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[发明专利]工件及在其上加工特征的方法、复制母版及其形成的透镜-CN201510195444.X有效
发明人：大卫·凯勒;布雷特·布罗卡托 -专利权人： FLIR系统贸易比利时有限公司
申请日： 2009-09-18 - 公布日： 2019-02-12 - 主分类号： B23Q15/013 文献下载
摘要：本发明涉及一种工件、沿弯曲刀具路径在工件上机械加工特征的方法、复制母版以及应用该复制母版形成的透镜。所述工件包括特征的阵列，该特征是在改变刀具台面相对于工件的旋转角度以在刀具台面及其与工件之间沿弯曲刀具路径的相对平移运动之间维持恒定角度的同时被刻划的。所述母版包括表面上的多个特征，其中的至少一个是在改变刀具台面相对于复制母版的旋转角度以在刀具台面及其与复制母版之间沿弯曲刀具路径的相对平移运动之间维持恒定角度的同时被刻划的。所述方法包括：控制刀具台面与工件之间沿弯曲刀具路径的相对平移运动；控制刀具台面相对于工件的对应旋转角度；以及将刀具台面转位到多个定位坐标处以将阵列中的多个特征加工到工件上。
工件加工特征方法复制母版及其形成透镜

[发明专利]光学成像设备、制造光学成像设备的方法和对场景成像的方法-CN201610829210.0在审
发明人：摩西·克里曼;威廉·哈德森·韦尔奇;贾尔斯·汉普斯通;奥舍·阿夫斯安;费利克斯·哈扎诺维奇;叶卡捷琳娜·阿克塞尔罗德 -专利权人： FLIR系统贸易比利时有限公司
申请日： 2010-02-03 - 公布日： 2017-08-11 - 主分类号： H01L27/146 文献下载
摘要：公开了光学成像设备、制造光学成像设备的方法和对场景成像的方法。光学成像设备包括第一光学组件和传感器组件，其中传感器组件的第二隔离物包括孔，使得第二隔离物不干扰经过至少一个光学表面的电磁辐射到达至少一个感测元件，并且第一光学组件的第一隔离物联接到传感器组件的第二隔离物。制造多个单独的光学成像设备的方法包括提供包括多个光学组件的晶片；提供传感器晶片；将光学组件的第一隔离物直接联接到传感器组件的第二隔离物，以提供多个结合的光学成像设备；以及对结合的光学成像设备进行单分。对场景成像的方法包括提供上述光学成像设备；以及通过感测元件接收来自场景的电磁辐射。
光学成像设备制造方法场景