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[发明专利]用于保护光刻系统的压力容器中的密封件的方法和装置-CN201880061412.2有效
发明人： D·贝塞姆斯;J·D·特德罗;C·M·欧德尼尔 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2018-09-06 - 公布日： 2023-09-01 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种具有密封件的容器，密封件受到一定体积的气体的保护而免受容器内液体材料的侵害。容器具有分隔件，分隔件将容器划分为两个容积空间，使得通过第一容积空间中的一定体积的气体来保护与第一容积空间气体连通的密封件免受第二容积空间中的液体材料的侵害。
用于保护光刻系统压力容器中的密封件方法装置

[发明专利]用于高压连接的装置-CN201980060372.4有效
发明人： J·D·特德罗;D·贝塞姆斯;陈蔚勋 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2019-08-12 - 公布日： 2023-07-28 - 主分类号： H05G2/00 文献下载
摘要：一种适于用在高温高压环境的导管，该导管具有由第一难熔金属制成的伸长部分和由第二难熔金属制成的装配部分，装配部分附接到伸长部分的轴向端部。附接可以通过焊接来实现，并且第二难熔金属的屈服强度可以大于第一难熔金属。
用于高压连接装置

[发明专利]量测辐射系统中的高压和真空水平传感器-CN202180038819.5在审
发明人： E·M·斯维尔德洛;D·贝塞姆斯;J·D·特德罗;S·莱;G·S·卡瓦利耶;T·W·德赖森;B·A·萨姆斯;D·U·H·特雷斯;E·Z·阿特尼奥;B·M·约翰逊 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2021-04-29 - 公布日： 2023-01-31 - 主分类号： H05G2/00 文献下载
摘要：提供了用于测量极紫外(EUV)辐射系统中的辐射燃料的水平的系统、装置和方法。在一个示例中，一种用于测量燃料水平的方法包括：以预定入射角，引导检查射束通过辐射燃料的顶部表面处的燃料箱观察端口。该方法还可以包括：在与观察端口相邻定位的传感器处，接收检查射束的由辐射燃料的顶部表面反射的一部分。此外，该方法可以包括：测量与辐射燃料的顶部表面相距的距离；并且基于所测量的距离来计算燃料箱中的辐射燃料的填充水平。
辐射系统中的高压真空水平传感器

[发明专利]用于极紫外光源的目标材料储槽-CN202080087548.8在审
发明人： J·D·特德罗 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2020-11-20 - 公布日： 2022-07-29 - 主分类号： H05G2/00 文献下载
摘要：一种用于极紫外(EUV)光源的装置包括主体。该主体包括：第一结构(246)，其包括第一壁；以及第二结构(248)，其包括第二壁，该第二壁永久地接合到该第一壁。该主体的内部(203)至少部分地由该第一壁和该第二壁限定。该第一壁包括第一金属化材料，并且该第二壁包括第二金属化材料，该第二金属化材料具有与该第一金属化材料不同的热导率。该主体的该内部被配置为流体连接到该EUV光源的目标供应系统。
用于紫外光源目标材料

[发明专利]EUV光源中的目标材料控制-CN202080021251.1在审
发明人： A·L·G·戈文达拉朱;D·贝塞姆斯;桑迪普·莱;P·A·威廉斯;S·金卡尔;J·M·卢肯斯;J·D·特德罗 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2020-03-09 - 公布日： 2021-11-26 - 主分类号： H05G2/00 文献下载
摘要：提供了一种设备，该设备包括第一储存器系统、第二储存器系统、注入系统和流体控制系统，第一储存器系统包括被配置为在喷嘴供应系统的操作期间与喷嘴供应系统流动连通的第一储液器，第二储存器系统包括被配置为在喷嘴供应系统的操作期间的时间中的至少部分时间与第一储存器系统流动连通的第二储液器，注入系统被配置为从固体物质产生流体目标材料，流体控制系统被流动连接到注入系统、第一储存器系统、第二储存器系统和喷嘴供应系统。流体控制系统被配置为在喷嘴供应系统的操作期间：将至少一个储液器和喷嘴供应系统与注入系统隔离，并且保持在至少一个储液器与喷嘴供应系统之间的流体流动路径。
euv 光源中的目标材料控制

[发明专利]目标材料供应设备和方法-CN201980070415.7在审
发明人： J·D·特德罗 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2019-10-24 - 公布日： 2021-06-04 - 主分类号： H05G2/00 文献下载
摘要：一种用于供应目标材料的设备，包括储蓄器系统、注入系统以及从注入系统延伸至储蓄器系统的输送系统。储蓄器系统包括与喷嘴供应系统流体连通的储蓄器。注入系统包括限定初级腔的注入室；以及可移除载体，该可移除载体被配置为被容纳在初级腔中。可移除载体限定了次级腔，次级腔被配置为容纳包括目标材料的固体物质。输送系统被配置为提供在注入系统和储蓄器系统之间的流体流动路径。
目标材料供应设备方法

[发明专利]反旋转流体连接-CN201980060891.0在审
发明人： J·D·特德罗 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2019-08-12 - 公布日： 2021-04-23 - 主分类号： F16L37/10 文献下载
摘要：公开了一种用于将一个诸如导管的流体处理设备(52)连接到诸如另一导管的另一流体处理设备(70)的连接器，其中附接到连接器中的压盖(50)的配件(54)的面被设置互补的配合构造(58，60，82)，以便它们可以啮合而缺乏圆形对称性，使得当进行连接时，如果这些面承受转矩，则这些面不会相对于彼此旋转。
旋转流体连接