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[发明专利]带有抗生素涂层的多孔体及其制备方法与应用-CN200410038424.3无效
发明人： S·福格特;M·施纳贝尔劳赫;K－D·库恩 -专利权人：贺利氏古萨两合有限公司
申请日： 2004-04-26 - 公布日： 2005-01-26 - 主分类号： A61L27/50 文献下载
摘要：本发明涉及带有抗生素涂层的多孔体及其制造方法与应用。在非金属的多孔体和/或金属的体的多孔体系统中引入至少一个微溶于水或者含水环境的抗生素盐的涂层，所述的抗生素盐选自梭链孢酸－庆大霉素、梭链孢酸－西梭霉素、梭链孢酸－乙基西梭霉素、梭链孢酸－链霉素、梭链孢酸－妥布霉素、梭链孢酸－大观霉素、梭链孢酸－万古霉素、梭链孢酸－环丙沙星、梭链孢酸－莫西沙星、梭链孢酸－克林达霉素、梭链孢酸－林可霉素、梭链孢酸－四环素、梭链孢酸－金霉素、梭链孢酸－土霉素和梭链孢酸罗列四环素。抗生素涂层的多孔体用作植入物。
带有抗生素涂层多孔及其制备方法应用

[发明专利]药物制剂及其制备方法与应用-CN03148622.3有效
发明人： S·福格特;M·施纳贝尔劳赫;K－D·库恩 -专利权人：贺利氏古萨两合有限公司
申请日： 2003-06-23 - 公布日： 2004-03-10 - 主分类号： A61K45/00 文献下载
摘要：本发明涉及微溶于水的抗生素－抗炎药－盐和抗生素－抗炎药的药物制剂及其应用。对微溶于水的抗生素－抗炎药－盐进行了描述。阳离子部分的抗生素选自：庆大霉素、克林霉素、新霉素、链霉素、四环素、多西环素、氧四环素或吡甲四环素；阴离子部分的抗炎药选自：布洛芬、萘普生、消炎痛、地塞米松－21－磷酸盐、地塞米松－21－硫酸盐、曲安奈德－21－磷酸盐和曲安奈德－21－硫酸盐。药物制剂中的抗生素－抗炎药－盐用作抗生素－/抗生素长效制剂。对抗生素－抗炎药制剂进行了说明，固态的混合物由至少一种易溶于水的庆大霉素、克林霉素、新霉素、链霉素、四环素、多西环素、氧四环素或吡甲四环素等盐，和至少一种易溶于水的布洛芬、萘普生、消炎痛、地塞米松－21－磷酸盐、地塞米松－21－硫酸盐、曲安奈德－21－磷酸盐和曲安奈德－21－硫酸盐等盐，及至少一种无机和/或有机药物助剂形成，并以此制成片剂或模压制剂，用作永久或暂时的植入体。
药物制剂及其制备方法应用

[发明专利]缓慢释放生物活性物质的药物制剂及其制备方法与应用-CN03148624.X有效
发明人： S·福格特;M·施纳贝尔劳赫;K－D·库恩 -专利权人：贺利氏古萨两合有限公司
申请日： 2003-06-23 - 公布日： 2004-03-10 - 主分类号： A61K45/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种缓慢释放生物活性物质的药物制剂，该药物制剂由粉末状替考拉宁同至少一种选自庆大霉素、克林霉素、卡那霉素、丁氨卡那霉素、妥布霉素、万古霉素、莫西沙星和环丙沙星的粉末状水溶性盐以及一种无机辅料及/或有机辅料的混合物组成。该药物制剂以片剂、模压制剂、丝状制剂和颗粒剂用作永久植入剂或暂时植入剂。
缓慢释放生物活性物质药物制剂及其制备方法应用

[发明专利]孔状体的抗生素覆层及其制备方法和应用-CN03148623.1有效
发明人： S·福格特;M·施纳贝尔劳赫;K－D·库恩 -专利权人：贺利氏古萨两合有限公司
申请日： 2003-06-23 - 公布日： 2004-03-10 - 主分类号： A61L27/54 文献下载
摘要：本发明描述了孔状体的抗生素覆层及其应用。在非金属孔状体和金属孔状体的孔状系统中，一个覆层至少含有下列一种微溶于水或水环境的抗生素盐类：奈替米星－月桂酸盐、奈替米星－肉豆蔻酸盐、奈替米星－十二烷基硫酸盐、西索米星－月桂酸盐、西索米星－肉豆蔻酸盐、西索米星－十二烷基硫酸盐、庆大霉素－月桂酸盐、庆大霉素－肉豆蔻酸盐、克林霉素－月桂酸盐、丁胺卡那霉素－月桂酸盐、丁胺卡那霉素－肉豆蔻酸盐、丁胺卡那霉素－十二烷基硫酸盐、卡那霉素－月桂酸盐、卡那霉素－肉豆蔻酸盐、卡那霉素－十二烷基硫酸盐、妥布霉素－月桂酸盐、妥布霉素－肉豆蔻酸盐、妥布霉素－十二烷基硫酸盐、环丙沙星－肉豆蔻酸盐、万古霉素－十二烷基硫酸盐、万古霉素－月桂酸盐、万古霉素－肉豆蔻酸盐、万古霉素－替考拉宁和克林霉素－替考拉宁。含抗生素覆层的孔状体可以用作植入体。
孔状体抗生素覆层及其制备方法应用