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[发明专利]含脲基有机聚硅氧烷、含脲基有机聚硅氧烷的制备方法及化妆品-CN201880066989.2有效
发明人： 龟井正直;广神宗直;安藤裕司 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2018-08-10 - 公布日： 2023-06-06 - 主分类号： C07F7/10 文献下载
摘要：本发明为一种下述式(1)表示的含脲基有机聚硅氧烷，由此提供一种能够得到在维持轻盈的触感、良好的延展的同时，具有优异的持妆性的化妆品的含脲基有机聚硅氧烷及其制备方法、以及包含该含脲基有机聚硅氧烷的化妆品。[化学式1]式中，R1为‑R5‑NHCONH2(R5为二价烃基)，R2为氢原子、羟基、烷氧基、烷基、氟烷基、芳基、及芳烷基中的任一种，R3为R1或R2，R4为下述式(2)表示的有机聚硅氧烷链段(Q为氧原子或二价烃基)，式(1)表示的含脲基有机聚硅氧烷在分子内具有一个以上的R1，c为0时，a+d+f+h+i为1以上。[化学式2]
含脲基有机聚硅氧烷制备方法化妆品

[发明专利]化妆品-CN202080097497.7在审
发明人：安部拓矢;龟井正直 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2020-12-10 - 公布日： 2022-10-11 - 主分类号： A61K8/89 文献下载
摘要：本发明涉及一种化妆品，其掺合了结构单元由通式(A)(R13SiO1/2)a、(B)(R22SiO2/2)b、(C)(R3SiO3/2)c及(D)(SiO4/2)d(式中R1、R2及R3独立地为选自碳原子数为1～8的烷基、碳原子数为6～12的芳基及碳原子数为1～8的氟取代烷基的基团，a具有0.2～0.5的值，b具有0.0～0.1的值，c具有0.2～0.6的值，d具有0.2～0.5的值，a+b+c+d的值为1.0，a/(c+d)的值为0.3～0.9，c/d的值为0.4～3.0)构成、重均分子量大于20000且为100000以下的有机硅树脂。目的在于由此提供涂抹时无粘腻感、妆容持久性优异、可防止附着于衣服等(二次附着)的化妆品。
化妆品

[发明专利]粉体的疏水化度的解析方法、高疏水化度处理着色颜料以及含有其的化妆料-CN201880034371.8有效
发明人：犬饲铁也;齐藤光具;大川智生;龟井正直;森谷浩幸;早川知宏;菊池宏子;稻场隆一 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2018-05-23 - 公布日： 2022-09-16 - 主分类号： G01N13/00 文献下载
摘要：本发明评价粉体的疏水性。本发明中，将粉体投入由亲油性溶剂和亲水性溶剂组成的混合溶剂中，在投入了粉体的混合溶剂中添加亲油性溶剂，同时每隔规定时间间隔就测定混合溶剂的电压率R，对于任意的电压率R定义与粉体浓度相关的参数x，定义对于与该x对应的亲油性溶剂比率的连续函数HP(x)。而且，将对于所用的x的HP(x)作为亲油性溶剂比率分布的代表值，设为疏水性的指标。
疏水解析方法处理着色颜料以及含有化妆

[发明专利]粉体的疏水化度的解析方法、高疏水化度处理着色颜料以及含有其的化妆料-CN202210628327.8在审
发明人：犬饲铁也;齐藤光具;大川智生;龟井正直;森谷浩幸;早川知宏;菊池宏子;稻场隆一 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2018-05-23 - 公布日： 2022-09-06 - 主分类号： G01N15/04 文献下载
摘要：本发明评价粉体的疏水性。本发明中，将粉体投入由亲油性溶剂和亲水性溶剂组成的混合溶剂中，在投入了粉体的混合溶剂中添加亲油性溶剂，同时每隔规定时间间隔就测定混合溶剂的电压率R，对于任意的电压率R定义与粉体浓度相关的参数x，定义对于与该x对应的亲油性溶剂比率的连续函数HP(x)。而且，将对于所用的x的HP(x)作为亲油性溶剂比率分布的代表值，设为疏水性的指标。
疏水解析方法处理着色颜料以及含有化妆

[发明专利]有机基团改性的有机硅树脂及其制造方法以及化妆料-CN201880077626.9有效
发明人：安部拓矢;小西将幸;早川知宏;龟井正直 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2018-11-29 - 公布日： 2022-08-23 - 主分类号： C08G77/46 文献下载
摘要：由下述平均组成式(1)表示的有机基团改性的有机硅树脂。[a、b、c、d、e、f为满足0≤a≤400、0＜b≤200、0≤c≤400、0≤d≤320、0≤e≤320、0＜f≤1000、0.5≤(a+b+c)/f≤1.5的数。]本发明的有机基团改性的有机硅树脂由于具有比三亚甲基甲硅烷氧基硅酸柔软的被膜形成能力，因此配混了该硅树脂的化妆料的使用感良好，化妆持久性良好，铺展性和整饰性良好，容易卸妆，得到耐擦过性优异的化妆料。(R13SiO1/2)a(R23SiO1/2)b(R33SiO1/2)c(R12SiO2/2)d(R1SiO3/2)e(SiO4/2)f(1)。
有机基团改性硅树脂及其制造方法以及化妆

[发明专利]有机基团改性有机硅树脂及其制造方法以及化妆料-CN201810217535.2有效
发明人：安部拓矢;小西将幸;早川知宏;龟井正直 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2018-03-16 - 公布日： 2022-03-15 - 主分类号： C08G77/46 文献下载
摘要：本发明提供在化妆料中配合的情况下可制作使用感良好、为高内水相、历时稳定性良好的乳化物的有机基团改性有机硅树脂及其制造方法以及含有有机基团改性有机硅树脂的化妆料。有机基团改性有机硅树脂，其由下述平均组成式(1)表示，25℃下为固体状或液状。(R13SiO1/2)a(R23SiO1/2)b(R33SiO1/2)c(R12SiO2/2)d(R1SiO3/2)e(SiO4/2)f(1)(a、b、c、d、e、f为满足0≤a≤400、0＜b≤200、0≤c≤400、0≤d≤320、0≤e≤320、0＜f≤1,000、0.5≤(a+b+c)/f≤1.5的数。)。
有机基团改性硅树脂及其制造方法以及化妆

[发明专利]有机聚硅氧烷、化妆品及有机聚硅氧烷的制备方法-CN201780021139.6有效
发明人： 龟井正直 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2017-02-20 - 公布日： 2021-10-22 - 主分类号： C08G77/48 文献下载
摘要：本发明为下述平均式(1)所示的有机聚硅氧烷。由此，提供能够抑制经时地因来自Si‑H基的氢气导致的容器的膨胀或来自脂肪族不饱和基团的异味的产生，能够提供乳化稳定性优异且化妆持续性良好的化妆品的有机聚硅氧烷及含有该有机聚硅氧烷的化妆品，[化学式1]式中，R1为选自碳原子数1～30的烷基等的基团，R2为碳原子数2～15的二价有机基团，R3为氢原子及碳原子数1～30的烷基中的任意一种，R4各自独立地为选自碳原子数2～30的烷基及下述平均式(2)所示的有机聚硅氧烷的基团，a为1～500，b为1～10，c为1～10；其中，c为1时，R4各自独立地为碳原子数14～30的烷基或下述平均式(2)所示的有机聚硅氧烷，[化学式2]式中，R1与式(1)中的R1相同，R5为碳原子数2～15的二价有机基团，d为1～500。
有机聚硅氧烷化妆品制备方法

[发明专利]含氢硅烷基有机硅树脂的制造方法-CN201680059705.8有效
发明人：安部拓矢;伊能博臣;龟井正直;高松纪仁 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2016-09-14 - 公布日： 2021-05-28 - 主分类号： C08G77/12 文献下载
摘要：本发明是一种含氢硅烷基有机硅树脂的制造方法，其通过以下方式来制造式(6)的固体状含氢硅烷基有机硅树脂：在酸催化剂存在下，使式(1)～(3)的化合物水解后，添加式(4)、(5)的含氢硅烷基有机硅化合物，并进行水解，然后利用比酸催化剂的当量更多的碱催化剂进行中和，并进行缩合；R13SiOSiR13(1)，R13SiX1(2)，SiX24(3)，HnR23‑nSiOSiR23‑nHn(4)，HnR23‑nSiX3(5)，(R13SiO1/2)a(HnR23‑nSiO1/2)b(SiO2)c(R4SiO3/2)d(6)。据此，提供一种含氢硅烷基有机硅树脂的制造方法，所述含氢硅烷基有机硅树脂在无溶剂的状态下的性状呈固体状，所述含氢硅烷基有机硅树脂的制造方法通过减少氢硅烷基的失活量，能够定量地且大量地导入氢硅烷基。
硅烷有机硅树脂制造方法

[发明专利]化妆品-CN201880073285.8在审
发明人：森谷浩幸;龟井正直 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2018-10-02 - 公布日： 2020-06-26 - 主分类号： A61K8/58 文献下载
摘要：本发明为一种化妆品，其特征在于，其含有(A)下述通式(1)所示的有机(聚)硅氧烷。由此提供一种具有干爽的触感、延展性，且稳定性高、持妆性良好的化妆品。[化学式1]，式中，R1表示选自C1～C20的烷基、C6～C20的芳基的、除式(2)以外的基团，R2及R3为R1或式(2)，n为0～3的整数，R2及R3中的至少一者为式(2)，[化学式2]，式中，X表示C2～C20的亚烷基，Y表示氢原子、C1～C20的烷基、C6～C20的芳基、C7～C40的芳烷基、C1～C20的烷氧基、C6～C20的芳氧基、C7～C40的芳烷氧基及卤原子中的任一种。
化妆品

[发明专利]化妆品-CN201880051988.0在审
发明人： 龟井正直;金井那矢;安部拓矢;稻场隆一;木村恒雄 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2018-06-22 - 公布日： 2020-04-17 - 主分类号： A61K8/891 文献下载
摘要：本发明为一种化妆品，其特征在于，其含有一种或两种以上下述通式(1)表示的、沸点在205～255℃的范围内且粘度小于5mm2/s(25℃)的环状硅酮。由此，能够提供一种触感轻盈、延展良好、防水性优异、化妆膜均匀，能够实现所需的挥发性及使用感，即使在掺合有用于化妆品的硅酮、烃油及酯等各种油剂、有机紫外线吸收剂或25℃下为固体状的油性成分的情况下，也具有优异的经时稳定性、持妆性的化妆品。[化学式1]式中，R1为碳原子数为2或3的一价烃基，R2、R3、R4、R5及R6分别独立地为碳原子数为1～3的一价烃基。a为0＜a＜4的正数，b及c分别独立地为0～3的数，且(a+b+c)≤4。
化妆品

[发明专利]化妆品-CN201480069333.8有效
发明人： 龟井正直 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2014-11-28 - 公布日： 2019-05-10 - 主分类号： A61K8/893 文献下载
摘要：本发明的课题在于提供一种化妆品，所述化妆品附着性优异，可形成均匀的化妆膜，不会随时间而发生妆容凌乱，无发粘感，使用感良好，而且，粉末的分散性稳定，随时间的变化少。为了解决该课题，提供一种利用下述通式(1)所示化合物的至少一种进行了表面处理的粉末。下述式(1)中，R²表示碳原子数6～12的一价芳族烃基，R⁴表示芳族烃基以外的取代或未取代的碳原子数1～30的一价烃基，R¹和R⁰表示选自上述R²和R⁴的基团，R³表示下述(2)所示的基团；式(2)中，R⁵表示碳原子数2～8的二价烃基，R⁶表示碳原子数1～6的烷基。a为0～3的整数，b为0～200的整数，c为1～150的整数，d为0～50的整数，其中，当a为0时，d为1～50，e为0～2的整数，c/(b+c+d)≥0.25。···(1)···(2)。
化妆品

[发明专利]化妆材料-CN201310116160.8有效
发明人： 龟井正直 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2013-04-03 - 公布日： 2017-07-28 - 主分类号： A61K8/898 文献下载
摘要：本发明的课题在于提供一种化妆持续性优异的化妆材料，可以改善涂匀性的恶劣和粘性等使用感，并改善对非极性油即硅酮油或轻质石蜡等、以及紫外线吸收剂、酯油、及天然动植物油等极性油的溶解性，关于包含极性油的化妆材料，也没有粘性，保存稳定性优异，且可以防止化妆附着于衣服等上（2次附着）。为了解决此课题，本发明提供一种化妆材料，其特征在于，调配有糖化合物，所述糖化合物是通过使糖类的羟基、由通式(1)所代表的含异氰酸酯基有机聚硅氧烷、及由通式(2)所代表的含异氰酸酯基有机化合物反应来获得，
化妆材料

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