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[发明专利]具有晶片封端光学件的晶片检查系统-CN201980090032.6有效
发明人： A.帕奇迪斯;M.诺亚;F.兰格;F.沙珀;C.扎尔坦;M.哈特林;A.西多伦科;S.瓦加斯鲁伊兹 -专利权人：卡尔蔡司SMT有限责任公司
申请日： 2019-12-04 - 公布日： 2023-06-20 - 主分类号： G02B1/14 文献下载
摘要：本发明涉及一种晶片检查系统，其使用UV和VUV辐射(11)工作且包括内部腔(17)，所述内部腔可配备有气体且其中尤其定位有由MgF2制成的光学元件(122)。为了用水的吸附膜覆盖光学元件，进气口(18)设置有到系统的内部腔中的控制的水馈送，其允许设定内部空间中1ppm至多于10ppm的水分压。
具有晶片光学检查系统

[发明专利]用于反射VUV辐射的光学元件和光学布置-CN201980081093.6在审
发明人： A.帕齐迪斯;M.克伦兹;H.特劳布;M.哈特林 -专利权人：卡尔蔡司SMT有限责任公司
申请日： 2019-12-04 - 公布日： 2021-07-23 - 主分类号： G02B5/08 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于反射VUV波长范围内的辐射的光学元件(4)，包括：基板(41)；和反射涂层(42)，该反射涂层被施加到该基板(41)并且具有至少一个铝层(43)。将用于分解分子氢(Ha)的至少一个氢催化层(45)施加到铝层(43)上。本发明还涉及一种用于VUV波长范围的光学布置，包括：内部，在内部布置有至少一个光学元件；以及至少一个进气口，用于向内部供应气体。在本发明的一方面，如上所述地设计光学元件(4)，并且进气口用于向内部供应氢气。在本发明的另一方面，光学布置包括等离子体产生装置，该等离子体产生装置用于通过进气口将等离子体气体供应到内部，以在光学元件的光学表面的至少部分上产生大气压等离子体。
用于反射 vuv 辐射光学元件布置