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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]反应性离子蚀刻-CN201410349234.7在审
发明人： T.霍克;M.韦纳布莱斯;I.斯特兰;R.埃利 -专利权人：大西洋惯性系统有限公司
申请日： 2014-07-22 - 公布日： 2015-02-04 - 主分类号： B81C1/00 文献下载
摘要：本发明涉及反应性离子蚀刻。公开了一种反应性离子蚀刻基板46以形成至少第一和第二蚀刻形态(42，44)的方法。所述第一蚀刻形态(42)具有比所述第二蚀刻形态(44)更大的纵横比(深度:宽度)。在第一蚀刻阶段，蚀刻所述基板(46)以便只将所述第一形态(42)蚀刻至预定深度。此后在第二蚀刻阶段，蚀刻所述基板(46)以便将所述第一和所述第二形态(42，44)均蚀刻至各自的深度。可贴掩模(40)以限定在形状上与所述形态(42，44)相对应的孔口。在所述第一蚀刻阶段期间用第二保护层(50)选择性掩蔽所述基板(46)中要产生所述第二蚀刻形态(44)的区域。然后在所述第二蚀刻阶段之前去除所述第二保护层(50)。
反应离子蚀刻

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