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- [发明专利]半导体器件及其制作方法和芯片-CN202110479821.8有效
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李星毅;谷玲玲;鲁艳春
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北海惠科半导体科技有限公司
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2021-04-30
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2023-06-23
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H01L21/762
- 本申请公开了一种半导体器件及其制作方法和芯片,半导体器件的制作方法包括步骤:在硅衬底上依次形成氧化硅层和氮化硅层;蚀刻氧化硅层、氮化硅层和硅衬底形成多个浅沟槽;在所述浅沟槽内形成厚度为200‑300埃米的隔离氧化层;对所述浅沟槽进行退火温度为900‑960摄氏度的退火处理;在所述浅沟槽内填充隔离绝缘层,使所述隔离绝缘层的顶部高于所述氧化硅层,且所述隔离绝缘层将所述氧化硅层划分为多个第一有源区和第二有源区;蚀刻掉所述氮化硅层;对所述第一有源区和第二有源区分别进行离子注入,并在所述第一有源区和第二有源区中形成对应的P型MOS管和N型MOS管。这样能够防止机台中的重金属离子扩散到有源区和浅沟槽的交界处,从而避免了空洞的产生。
- 半导体器件及其制作方法芯片
- [实用新型]晶舟以及扩散设备-CN202222550999.X有效
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曲凯;史仁先;鲁艳春
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北海惠科半导体科技有限公司
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2022-09-26
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2023-02-10
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H01L21/673
- 本申请公开了一种晶舟及扩散设备,涉及半导体技术领域,所述晶舟用于承载晶圆,所述晶舟包括多个支撑柱、第一支撑板和第二支撑板,多个所述支撑柱设置在所述第一支撑板和所述第二支撑板之间,且与所述第一支撑板和所述第二支撑板连接;每一所述支撑柱上自所述第一支撑板向所述第二支撑板的方向上间隔设置有多个承载部,各所述支撑柱上处于同一水平面的所述承载部承载所述晶圆;其中,所述承载部上设置有凸起,所述凸起的横截面积沿靠近所述承载部到背离所述承载部的方向逐渐减少;所述凸起的表面间隔设置有多条凸纹。本申请通过上述方式,改善晶舟上的承载部与晶圆在氧化沉积过程中发生粘黏的问题。
- 以及扩散设备
- [实用新型]晶舟及扩散设备-CN202222550938.3有效
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曲凯;史仁先;鲁艳春
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北海惠科半导体科技有限公司
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2022-09-26
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2023-01-31
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H01L21/673
- 本申请公开了一种晶舟及扩散设备,涉及半导体技术领域,晶舟包括多个支撑柱、第一支撑板和第二支撑板,多个支撑柱设置在第一支撑板和第二支撑板之间,且与第一支撑板和第二支撑板连接;每一支撑柱上设置有多个承载部,各支撑柱上处于同一水平面的承载部承载晶圆,晶圆包括产品晶圆和控片晶圆;承载部包括多个产品承载部和多个控片承载部,控片承载部垂直于支撑柱方向上的宽度小于产品承载部垂直于支撑柱方向上的宽度,和/或相邻两个控片承载部之间的间距小于相邻两个产品承载部之间的间距。本申请通过以上方式,改善由于晶舟上承载部的宽度与间距均相同,导致控片膜厚和实际产品的不一致,影响膜层检测精准度的问题。
- 扩散设备
- [实用新型]夹具装置-CN202222869769.X有效
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孔跃春;韩佳伟;刘孝玲;鲁艳春
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北海惠科半导体科技有限公司
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2022-10-28
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2023-01-17
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B25B11/02
- 本申请涉及一种夹具装置,夹具装置包括:安装座、第一夹持件、第二夹持件和活动件;第一夹持件、第二夹持件均铰接于安装座,第一夹持件和第二夹持件之间形成夹持空间,第一夹持件、第二夹持件远离安装座的端部用于夹持划片机刀片;活动件穿设于安装座,活动件具有沿穿设方向移动的第一位置和第二位置,活动件的一端均与第一夹持件、第二夹持件铰接;其中,活动件自第一位置切换至第二位置时,带动第一夹持件与第二夹持件移动,并使夹持空间减小或者增大。本方案的夹具装置能够使得划片机刀片因安装受损的比例大幅度降低,且操作便捷,结构简单。
- 夹具装置
- [发明专利]一种深层土壤采集设备-CN202211135737.5在审
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鲁艳春
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鲁艳春
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2022-09-19
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2022-11-29
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G01N1/08
- 本发明公开了一种深层土壤采集设备,涉及土壤采集技术领域,包括采集筒,滑动设置在采集架上;多个第一通孔,沿周向螺旋设置在采集筒侧壁;多个挡板,转动设置在多个第一通孔内部;采集匣,滑动设置在采集筒内部;多个第二通孔,沿周向设置在采集匣侧壁,多个第一通孔在水平方向的位置与多个第二通孔相互对应;采集盒,转动套设在采集匣外部,侧壁设有第三通孔;联动组件,使得采集匣向上滑动并使得采集盒转动,土壤由挡板进入,依次通过第一通孔、第三通孔和第二通孔,最终进入采集匣中。本发明通过联动组件使得采集匣向上滑动并使得采集盒转动,土壤由挡板进入,依次通过第一通孔、第三通孔和第二通孔,最终进入采集匣中,完成对土壤的收集。
- 一种深层土壤采集设备
- [实用新型]片框及晶圆夹具工装-CN202221562373.4有效
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张浩;余梦霖;鲁艳春
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北海惠科半导体科技有限公司
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2022-06-21
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2022-10-11
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H01L21/673
- 本申请涉及一种片框及晶圆夹具工装。该片框包括间隔设置的两个立柱,两个所述立柱的相对表面分别开设有凹槽,两个所述凹槽之间用于放置晶圆,两个所述凹槽槽底之间的距离沿所述晶圆的放置方向渐缩设置,所述凹槽沿第一方向两侧设置有第一侧壁和第二侧壁,所述第一侧壁和第二侧壁向背离所述晶圆的方向凹陷形成凹陷部,所述凹陷部与所述凹槽连通。第一侧壁和第二侧壁形成凹陷部,相对于直线结构来说,减少了片框对晶圆表面的遮挡,增大晶圆表面和溶液的接触面积,二者充分接触,并且由于片框与晶圆接触面积变小,从而残留溶液较少,使得反应后的晶圆边缘不存在色差,提高芯片清洗和腐蚀工艺的均匀性,提升芯片的性能。
- 夹具工装
- [发明专利]多晶硅层的炉内均匀性控制方法-CN202210748350.0在审
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曲凯;史仁先;鲁艳春
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北海惠科半导体科技有限公司
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2022-06-29
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2022-09-30
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H01L21/285
- 本申请公开了一种多晶硅层的炉内均匀性控制方法,包括的步骤有:将多个衬底置于多晶硅沉积炉内,且至少是分布炉内的在炉口和炉尾处;将多晶硅沉积炉内的条件调节至多晶硅沉积条件,将气态的多晶硅前驱体从炉口和炉尾两端同时进气的方式导入多晶硅沉积炉内进行反应并沉积,在包括P+沟道内和连接区的表面形成多晶硅层;至少对炉口和炉尾处形成的多晶硅层厚度进行测定并获得炉内均匀性值,当多晶硅层厚度的炉内均匀性值大于预定值T,对炉尾进行升温处理或或对炉口进行降温处理。本申请控制方法能够明显改善多晶硅场板在量产过程中性能稳定,从而提高其良品率、产率和降低其成本。
- 多晶均匀控制方法
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