或等于至少一个阈值;其中所述阈值得自和/或能够得自至少一次模拟的至少一个模拟结果,所述模拟基于具有或不具有所述标记元件的所述主体的至少一个表面和/或体积区域的应力参数的有限元方法;其中至少一个平均值通过或能够通过对所述主体的至少一部分所述表面和/或体积区域的所述应力参数的所述模拟来获得;其中所述阈值是所述平均值与所述平均值的绝对值的1000%以下之和。同时还涉及一种制造容器的方法,优选地是制造根据本实用新型的容器的方法。
  • 具有标记元件主体容器
  • [实用新型]具有标记元件的基底、包括其的容器-CN202022370889.6有效
  • O·苏赫;S·卡沃斯;C·布鲁宁 - 肖特股份有限公司
  • 2020-10-22 - 2021-12-10 - B23K26/362
  • 本实用新型涉及具有标记元件的基底、包括其的容器,标记元件在基底的第一表面区域及其第二表面区域上延伸;在第一表面区域上,对于第一表面区域的表面粗糙度,基底具有第一粗糙度值;在第二表面区域上,对于第二表面区域的表面粗糙度,基底具有第二粗糙度值;在沿至少部分地穿过第一表面区域和第二表面区域的至少一条切割线的基底的至少一个高度轮廓中,沿与第一表面区域相对应的高度轮廓的第一部分的基底的高度大于沿与第二表面区域相对应的高度轮廓的第二部分的基底的高度;在高度轮廓中,第二部分的最大高度点或平均高度与第一部分的最小高度点或平均高度之间的高度差的绝对值定义为深度值;深度值与第二粗糙度值的比例在2到35之间。
  • 具有标记元件基底包括容器
  • [发明专利]具有标记元件的基底、包括其的容器以及其生产方法-CN202011140438.1在审
  • O·苏赫;S·卡沃斯;C·布鲁宁 - 肖特股份有限公司
  • 2020-10-22 - 2021-05-11 - B23K26/362
  • 本发明涉及一种具有标记元件的基底、包括其的容器以及其生产方法。标记元件在基底的至少一个第一表面区域和至少一个第二表面区域上延伸;在第一表面区域上基底具有至少一个第一粗糙度值;在第二表面区域上基底具有至少一个第二粗糙度值;在沿至少部分地穿过第一表面区域和第二表面区域的至少一条切割线的基底的至少一个高度轮廓中,沿与第一表面区域相对应的高度轮廓的第一部分的基底的高度大于沿与第二表面区域相对应的高度轮廓的第二部分的基底的高度;在高度轮廓中,第二部分的最大高度点或至少一个平均高度与第一部分的最小高度点或至少一个平均高度之间的高度差的绝对值定义为深度值;深度值与第二粗糙度值的比例在2到35之间。
  • 具有标记元件基底包括容器及其生产方法

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