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[发明专利]用于监测光谱辐射计的方法和设备-CN201980060560.7在审
发明人： M·赫;R·黑林;F·舍韦;M·曼格斯特尔;T·科普 -专利权人：仪器系统光学测量技术有限责任公司
申请日： 2019-08-09 - 公布日： 2021-05-25 - 主分类号： G01J1/08 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于监测光谱辐射计(4)的方法，尤其用于测量发光测试对象(1)的方法，其中，借助光学系统检测测试对象(1)的光谱数据，其中，由所述光谱数据求取测试对象(1)的辐射度参量、光度参量和/或色度参量。本发明的任务是说明一种用于监测光谱辐射计(4)的方法，其中，首要的不是对光谱辐射计(4)持续地进行再校准，而是监测何时需要校准。本发明通过如下方式解决该问题：通过测量集成到该光学系统中的、具有所定义的光谱的参考光源(5)，根据该参考光谱来探测光谱辐射计(4)在波长刻度方面、在光吞吐量方面和/或在光谱灵敏度方面的改变。可选地，至少一个集成到该光学系统中的探测器可以附加地监测该参考光源(5)的稳定性。此外，本发明涉及一种用于执行该方法的设备。
用于监测光谱辐射计方法设备

[发明专利]具有可控制的光谱的光源-CN201680043528.4在审
发明人： F·弗兰克;M·埃斯特曼;C·卡佩尔;F·舍韦;R·黑林;A·温克勒;C·M·R·格里夫斯 -专利权人：仪器系统光学测量技术有限责任公司
申请日： 2016-07-21 - 公布日： 2018-04-17 - 主分类号： G01J3/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于发光的设备，其包括多个光源(1)；控制装置(2)，其驱动光源(1)；叠加光学单元，其将光源(1)发射的光叠加在出口(3)中。本发明的目的在于提供一种与现有技术相比有所改进的设备。为此，本发明提出所述叠加光学单元包括第一凹面镜(4)，光源(1)布置在所述第一凹面镜的焦平面中；光栅(5)，第一凹面镜(4)将由光源(1)发射的光(6)反射到所述光栅上，以及第二凹面镜(7)，其将在光栅(5)处衍射的光(8)反射到位于第二凹面镜(7)的焦点处的出口(3)上。
具有控制光谱光源