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[发明专利]计算系统、方法及存储介质-CN202010166927.8有效
发明人： D·拉基乌萨;J·L·威农;M·布克斯鲍姆;B·L·米勒;T·瓦克林 -专利权人：起元技术有限责任公司
申请日： 2015-04-17 - 公布日： 2023-10-03 - 主分类号： G06F11/30 文献下载
摘要：本申请涉及计算系统、方法及存储介质。方法包括：监视(i)一个或多个计算装置各自的状态、(ii)一个或多个应用程序各自的状态以及(iii)一个或多个作业各自的状态，其中各应用程序是由计算装置中的至少一个所安装的，以及各作业与应用程序中的至少一个应用程序相关联；以及响应于用户输入进行动作，以影响所述计算装置中的至少一个计算装置、所述应用程序中的至少一个应用程序、以及所述数据处理作业中的至少一个数据处理作业中的一项或多项的状态。
计算系统方法存储介质

[其他]用于在管材中切削出螺纹的模头-CN202190000573.8有效
发明人： J·J·范埃森;B·L·米勒;D·赫拉瓦克 -专利权人：米沃奇电动工具公司
申请日： 2021-06-25 - 公布日： 2023-08-15 - 主分类号： B23G1/24 文献下载
摘要：一种用于在管材中切削出螺纹的模头。模头包括驱动部分、模具固位部分、帽和多个窗口。驱动部分具有多个凹部，这些凹部被配置成接收来自管材螺纹加工机的扭矩。模具固位部分包括多个模具柱。每个模具柱被配置成接收模具，该模具具有用于在管材中切削出螺纹的齿。帽联接到模具固位部分。每个窗口限定在每对相邻的模具柱与帽之间。通过该多个窗口中的对应窗口能够看到每个模具与帽相邻的端部，使得通过该对应窗口能够看到模具的所有齿。
用于管材切削螺纹

[发明专利]含有过碳酸盐的动物饲料产品和产品饲喂方法-CN201980024196.9在审
发明人： B·L·米勒;T·厄利瓦恩;R·C·穆瑟;S·斯蒂尔曼 -专利权人：普瑞纳动物营养有限公司
申请日： 2019-05-01 - 公布日： 2020-11-13 - 主分类号： A23K20/22 文献下载
摘要：饲喂牲畜的方法涉及给牲畜饲喂含有过碳酸盐的代乳品。所述代乳品的pH约为5.8，所述过碳酸盐的浓度可有效减少所述代乳品中细菌的滋生。所述代乳品也可以包括至少一种添加的有机酸。
含有碳酸盐动物饲料产品饲喂方法

[发明专利]用于紧密连接屏障调节的设计肽-CN201480052086.0有效
发明人： B·L·米勒;A·德贝内德托;L·A·贝克;E·A·安德森 -专利权人：罗切斯特大学
申请日： 2014-08-18 - 公布日： 2020-06-02 - 主分类号： A61K39/395 文献下载
摘要：根据本文例示的方面，提供一种短暂地破坏紧密连接内的claudin‑1的试剂。所述试剂包括含有至少40％的极性、不带电氨基酸残基和自组装β折叠二级结构的肽。根据本文例示的方面，还提供一种经上皮药物和疫苗制剂，以及分离肽、药物组合物和经皮递送装置。本文还描述破坏上皮屏障的方法和施用本文所述的经上皮制剂的方法。
用于紧密连接屏障调节设计

[发明专利]处理环境的一体化监视和控制-CN201580020338.6有效
发明人： D·拉基乌萨;J·L·威农;M·布克斯鲍姆;B·L·米勒;T·瓦克林 -专利权人：起元技术有限责任公司
申请日： 2015-04-17 - 公布日： 2020-03-20 - 主分类号： G06F11/30 文献下载
摘要：提供了一种用于管理处理环境中的组件的方法。所述方法包括以下步骤：监视(i)一个或多个计算装置各自的状态、(ii)一个或多个应用程序各自的状态以及(iii)一个或多个作业各自的状态，其中各应用程序是由计算装置中的至少一个所安装的，以及各作业与应用程序中的至少一个应用程序相关联；判断步骤，用于判断计算装置中的一个计算装置的状态、应用程序中的一个应用程序的状态以及作业中的一个作业的状态的其中一个状态是否表示与相应的计算装置、应用程序或作业相关联的性能问题，该判断是基于该计算装置、应用程序或作业的性能与至少一个预定义标准的比较来进行的；以及启用步骤，用于启用要进行的与该性能问题相关联的动作。
处理环境一体化监视控制

[发明专利]饲喂动物葡甘露糖蛋白(GLUCOMANNOPROTEIN)产品的方法-CN201680075409.7在审
发明人： B·L·米勒 -专利权人：普瑞纳动物营养有限公司
申请日： 2016-12-20 - 公布日： 2018-08-31 - 主分类号： A23K10/30 文献下载
摘要：方法包括给反刍动物喂代乳品，其中代乳品包含一定量的可溶甘露寡糖。所述的反刍动物可以是牛犊，并且可以在约0至约6周龄之间。由于摄取了代乳品，所述的反刍动物的体重增长速率可能会增加。
反刍动物代乳品甘露糖蛋白甘露寡糖饲喂动物体重增长摄取可溶

[发明专利]用于流感免疫应答测量的阵列检测器系统-CN200980125645.5有效
发明人： B·L·米勒;T·R·莫斯曼;D·托普汉;C·R·梅斯 -专利权人：罗切斯特大学
申请日： 2009-05-01 - 公布日： 2017-03-22 - 主分类号： G01N33/53 文献下载
摘要：一种用于检测针对流感病毒的免疫应答的传感器芯片，所述传感器芯片包括具有表面的基板和与所述基板的表面上的离散位置结合的多个血细胞凝集素多肽，各血细胞凝集素多肽具有血细胞凝集素表位。本文还描述含有所述传感器芯片的检测装置和检测流感免疫应答的方法。
用于流感免疫应答测量阵列检测器系统

[发明专利]用于减少探针阵列中的表面形态异常的非亲核添加剂的用途-CN200980146244.8无效
发明人： C·R·梅斯;A·R·亚达夫;B·L·米勒 -专利权人：罗切斯特大学
申请日： 2009-09-30 - 公布日： 2011-10-12 - 主分类号： A61B8/14 文献下载
摘要：本发明涉及将反应物(或探针前体)连接至官能化表面以形成阵列传感器的制剂和方法。本方法包括以下步骤：提供具有反应性官能团的表面；和把包含不同反应物(探针前体)和非亲核添加剂的两种或更多种本发明的组合物引入到该表面上的多个分离的位置，其中这种引入是在可有效地使反应物通过反应性官能团与表面共价结合的条件下进行的。这样得到探针官能化阵列，该阵列基本上克服了阵列表面上的表面形态异常的问题。还包括所得阵列在各种检测系统中的用途。
用于减少探针阵列中的表面形态异常非亲核添加剂用途

[发明专利]用来化学机械抛光薄膜和介电材料的组合物和方法-CN200610059635.4无效
发明人： B·L·米勒 -专利权人：罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司
申请日： 2006-03-07 - 公布日： 2006-09-27 - 主分类号： C09K3/14 文献下载
摘要：本发明提供一种可用来抛光半导体晶片上的导电材料、半导体材料和介电材料的水性组合物，该组合物包含0.01－5重量％的两性离子化合物、0.01－5重量％阳离子化合物、0.5－10重量％磨料、0－5重量％无机酸及其盐和余量水，所述磨料为只处于酸性pH下处理的热解法二氧化硅。该组合物和方法提供了相对于介电材料选择性去除导电层和半导体层的出乎意料的选择性。
用来化学机械抛光薄膜材料组合方法

[发明专利]化学机械抛光二氧化硅和氮化硅的多步方法-CN200510138148.2无效
发明人： S·J·莱恩;A·S·拉文;B·L·米勒;C·于 -专利权人：罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司
申请日： 2005-12-27 - 公布日： 2006-08-23 - 主分类号： H01L21/3105 文献下载
摘要：本发明提供了一种对半导体晶片上的氧化硅和氮化硅进行抛光的方法，包括以下步骤，用第一含水组合物对氧化硅平化，该含水组合物包含0.01－5重量％的羧酸聚合物，0.02－6重量％的磨料，0.01－10重量％的聚乙烯基吡咯烷酮，0－5重量％的阳离子性化合物，0－1重量％的邻苯二甲酸和盐，0－5重量％的两性离子化合物，余量为水，其中该聚乙烯基吡咯烷酮的平均分子量为100－1000000克/摩尔。该方法进一步包括，检测平化终点，并用第二含水组合物清除氧化硅，该含水组合物包含0.001－1重量％的季铵化合物，0.001－1重量％的邻苯二甲酸及其盐，0.01－5重量％的羧酸聚合物，0.01－5重量％的磨料，余量为水。
化学机械抛光二氧化硅氮化方法

[发明专利]化学机械抛光氧化硅和氮化硅的组合物与方法-CN200510052407.X无效
发明人： S·J·莱恩;B·L·米勒;C·余 -专利权人： CMP罗姆和哈斯电子材料控股公司
申请日： 2005-02-25 - 公布日： 2005-08-31 - 主分类号： C08J5/14 文献下载
摘要：本发明提供可用于抛光在半导体晶片上的氧化硅和氮化硅的含水组合物，它包括以重量百分数计，0.01－5的两性离子化合物，0.01－5的羧酸聚合物，0.02－6的磨蚀剂，0－5的阳离子化合物和余量的水，其中该两性离子化合物具有下述结构：其中n为整数，Y包括氢或烷基，Z包括羧基、硫酸盐或氧，M包括氮、磷或硫原子，和X₁、X₂和X₃独立地包括选自氢、烷基和芳基中的取代基。
化学机械抛光氧化氮化组合方法

[发明专利]用于化学机械抛光氧化硅和氮化硅的组合物和方法-CN200410096391.8无效
发明人： B·L·米勒;徐浩峰 -专利权人： CMP罗姆和哈斯电子材料控股公司
申请日： 2004-11-25 - 公布日： 2005-07-13 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明提供了适用于抛光半导体晶片上的氧化硅和氮化硅的水性组合物，该组合物包含0.001至1wt％的季铵化合物，0.001至1wt％的邻苯二甲酸和它的盐，0.01至5wt％的羧酸聚合物，0.01至5wt％的研磨剂和余量的水。
用于化学机械抛光氧化氮化组合方法

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