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[发明专利]细长的气体分配系统-CN200580034637.1有效
发明人： A·布隆迪尔;W·德博斯谢尔;P·戈德里斯;I·范德皮特 -专利权人：贝卡尔特先进涂层公司
申请日： 2005-10-04 - 公布日： 2007-09-19 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：描述一种用于等离子沉积或等离子清洁设备中的细长的气体分配系统。该系统以堆叠细长板条的形式设备。所述板条中铣有凹槽，这些凹槽在板条彼此上下堆叠后便形成通道。这种设置是特别灵活的设计，可供精细分叉的气体分配树状结构之用。还可以在气体分配系统内部或其上装有气流控制装置，比如阀或叶片。通过根据等离子体、沉积层或清洁的基片反馈参数的输入对气流控制装置的驱动，实现气体分配系统的快速反应。此外，某些板条可用于结合冷却回路，以便冷却细长的气体分配系统。
细长气体分配系统

[发明专利]电极与真空中的物质的接触-CN200480011378.6无效
发明人： A·布隆迪尔;W·德博斯谢尔 -专利权人：贝克特先进涂层公司
申请日： 2004-02-26 - 公布日： 2006-05-31 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：提供了一种改善溅射沉积过程的方法。该方法包括下面步骤：a)提供真空；b)在所提供的真空中提供电极(10、34、34′、44、44′)；c)在所述真空中提供基体，所述基体与所述电极(10、34、34′、44、44′)没有接触，从而在该真空中提供装置(22、22′、24、24′、26、26′、28、28′、30、36、36′、48、48′)。该装置相对于电极进行相对运动，并且在接触区域中与电极相接触。该装置从电极中除去固态材料，或者把固态材料施加到电极上。借助简单机构来实现该方法。不需要复杂的电子或者复杂的控制运算法则。在真空中实现该方法，即不需要破坏真空，因此机器停机时间减少了。
电极真空中的物质接触