专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]具有全周密封件的板复合物-CN201880082508.7在审
  • M.内安德;M.吉利森 - 法国圣戈班玻璃厂
  • 2018-11-23 - 2020-07-28 - B32B9/00
  • 本发明涉及板复合物(1),其具有两个主面(2.1a)和(2.1b)和一个环绕边缘面(2.2),其以所给出的顺序彼此叠置且粘附牢固彼此粘接地包含–透明的玻璃板(2.3),–透明的增粘剂层(2.4),–机械稳定层(2.5),和‑所述环绕边缘面(2.2)的全周密封件(3),其特征在于,所述全周密封件(3)具有不同材料的至少三个聚合物层(3.1,3.2,3.3),其中‑这三个聚合物层(3.1,3.2,3.3)中的第一聚合物层(3.1)是第一粘合剂膜,其在其边界层处粘附牢固地与所述板复合物的环绕边缘面(2.2)粘接,‑这三个聚合物层(3.1,3.2,3.3)中的第二聚合物层(3.2)是第二粘合剂膜,其提供第一粘合剂膜与第三聚合物层(3.3)的粘接,和‑这三个聚合物层(3.1,3.2,3.3)中的第三聚合物层(3.3)是屏障膜,其形成液体屏障。
  • 具有周密复合物
  • [发明专利]具有导电涂层的透明窗玻璃-CN201280066685.9有效
  • C.施米茨;K.菲舍尔;S.彦齐克;M.内安德;U.比勒特;D.卢克森布格 - 法国圣戈班玻璃厂
  • 2012-10-04 - 2014-10-01 - H05B3/86
  • 本发明涉及透明窗玻璃,其包含至少一个透明基板(1)和在透明基板(1)的至少一个表面上的至少一个导电涂层(2),其中导电涂层(2)包含至少两个互相叠加布置的功能层(3),且各功能层(3)至少包含,一个具有大于或等于2.1的折射率的光学高折射材料层(4),在所述光学高折射材料层(4)上方的平滑层(5),所述平滑层含有至少一种非晶氧化物,在所述平滑层(5)上方的第一匹配层(6),在第一匹配层(6)上方的导电层(7),和在所述导电层(7)上方的第二匹配层(8),所有导电层(7)的总厚度为40纳米至75纳米,且所述导电涂层(2)具有小于1欧姆/平方的薄层电阻。所述光学高折射材料层(4)含有至少一种混合的硅/金属氮化物。
  • 具有导电涂层透明窗玻璃
  • [实用新型]具有导电涂层的透明玻璃片-CN201220618905.1有效
  • C.施米茨;S.彦齐克;U.比莱特;K.菲舍尔;M.内安德;D.卢森堡 - 法国圣戈班玻璃厂
  • 2012-11-21 - 2013-10-16 - B32B17/06
  • 本实用新型涉及透明玻璃片,包括至少一个透明衬底(1)和在透明衬底(1)的至少一个表面上的至少一个导电涂层(2),其中:导电涂层(2)具有至少两个相叠地布置的功能层(3),并且每个功能层(3)至少包括折射率大于或等于2.1的光学高折射材料层(4),在光学高折射材料层(4)之上平滑层(5),该平滑层包含至少一种非晶氧化物,在平滑层(5)之上第一匹配层(6),在第一匹配层(6)之上导电层(7),和在导电层(7)之上第二匹配层(8),所有导电层(7)的总层厚是40nm至75nm,以及导电涂层(2)具有小于1欧姆/平方的面电阻,以及其中光学高折射材料层(4)包含至少一种硅-金属-混合氮化物。
  • 具有导电涂层透明玻璃片
  • [发明专利]透明玻璃基板和制造这种基板的方法-CN201080013375.1有效
  • M.夏沃尼;M.内安德;P.勒姆根斯 - 法国圣戈班玻璃厂
  • 2010-01-22 - 2012-02-22 - C03C23/00
  • 这种透明玻璃基板(1)具有至少一个被提供有由多个相对于所述面(3)的一般平面呈浮雕状的几何图案(5)形成的纹理化的面(3),调节这种纹理化以确保透过该基板的辐射透射大于透过相同的但没有纹理化的基板的辐射透射。该基板的面(3)还被提供有其折光指数在空气折光指数与玻璃折光指数之间的减反射层(7)。该减反射层(7)是在所述面(3)侧的该玻璃基板(1)的挖空表面部分,其包含基于二氧化硅的结构和特性尺寸为0.5纳米至50纳米的空隙空间。
  • 透明玻璃制造这种方法

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