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[发明专利]用于处理基底的设备和方法-CN201380036581.8在审
发明人： M·亚乌希艾宁;P·索伊尼宁 -专利权人： BENEQ有限公司
申请日： 2013-07-08 - 公布日： 2015-03-18 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明涉及用于通过使基底(20，30)的表面(32)承受第一前体和第二前体的相继表面反应来处理基底的表面(32)的设备和方法。所述设备包括：喷嘴头(6，7)，所述喷嘴头具有两个或者更多个前体喷嘴；和运动机构(8，10)，所述运动机构用于使喷嘴头(6，7)以非线性振荡运动的方式沿第一运动方向和第二运动方向在第一极限位置(B)和第二极限位置(C)之间运动经过中央位置(A)。所述运动机构包括：第一驱动装置(21，22)，其用于使喷嘴头(6，7)沿第一运动方向加速以及使喷嘴头沿第二运动方向减速；和第二驱动装置(23，24)，其用于使喷嘴头(6，7)沿第二运动方向加速以及使喷嘴头(6，7)沿第一运动方向减速。
用于处理基底设备方法

[发明专利]与原子层沉积反应器相连接的装置-CN200980120681.2有效
发明人： M·亚乌希艾宁;P·索伊尼宁 -专利权人： BENEQ有限公司
申请日： 2009-06-09 - 公布日： 2011-05-11 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明涉及一种与包括反应腔室的原子层沉积反应器相连接的装置，该装置包括用来向反应腔室(2)供给反应气体并且用来回吸反应气体的部件，以及用来供给阻隔气体的部件。用来供给与回吸反应气体和用来供给阻隔气体的部件包括具有延伸通过其中的多个相平行的通道(4至7)的中间元件(3)，以及被布置在通道(4至7)开口于其中的中间元件(3)的两端的第一回流元件和第二回流元件(8，9)，回流元件(8，9)被布置成结合中间元件(3)中的通道以便于提供通道间的流动。
原子沉积反应器相连装置