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[发明专利]用于从受污染的气流移除污染物的系统和方法-CN201280045984.4无效
发明人： H·C·哈姆雷;H·范桑滕 -专利权人：国际壳牌研究有限公司
申请日： 2012-09-19 - 公布日： 2014-05-21 - 主分类号： B01D53/14 文献下载
摘要：本发明提供了一种用于使用液体吸收剂从受污染的气流（10）中移除污染物的系统（1），该系统至少包括第一和第二分离单元（2A，2B），其中，第一分离单元（2A）包括：第一分离器（21A），所述第一分离器具有用于待分离的受污染的气流的入口（22A）、用于所分离的气体的第一出口（23A）和用于所分离的液体吸收剂的第二出口（24A）；上升导管（20A），用于将受污染的气流输送到第一分离器（21A）的入口（22A）；导管（30A），用于移除第一分离器（21A）的第一出口（23A）处的所分离的气体；和导管（40A），用于移除第一分离器（21A）的第二出口（23A）处的所分离的液体吸收剂；其中，第二分隔单元（2B）包括对应于第一分离单元（2A）的特征。
用于污染气流污染物系统方法

[发明专利]用于紫外线和/或深紫外线波长的光学扫描设备的物镜系统-CN200680015853.6无效
发明人： J·H·M·内詹;H·范桑滕;B·H·W·亨德里克斯 -专利权人：皇家飞利浦电子股份有限公司
申请日： 2006-04-28 - 公布日： 2008-04-30 - 主分类号： G11B7/135 文献下载
摘要：提供了用于紫外线和/或深紫外线波长的光学扫描设备的物镜系统(1”)。物镜系统(1”)包含至少一个具有非球面的玻璃部件(3”)。该至少一个玻璃部件(3”)由具有低软化温度并对紫外线和/或深紫外线波长具有低吸收系数的玻璃材料构成。
用于紫外线深紫外线波长光学扫描设备物镜系统

[发明专利]用于把辐射导向层的装置、具有这种装置的设备以及使用这种设备的方法-CN200680013040.3无效
发明人： J·H·M·内詹;H·范桑滕 -专利权人：皇家飞利浦电子股份有限公司
申请日： 2006-04-13 - 公布日： 2008-04-16 - 主分类号： G11B7/26 文献下载
摘要：本发明描述了一种用于把辐射导向层(1)的装置。该装置包括：第一光学元件(L1)，其用于把源自第一辐射源(S1)的第一辐射束(B1)聚焦到所述层上；第二光学元件(L2)，其用于把源自第二辐射源(S2)的第二辐射束(B2)聚焦到所述层上。来自所述第一和所述第二辐射源的辐射波长彼此不同。第一和第二光学元件可以关于所述辐射源联合移动，其中所述两条辐射束的焦点与第一光学元件和第二光学元件关于辐射源的各种移动至少基本上相符。第二光学元件(L2)具有孔径(A2)，其允许没有光学干扰地通过第一辐射束(B1)。这样，实现了L1和L2的紧凑而且重量较轻的配置，并且提高了辐射束质量。此外还公开了一种包括所述装置的设备以及一种使用所述设备的方法。
用于辐射导向装置具有这种设备以及使用方法

[发明专利]像差校正设备-CN200580045088.8无效
发明人： H·范桑滕;M·A·H·范德阿 -专利权人：皇家飞利浦电子股份有限公司
申请日： 2005-12-19 - 公布日： 2007-12-19 - 主分类号： G02B3/14 文献下载
摘要：在光盘系统中，由于顶层厚度的变化所导致的球面像差或由于包括多层的光盘的原因，读出受到阻碍。本发明中的像差校正设备(1)布置成校正这种光学像差。因此，像差校正设备(1)包括容纳第一流体和第二流体的流体室，第一流体和第二流体具有不同的折射率。第一流体(5)和第二流体(6)在弯月面(7)上接触，弯月面(7)作为折射表面，其中，弯月面(7)的形状可受到由磁化线圈(20)产生的磁场的影响。
校正设备