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[发明专利]排气净化装置-CN200880107158.1有效
发明人：小和田稔;通阪久贵;H·施雷尔;H·格朗特纳;T·奥贝瑙斯 -专利权人：日野自动车株式会社;AVL利斯特有限责任公司
申请日： 2008-03-17 - 公布日： 2010-11-03 - 主分类号： F01N3/24 文献下载
摘要：本发明的课题为，即使相对于选择还原型催化剂(6)等的后处理装置使排气(3)反转而将其导入，也能够相对于后处理装置令排气(3)的流动分布均一化而导入排气。涉及一种在排气系统中具有使排气(3)通过且将其净化的选择还原型催化剂(6)(后处理装置)、且采用相对于该选择还原型催化剂(6)使排气(3)反转且将其导入的设计的排气净化装置，具有包覆选择还原型催化剂(6)的入侧端面且从与该选择还原型催化剂(6)的轴心方向大致垂直的方向经由排气导入口(13)导入排气(3)的导入部(14)，在上述导入部(14)上形成相对于选择还原型催化剂(6)的入侧端面向离开的方向翘曲且随着从排气导入口(13)向排气(3)的导入方向远离而与选择还原型催化剂(6)的入侧端面接近的凹部(15)(第一凹部)。
排气净化装置

[发明专利]连续制造可发塑料粒料的方法-CN200610059672.5有效
发明人： C·帕萨普兰;H·施雷尔 -专利权人：苏舍化学技术有限公司
申请日： 2006-03-17 - 公布日： 2006-09-20 - 主分类号： B29B9/00 文献下载
摘要：利用本发明方法，可以在用流体发泡剂浸渍塑料熔体并将经过浸渍的熔体造粒的情况下，连续制造可发塑料粒料。方法用一种设备实施，所述设备包括下列组成部分：至少一个用于熔体的产生压力的加料装置，所述装置尤其是一种按体积泵送的加料装置，一种用于发泡剂的计量装置，用于浸渍熔体的接触和均化装置，至少一个用于经过浸渍的熔体的冷却器，一个水下造粒机，及一个设备控制装置。造粒用一种液体进行，所述液体在造粒机中用作造粒用的冷却和传送介质。通过造粒期间所用的液体施加高压，由于所述高压而至少部分地抑制发泡剂在还未固化的粒料中的发泡作用。在造粒机入口处实施调整为造粒而设定的参数，亦即经过浸渍的熔体温度和压力。
连续制造塑料方法