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- [实用新型]一种水机漏水自动止水机构-CN202120504706.7有效
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程潇然;赵伟国
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兰州理工大学
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2021-03-10
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2021-11-02
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F16K3/08
- 本实用新型公开一种水机漏水自动止水机构,包括水机和设置在水机内的过滤芯,过滤芯连通有进水管,水机内设置有储水盒,储水盒位于过滤芯下方,储水盒内固定安装有漏水部;过滤芯上固定安装有入水管,入水管的进水端固定安装有锁定件,进水管通过锁定件与过滤芯连通,漏水部与锁定件相接触;锁定件包括流通部和锁定部,流通部位于锁定部内,锁定部与进水管固定连接,锁定部与漏水部传动连接。本实用新型能够实现当水机发生漏水时,可以自动锁紧进水管,避免水机的漏水持续发生,同时将水机内的残留水排出,避免水机内的残留水接触电源,从而提高水机的安全性。
- 一种漏水自动止水机构
- [发明专利]半导体结构及其制作方法-CN202110522919.7在审
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朱业明;赵伟国
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广州粤芯半导体技术有限公司
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2021-05-13
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2021-08-13
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H01L21/768
- 本发明提供一种半导体结构及其制作方法。所述制作方法包括:提供具有顶部导电层的半导体基底;在半导体基底上形成层间介质层,层间介质层中夹设有至少一层缓冲层,缓冲层将层间介质层分割为两个以上的子介质层;以缓冲层为子介质层的刻蚀阻挡层,分次刻蚀层间介质层的各个子介质层以及露出的缓冲层,在半导体基底上形成通孔,所述通孔露出顶部导电层。该方法中分次刻蚀层间介质层形成多个通孔,可以减小每次刻蚀的刻蚀深度,且以缓冲层为子介质层的刻蚀阻挡层,便于控制每次刻蚀的刻蚀量,有助于提高刻蚀均匀性,提高获得的通孔的深度均匀性。所述半导体结构可以利用上述的制作方法制作得到。
- 半导体结构及其制作方法
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