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[发明专利]用于形成精细图案的水溶性树脂组合物及使用该组合物形成精细图案的方法-CN200880014317.3有效
发明人：洪圣恩;高野祐辅;康文兵 -专利权人： AZ电子材料（日本）株式会社
申请日： 2008-05-01 - 公布日： 2010-03-17 - 主分类号： G03F7/40 文献下载
摘要：一种方法，其包括将含水溶性乙烯基树脂、在分子中具有至少两个氨基的化合物、溶剂以及(如果需要的话)添加剂例如表面活性剂的水溶性树脂组合物施覆到在基板(1)上形成的抗蚀图(2)上，以形成水溶性树脂膜(3)，通过混合使与抗蚀图邻接的该水溶性树脂膜的一部分改性，以在抗蚀图表面上形成无法通过水洗除去的水不溶性层(4)，然后通过水洗除去水溶性树脂膜的未改性部分，其能有效地按比例缩减抗蚀图的导线间距大小和开孔大小至较曝光波长的分辨限度更精细的水平。优选使用含氮乙烯基单体例如烯丙胺、丙烯酰胺、乙烯基吡咯烷酮或乙烯基咪唑的均聚物、两种或更多种含氮乙烯基单体的共聚物或至少一种含氮乙烯基单体与至少一种无氮乙烯基单体的共聚物作为水溶性乙烯基树脂。
用于形成精细图案水溶性树脂组合使用方法

[发明专利]图案的形成方法及其所使用的感光性树脂组合物-CN200780039421.3有效
发明人：河户俊二;远山宜亮;谷口克人 -专利权人： AZ电子材料（日本）株式会社
申请日： 2007-12-21 - 公布日： 2009-10-07 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明涉及一种图案的形成方法及其所使用的感光性树脂组合物。本发明提供可改善涂敷性和形成的图案形状的感光性树脂组合物及采用其的图案形成方法。该感光性树脂组合物含有碱可溶性树脂、感光剂和混合溶剂，上述混和溶剂含有丙二醇单甲醚乙酸酯和在20℃下蒸气压为150Pa以下的共溶剂。该组合物适合用于通过狭缝涂敷法进行涂敷的情况。
图案形成方法及其使用感光性树脂组合

[发明专利]用于上表面抗反射膜的组合物以及使用它的图案形成方法-CN200780041307.4无效
发明人：能谷刚;小林政一;秋山靖;仓本胜利 -专利权人： AZ电子材料（日本）株式会社
申请日： 2007-11-15 - 公布日： 2009-09-16 - 主分类号： G03F7/11 文献下载
摘要：本发明提供了一种用于形成顶部抗反射涂层的组合物，并还提供了一种使用该组合物的图案形成方法。该组合物防止曝光步骤中由于光线在抗蚀层中的反射导致的图案损失，并且它还避免了由蚀刻步骤产生的残留物导致的困扰。该组合物包含溶剂和平均粒径为1～100nm的微粒。本发明的图案形成方法中，用该组合物形成顶部抗反射涂层。根据本发明的组合物和方法可被用于形成由抗蚀层和顶部抗反射涂层组成的复合膜。
用于表面反射组合以及使用图案形成方法

[发明专利]精细图案形成方法及用于此法的抗蚀基板处理溶液-CN200780038343.5有效
发明人：能谷刚;岛崎龙太;小林政一 -专利权人： AZ电子材料（日本）株式会社
申请日： 2007-10-12 - 公布日： 2009-09-02 - 主分类号： G03F7/40 文献下载
摘要：本发明提供了一种用于不明显增加生产成本或削弱生产效率而使图案小型化的方法。本发明还提供了一种精细的抗蚀图和用于形成该精细图案的抗蚀基板处理溶液。该图案形成方法包括处理步骤。在该处理步骤中，用含有含氨基，优选含叔聚胺的水溶性聚合物的抗蚀基板处理溶液处理显影后的抗蚀图，以便减小由显影形成的抗蚀图的有效尺寸。本发明还涉及通过该方法形成的抗蚀图，此外还涉及用于此方法的处理溶液。
精细图案形成方法用于抗蚀基板处理溶液

[发明专利]显影后抗蚀基板处理溶液及使用它的抗蚀基板处理方法-CN200780037797.0无效
发明人：能谷刚;岛崎龙太;小林政一 -专利权人： AZ电子材料（日本）株式会社
申请日： 2007-10-12 - 公布日： 2009-09-02 - 主分类号： G03F7/32 文献下载
摘要：本发明提供了一种用于改善显影后图案表面上瑕疵的抗蚀基板处理溶液，还提供了一种使用该处理溶液的抗蚀基板处理方法。该抗蚀基板处理溶液包含溶剂和含氮水溶性聚合物或含氧水溶性聚合物如聚胺、多羟基化合物或聚醚。该处理方法中，用该抗蚀基板处理溶液处理显影后的抗蚀图，然后用纯水洗涤。
显影后抗蚀基板处理溶液使用抗蚀基板方法

[发明专利]硅质薄膜形成用组合物及应用所述组合物的硅质薄膜的形成方法-CN200780032021.X无效
发明人：林昌伸 -专利权人： AZ电子材料（日本）株式会社
申请日： 2007-09-05 - 公布日： 2009-08-19 - 主分类号： H01L21/316 文献下载
摘要：本发明提供一种硅质薄膜形成用组合物，该组合物具有小的厚度收缩率，以至于可以得到高均匀性的硅质薄膜。本发明还提供一种制造槽隔离结构的方法。根据所述方法，可以均匀地填充甚至具有非常小的宽度的槽。所述组合物含有溶剂和由一种卤代硅烷化合物或者其两种或更多种的组合通过共氨解作用得到的聚硅氮烷化合物。所述方法包含如下步骤：用上述组合物涂布硅基片的表面，并在氧气气氛或含有水蒸气的氧化气氛下，在低于1000℃的温度下对涂布的基片进行热处理，以使该组合物转化成薄膜形式的二氧化硅。
薄膜形成组合应用方法

[发明专利]微细化的抗蚀图案的形成方法-CN200780022977.1无效
发明人：能谷刚;小林政一;岛崎龙太 -专利权人： AZ电子材料（日本）株式会社
申请日： 2007-06-22 - 公布日： 2009-07-01 - 主分类号： G03F7/40 文献下载
摘要：本发明涉及一种微细化的抗蚀图案的形成方法，具体公开了一种使显影后的抗蚀图案微细化而不大大增加生产成本或降低生产效率的图案形成方法，该方法包括如下步骤：让显影后的抗蚀图案与优选包含非离子表面活性剂的处理液接触60秒或更长时间，从而降低通过显影形成的抗蚀图案的有效尺寸。本发明还提供了通过该方法而微细化的抗蚀图案。
微细图案形成方法

[发明专利]制备硅质膜的方法以及带有由该方法制备的硅质膜的衬底-CN200780001888.9有效
发明人：石川智规;中熊映乃 -专利权人： AZ电子材料（日本）株式会社
申请日： 2007-01-17 - 公布日： 2009-02-11 - 主分类号： H01L21/316 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供一种制备硅质膜的方法以及带有由该方法制备的硅质膜的衬底。该硅质膜的品质均匀，无关位置并无关在凹槽的内部还是外部，并且在凹槽内部无孔隙和裂纹。通过在具有凹凸的硅衬底表面上形成含氢量高的绝缘膜，然后在该衬底上涂覆含聚硅氮烷化合物的组合物，然后加热涂覆的衬底以将聚硅氮烷化合物转化成二氧化硅膜，可以制备带有硅质膜的衬底。
制备质膜方法以及带有衬底

[发明专利]光敏性树脂组合物-CN200680017328.8有效
发明人：栗原清二;绪方智成;高桥修一;张勇 -专利权人： AZ电子材料（日本）株式会社
申请日： 2006-07-25 - 公布日： 2008-05-14 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明涉及一种光敏性树脂组合物，其具有抑制膜表面白化、抑制膜剩余率下降两方面功能，该光敏性树脂组合物包含碱可溶性树脂、具有醌二叠氮基的感光剂以及固化剂，碱可溶性树脂为丙烯酸类树脂，固化剂是含环氧基的固化剂，并且该光敏性树脂组合物进一步含有熔点为20℃以下、多个羧基中的一部分被高级醇酯化的多羧酸酯化合物，以及提供具有采用该光敏性树脂组合物形成的平坦化膜或者层间绝缘膜的平板显示面板或者半导体装置。作为上述多羧酸酯化合物，优选由脂肪族不饱和二羧酸形成的化合物。
光敏树脂组合

[发明专利]光致抗蚀剂组合物、其涂布方法及抗蚀剂图形的形成方法-CN200710153550.7有效
发明人：池本准;岛仓纯一;高野圣史;松尾二郎 -专利权人： AZ电子材料（日本）株式会社;大日本油墨化学工业株式会社
申请日： 2007-09-21 - 公布日： 2008-04-02 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供涂布时不形成条斑等的LCD－TFT基板制造用排出喷嘴式涂布法光致抗蚀剂组合物、光致抗蚀剂组合物的涂布方法及抗蚀剂图形的形成方法。排出喷嘴式涂布法光致抗蚀剂组合物含有：(A)碱可溶性树脂、(B)感光剂、以及(C)由含以通式(1)：CH₂＝CR¹COOCH₂CH₂C₈F₁₇(式中，R¹是氢原子或者甲基)表示的氟代烷基单体(m1)和含以通式(2)：CH₂＝CR²COO(C₃H₆O)nH(式中，R²是氢原子或者甲基，n作为分布的平均值是4～7)表示的聚氧丙烯单体(m2)构成的单体混合物(m)进行聚合而得到的共聚物(P)，上述单体混合物(m)中的上述单体(m1)和(m2)的混合比(m1)/(m2)是25/75～40/60(重量比)，而且上述共聚物(P)的重均分子量是3000～10000的氟系表面活性剂。
光致抗蚀剂组合方法抗蚀剂图形形成

[发明专利]光致抗蚀剂用溶剂以及采用它的狭缝涂敷用光致抗蚀剂组合物-CN200710146009.3有效
发明人：拉尔夫·格罗滕穆勒;沃尔夫冈·察恩;高桥修一 -专利权人： AZ电子材料（日本）株式会社
申请日： 2007-09-03 - 公布日： 2008-03-19 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明涉及一种光致抗蚀剂用溶剂以及采用它的狭缝涂敷用光致抗蚀剂组合物。提供不降低固体成分含量、能够进行狭缝涂敷的高速涂敷的光致抗蚀剂用溶剂，以及能够通过狭缝涂敷进行高速涂敷的光致抗蚀剂组合物。该溶剂是可以通过狭缝涂敷法涂敷于基板的光致抗蚀剂组合物中使用的光致抗蚀剂用溶剂，其特征在于，基于该溶剂的重量，10重量％以上为20℃下粘度为1.1cp以下的低粘度溶剂。该光致抗蚀剂组合物含有上述溶剂、碱可溶性树脂以及光敏性物质。
光致抗蚀剂用溶剂以及采用狭缝敷用光致抗蚀剂组合

[发明专利]聚硅氮烷处理溶剂及用该溶剂处理聚硅氮烷的方法-CN200680003534.3有效
发明人：松尾英树;一山昌章;石川智规;青木宏幸;布鲁斯·凯克;约瑟夫·奥伯兰德 -专利权人： AZ电子材料（日本）株式会社
申请日： 2006-02-01 - 公布日： 2008-01-23 - 主分类号： C09D9/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种聚硅氮烷处理溶剂，其具有优异的溶解力和稳定性，对于作为底层的基底和聚硅氮烷的性能没有影响，具有良好的切割边缘形状，另外对于人体是高度安全的。该处理溶剂包含从由四氢化萘，对薄荷烷，对异丙基苯甲烷，α－蒎烯，1，8－桉树脑及其混合物构成的组中选出的溶剂，还涉及使用该溶剂的聚硅氮烷处理方法。该溶剂还可包含从由脂肪族烃、脂环烃及其混合物构成的组中选出的溶剂。
聚硅氮烷处理溶剂方法

[发明专利]涂层组合物的涂敷方法、半导体元件及平板显示器-CN200710101756.5有效
发明人：拉尔夫·格罗滕米勒;沃尔夫冈·汉斯·察恩;冈特·胡尔茨奇;高桥修一 -专利权人： AZ电子材料（日本）株式会社
申请日： 2007-05-08 - 公布日： 2007-11-14 - 主分类号： B05C5/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于高速制造均一的涂敷膜的涂敷方法以及提供利用该方法的半导体元件。一种将涂层组合物通过窄缝涂层法涂敷在基板上的涂敷方法，其特征在于使在30～100℃范围内维持一定温度的涂层组合物接触到基板上而进行涂敷。一种根据上述方法制造的半导体元件，特别是平板显示器。
涂层组合方法半导体元件平板显示器

[发明专利]光致抗蚀剂涂布液供给装置以及使用该光致抗蚀剂涂布液供给装置的光致抗蚀剂涂布液供给方法和光致抗蚀剂涂布装置-CN200580040035.7有效
发明人：谷口克人;小岛一弘;能谷敦子 -专利权人： AZ电子材料（日本）株式会社
申请日： 2005-11-25 - 公布日： 2007-10-24 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明提供一种光致抗蚀剂涂布液供给装置和一种涂布液供给方法，以将含有很少颗粒的光致抗蚀剂涂布液供给至光致抗蚀剂涂布装置。还提供了一种光致抗蚀剂涂布装置，其通过使用该光致抗蚀剂涂布液供给装置，可以实现具有很少缺陷和优异成本特性的涂布。该光致抗蚀剂涂布液供给装置具有用于光致抗蚀剂涂布液的缓冲容器；循环过滤装置，用于从缓冲容器中取出部分光致抗蚀剂涂布液，将其过滤并返回至缓冲容器；和用于将涂布液从缓冲容器或循环装置供给至涂布装置的管。还提供使用所述光致抗蚀剂涂布液供给装置的光致抗蚀剂涂布液供给方法，以及将涂布液供给装置与狭缝涂布装置组合使用的光致抗蚀剂涂布装置。
光致抗蚀剂涂布液供给装置以及使用方法光致抗蚀剂涂布

[发明专利]适用于无旋、缝模涂敷法的光敏性树脂组合物-CN200710001223.X有效
发明人：岛仓纯一;高桥修一;张勇 -专利权人： AZ电子材料（日本）株式会社
申请日： 2007-01-04 - 公布日： 2007-08-08 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供一种适用于无旋、缝模涂敷法的涂敷膜厚均匀性高的光敏性树脂组合物。光敏性树脂组合物，其特征在于包括碱可溶性酚醛树脂、感光剂、和脂肪酸与低级醇的酯，以及采用该组合物制造抗蚀剂基板的方法，以及由此制得的抗蚀剂基板。
适用于缝模涂敷法光敏树脂组合

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