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[发明专利]制造喷嘴的方法-CN202111351926.1有效
发明人： G.德布拉班德;M.内波尼什 -专利权人：富士胶卷迪马蒂克斯股份有限公司
申请日： 2018-02-22 - 公布日： 2023-10-17 - 主分类号： B41J2/16 文献下载
摘要：提供了用于在基板中制造漏斗形喷嘴的技术。该方法可以包括：在基板的顶层中形成具有第一宽度的第一开口；在基板的顶表面上形成图案化的层，图案化的层包括第二开口，第二开口具有大于第一宽度的第二宽度；使所述图案化的层回流，以形成终止于基板顶表面的弯曲侧表面；通过基板顶层中的第一开口蚀刻基板的第二层以形成直壁凹部，直壁凹部具有第一宽度和基本垂直于基板的顶表面的侧表面。
制造喷嘴方法

[发明专利]减少漏斗喷嘴的尺寸变化-CN201880020759.2有效
发明人： G.德布拉班德;M.内波尼什 -专利权人：富士胶卷迪马蒂克斯股份有限公司
申请日： 2018-02-22 - 公布日： 2021-11-02 - 主分类号： B41J2/16 文献下载
摘要：提供了用于在基板中制造漏斗形喷嘴的技术。该方法可以包括：在基板的顶层中形成具有第一宽度的第一开口；在基板的顶表面上形成图案化的光致抗蚀剂层，图案化的光致抗蚀剂层包括第二开口，第二开口具有大于第一宽度的第二宽度；使所述图案化的光致抗蚀剂层回流，以形成终止于基板顶表面的弯曲侧表面；通过基板顶层中的第一开口蚀刻基板的第二层以形成直壁凹部，直壁凹部具有第一宽度和基本垂直于半导体基板的顶表面的侧表面。
减少漏斗喷嘴尺寸变化