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[发明专利]用于清洁或清洗产品的包含一级和二级表面活性剂的组合物-CN201880076649.8在审
发明人： I·C·周;A·克里普;B·费斯提尔 -专利权人：巴斯夫欧洲公司
申请日： 2018-11-26 - 公布日： 2020-07-07 - 主分类号： C11D1/835 文献下载
摘要：本发明描述一种用于清洁或清洗产品、优选在半导体行业中所用的产品的组合物，其包含含有一个或多个氟烷基的离子化合物作为一级表面活性剂，和至少一种含有一个或多个聚烷氧基和/或聚亚烷氧基的非离子化合物作为二级表面活性剂，以及该组合物的相应用途。本发明进一步描述一种生产经清洁或清洗的产品、优选在半导体行业中所用的产品的方法，该产品包含基板和其上所支撑的图案化材料层，该图案化材料层具有线宽为等于或低于50nm的线‑间隙结构，该方法包括用本发明的组合物清洁或清洗该产品的步骤。
用于清洁清洗产品包含一级二级表面活性剂组合

[发明专利]处理硅基材表面的含水碱性组合物和方法-CN201280038487.1有效
发明人： B·费斯提尔 -专利权人：巴斯夫欧洲公司
申请日： 2012-07-12 - 公布日： 2014-04-09 - 主分类号： C09G1/04 文献下载
摘要：一种用于处理硅基材表面的含水碱性组合物，所述组合物含有：(A)季铵氢氧化物；(B)选自以下的组分：通式(I)-(V)的水溶性酸以及它们的水溶性盐：(R1-SO3-)nXn+(I)，R-PO32-(Xn+)3-n(II)，(RO-SO3-)nXn+(III)，RO-PO32-(Xn+)3-n(IV)，和[(RO)2PO2-]nXn+(V)；其中n=1或2；X为氢、铵或碱金属或碱土金属；变量R1为烯属不饱和脂族或脂环族结构部分且R为R1或烷基芳基结构部分；和(C)缓冲体系，其中至少一种不为水的组分呈挥发性；所述组合物在处理硅基材中的用途，一种处理硅基材表面的方法和制造在暴露于电磁辐射时发电的装置的方法。
处理基材表面含水碱性组合方法

[发明专利]混合物在从金属表面除去聚氨酯中的用途-CN201180058180.3无效
发明人： S·蒙特罗潘切拉;B·费斯提尔;J·布鲁飞;M·罗斯 -专利权人：巴斯夫欧洲公司
申请日： 2011-12-01 - 公布日： 2013-08-07 - 主分类号： C11D7/34 文献下载
摘要：包含(A)至少一种闪点为至少80℃的溶剂，(B)至少一种在室温下为液体的缓蚀剂，(C)至少一种选自有机胺、氢氧化铵和碱金属氢氧化物的碱，(D)水和(E)任选一种或多种聚氨酯的混合物在从金属表面除去聚氨酯中的用途。
混合物金属表面除去聚氨酯中的用途

[发明专利]含水碱性蚀刻和清洁组合物以及处理硅基材表面的方法-CN201180037424.X有效
发明人： B·费斯提尔;S·布劳恩;A·费森贝克尔 -专利权人：巴斯夫欧洲公司
申请日： 2011-06-01 - 公布日： 2013-04-10 - 主分类号： C09K13/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于处理硅基材表面的含水碱性蚀刻和清洁组合物，所述组合物含有：(A)至少一种季铵氢氧化物；和(B)至少一种选自通式（I）至（V）的水溶性酸以及它们的水溶性盐：(R1-SO3-)nXn+(I),R-PO32-(Xn+)3-n(II),(RO-SO3-)nXn+(III),RO-PO32-(Xn+)3-n(IV)，和[(RO)2PO2-]nXn+(V)；其中n=1或2；X是选自氢或碱金属或碱土金属；R1是烯属不饱和的脂族或脂环族结构部分；R是R1或烷基芳基结构部分；涉及所述组合物用于处理硅基材的用途，处理硅基材表面的方法，以及制造能在暴露于电磁辐射时发电的装置的方法。
含水碱性蚀刻清洁组合以及处理基材表面方法