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- [发明专利]具有双层抗蚀剂的电子束光刻-CN202111298815.9在审
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A·梅;I·米洛萨维耶维奇;A·辛普森
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波音公司
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2021-11-04
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2022-05-06
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G03F7/09
- 本申请涉及具有双层抗蚀剂的电子束光刻。用于加工材料堆叠物(100)的方法、设备和系统。在材料堆叠物(100)上沉积氢硅倍半氧烷层(200)。扩散阻挡层(300)沉积在氢硅倍半氧烷层(200)上以形成双层物(302)。扩散阻挡层(300)包括具有一定厚度的材料,该材料增加在氢硅倍半氧烷层(200)老化而改变针对具有期望宽度的所选部件几何形状的曝光氢硅倍半氧烷层(200)所需的电子束(400)的剂量之前的时间量。电子束(400)被定向通过双层物(302)的表面(402),以形成双层物(302)的曝光部分(404)。电子束(400)施加剂量,该剂量是基于用于材料堆叠物(100)的部件的图案密度选择的,以具有针对所选择部件几何形状的期望水平的氢硅倍半氧烷层(200)的曝光。显影了氢硅倍半氧烷层(200)。曝光部分(404)保留在材料堆叠物(100)上。
- 具有双层抗蚀剂电子束光刻
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