专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]用于X射线成像的自动曝光控制-CN202210053714.3在审
  • D·莫尔夫;R·菲利贝蒂 - 瓦里安医疗系统国际股份公司
  • 2016-07-08 - 2022-05-13 - A61B6/00
  • 在X射线成像方法中,获取信号图像被分成获取两个或更多个子图像或帧。第一子图像可以用低剂量曝光随后的读出周期获取。可以选择用于获取第一子图像的曝光剂量,使得其低于用于特定解剖结构的默认剂量。第一子图像可以用来计算或估计用于获取第二个或后续图像的子图像的曝光参数。该估计可以使得由成像器接收的总剂量在获取第一子图像和第二子图像中达到预期目标值以提供质量良好的图像。可以组合第一子图像和第二子图像以形成最终图像。支持自动曝光控制(AEC)的检测器阵列包括提供AEC信号的AEC像素。AEC像素是独立或单独可寻址的和/或可读取的。
  • 用于射线成像自动曝光控制
  • [发明专利]用于X射线成像的自动曝光控制-CN201610539534.0有效
  • D·莫尔夫;R·菲利贝蒂 - 瓦里安医疗系统国际股份公司
  • 2016-07-08 - 2022-01-25 - H05G1/28
  • 在X射线成像方法中,获取信号图像被分成获取两个或更多个子图像或帧。第一子图像可以用低剂量曝光随后的读出周期获取。可以选择用于获取第一子图像的曝光剂量,使得其低于用于特定解剖结构的默认剂量。第一子图像可以用来计算或估计用于获取第二个或后续图像的子图像的曝光参数。该估计可以使得由成像器接收的总剂量在获取第一子图像和第二子图像中达到预期目标值以提供质量良好的图像。可以组合第一子图像和第二子图像以形成最终图像。支持自动曝光控制(AEC)的检测器阵列包括提供AEC信号的AEC像素。AEC像素是独立或单独可寻址的和/或可读取的。
  • 用于射线成像自动曝光控制
  • [发明专利]成像设备-CN201980028153.8在审
  • D·莫尔夫;J·斯塔尔-拉克 - 瓦里安医疗系统公司
  • 2019-04-26 - 2020-12-01 - A61B6/00
  • 成像设备包括:第一闪烁体层;检测器元件阵列,其中检测器元件阵列包括第一检测器元件;第二闪烁体层,被配置为接收在辐射已经传递通过第一闪烁体层和检测器元件阵列之后的辐射,其中检测器元件阵列位于第一闪烁体层和第二闪烁体层之间;第一电极,位于比第二闪烁体更靠近第一闪烁体的位置;以及第二电极,处于第二闪烁体和第一检测器元件之间;第一检测器元件被配置为响应于来自第一闪烁体层的光而生成第一电信号,以及响应于来自第二闪烁体层的光而生成第二电信号;第二电极被配置为允许来自第二闪烁体层的光到达第一检测器元件。
  • 成像设备

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