专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]变化的过渡区歧管-CN201380015513.3有效
  • P·F·克洛恩;G·内格里;O·凯瑟琳 - 克洛恩公司
  • 2013-03-18 - 2017-04-12 - B29C47/00
  • 本发明提供一种挤压模,所述挤压模包括歧管过渡区,所述歧管过渡区包括变化的夹角。变化的夹角提供空前的设计自由以实现多样的流体动力学目标,例如,减少的横过歧管宽度的停留时间、减小的过渡停滞、改进的通过歧管的质量流的流线型化、以及减小的横过流道宽度的差动的蛤壳偏转。歧管可以有益地与变化的夹角相关地从一个横截面形状转变到另一个横截面形状,包括从大致延伸的横截面形状变化到大致泪滴状的横截面。歧管可以包括第一过渡区部分,其包括变化的夹角;和第二过渡区部分,其包括恒定的夹角,并且所述第二过渡区部分尤其有益于接收内部边框。
  • 变化过渡歧管
  • [发明专利]半导体晶片,抛光装置和方法-CN00820029.7无效
  • E·博维奥;P·科尔贝利尼;M·莫尔甘蒂;G·内格里;P·D·阿尔布雷克特 - MEMC电子材料有限公司
  • 2000-11-21 - 2003-12-10 - B24B37/04
  • 一种用于抛光半导体晶片的晶片抛光装置。该抛光机包括一个基体(23)、一个回转台(27)、一个抛光垫(29)和一个用于驱动抛光头(63)旋转的驱动机构(45)。该抛光头适于保持至少一个晶片(35),用于将该晶片的前表面与该抛光垫的工作表面接合。一个球面轴承组件(75)将该抛光头(63)安装在驱动机构上,用于当抛光头保持晶片与抛光垫接合时,将该抛光头绕一个位于不高于工作表面的万向节点(P)枢转。该枢转允许晶片前表面的平面连续地将自身找正,以均衡在晶片前表面上的抛光压力,而抛光头的旋转由该驱动机构驱动。这将前表面和工作表面保持为一种连续平行的关系,用于一个半导体晶片尤其是在晶片侧边缘附近的更均匀的抛光。还公开了一种晶片盒和抛光方法。
  • 半导体晶片抛光装置方法

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