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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]一种金属表面镀膜制造机台及其制造方法-CN202210196571.1在审
发明人：李原吉;刘忠炯;林忠炫;魏木元 -专利权人：友威科技股份有限公司
申请日： 2022-03-01 - 公布日： 2023-09-12 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本发明涉及一种金属表面镀膜制造机台，用于对一金属待镀物进行金属表面镀膜处理，金属表面镀膜制造机台包括一第一工艺腔体，其具有一线性电浆模组及一运输模组，第一工艺腔体依次设置有一第一过渡区、一电浆处理区及一第二过渡区，线性电浆模组设置于电浆处理区，运输模组使得金属待镀物能够沿一运动方向往复移动于第一过渡区及第二过渡区之间，使得线性电浆模组能够对金属待镀物进行表面处理；第二工艺腔体与第一工艺腔体连接，第二工艺腔体用于接收来自第一工艺腔体的金属待镀物，第二工艺腔体能够对金属待镀物的表面进行溅镀处理。
一种金属表面镀膜制造机台及其方法

[发明专利]一种独立式连续工艺系统-CN202210023351.9在审
发明人：李原吉;刘忠炯;林忠炫;魏木元 -专利权人：友威科技股份有限公司
申请日： 2022-01-10 - 公布日： 2023-07-18 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本发明提供一种独立式连续工艺系统，用于对待工艺物件进行电浆处理，该系统依序设置有预处理机台、第一独立工艺机台及终端独立工艺机台。第一独立工艺机台具有工艺腔体及两个阀门，两个阀门分别设于工艺腔体的两侧，工艺腔体依序设置有相互连通的第一真空抽气区、电浆处理区及第二真空抽气区；终端独立工艺机台具有终端工艺腔体及终端阀门，终端阀门设于终端工艺腔体的一侧，终端工艺腔体依序设置有相互连通的第一终端真空抽气区、终端电浆处理区及一第二终端真空抽气区。借此，本发明解决以往真空溅镀设备的溅镀品质低落及溅镀成本过高的问题。
一种立式连续工艺系统

[实用新型]一种金属表面镀膜制造机台-CN202220440170.1有效
发明人：李原吉;刘忠炯;林忠炫;魏木元 -专利权人：友威科技股份有限公司
申请日： 2022-03-01 - 公布日： 2022-07-12 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种金属表面镀膜制造机台，用于对一金属待镀物进行金属表面镀膜处理，金属表面镀膜制造机台包括一第一工艺腔体，其具有一线性电浆模组及一运输模组，第一工艺腔体依次设置有一第一过渡区、一电浆处理区及一第二过渡区，线性电浆模组设置于电浆处理区，运输模组使得金属待镀物能够沿一运动方向往复移动于第一过渡区及第二过渡区之间，使得线性电浆模组能够对金属待镀物进行表面处理；第二工艺腔体与第一工艺腔体固定连接，第二工艺腔体用于接收来自第一工艺腔体的金属待镀物，第二工艺腔体能够对金属待镀物的表面进行溅镀处理。
一种金属表面镀膜制造机台

[实用新型]一种独立式连续工艺系统-CN202220052063.1有效
发明人：李原吉;刘忠炯;林忠炫;魏木元 -专利权人：友威科技股份有限公司
申请日： 2022-01-10 - 公布日： 2022-07-12 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本实用新型提供一种独立式连续工艺系统，用于对待工艺物件进行电浆处理，该系统依序设置有预处理机台、第一独立工艺机台及终端独立工艺机台。第一独立工艺机台具有工艺腔体及两个阀门，两个阀门分别设于工艺腔体的两侧，工艺腔体依序设置有相互连通的第一真空抽气区、电浆处理区及第二真空抽气区；终端独立工艺机台具有终端工艺腔体及终端阀门，终端阀门设于终端工艺腔体的一侧，终端工艺腔体依序设置有相互连通的第一终端真空抽气区、终端电浆处理区及一第二终端真空抽气区。借此，本实用新型解决以往真空溅镀设备的溅镀品质低落及溅镀成本过高的问题。
一种立式连续工艺系统

[实用新型]载具冷却装置及具有载具冷却装置的移动滚轮台-CN201720716999.9有效
发明人： 魏木元;刘忠炯;赖青华;杨正暐 -专利权人：友威科技股份有限公司
申请日： 2017-06-19 - 公布日： 2018-01-12 - 主分类号： C23C14/50 文献下载
摘要：本实用新型为一种载具冷却装置及具有载具冷却装置的移动滚轮台，其中该载具冷却装置包括一散热板、多个致冷晶片以及一致冷板，所述多个致冷晶片固接于该散热板的顶面，该致冷板固接于该多个致冷晶片的顶面，藉此，通过多个致冷晶片的温度控制，使载具冷却的降温过程能够维持均匀降温。
冷却装置具有移动轮台

[实用新型]真空腔体上盖的上掀装置-CN201720082528.7有效
发明人：郑耿旻;魏木元;林岱蔚 -专利权人：友威科技股份有限公司
申请日： 2017-01-20 - 公布日： 2017-10-13 - 主分类号： E05F11/04 文献下载
摘要：本实用新型是一种真空腔体上盖的上掀装置，其包含一架体具有两限位件凸设于该架体的前侧且分别靠近架体左、右侧，两定位柱位于架体后侧且分别位于架体的左、右侧，各定位柱具有一靠近其顶端的穿孔；一控制模块位于该架体后侧并位于两定位柱之间，控制模块具有一转轴可转动地穿设于控制模块的两侧且分别伸至架体左、右侧，一操作部设于控制模块的后侧，操作部与该转轴相连动；及两作动组分别设于架体的定位柱，各作动组具有一可转动地设于定位柱近穿孔处的支轮、一套设固定于转轴的卷放轮与一卷绕于卷放轮并经支轮伸出穿孔的吊挂件，藉以提高打开真空腔体上盖的速度，且打开后不需要额外的空间进行放置上盖，提升打开真空腔体上盖的便利性及安全性。
空腔体上盖装置

[实用新型]真空腔体的多孔性泄气装置-CN201720082555.4有效
发明人： 魏木元;林岱蔚;余端仁 -专利权人：友威科技股份有限公司
申请日： 2017-01-20 - 公布日： 2017-09-26 - 主分类号： F16L41/03 文献下载
摘要：本实用新型是一种真空腔体的多孔性泄气装置，其包含有一泄气本体，该泄气本体包含一进气通道、至少一进气孔与多个泄气孔，该进气通道设于泄气本体中，该至少一进气孔凹设于该泄气本体的外侧面并与进气通道相连通，该多个泄气孔凹设于该泄气本体的顶面并与进气通道相连通，藉此，本实用新型可以稳定气体进入真空腔体的流动状况，能有效降低扰流的发生，进一步减少因扰流引起的扬尘对于工件的影响，进而降低加工成本并改善加工质量，增加了使用的实用性。
空腔多孔泄气装置

[发明专利]防镀膜影响的外部检出装置及溅镀装置-CN200910149501.5有效
发明人：刘忠炯;蔡明展;赖青华;黄泰源;魏木元;朴威辰 -专利权人：友威科技股份有限公司
申请日： 2009-06-25 - 公布日： 2010-12-29 - 主分类号： G01V8/12 文献下载
摘要：一种防镀膜影响的外部检出装置，其装设于一溅镀装置腔体的两个成对的玻璃窗口，其包含一发射器以及一接收器，分别置于该腔体外部且与该玻璃窗口位置对应，该玻璃窗口包含两个防镀管置于该腔体内并分别遮蔽两个该玻璃窗口，该发射器发射一输出光进入该腔体而经由两个防镀管及至该接收器；该防镀管可以在溅镀装置于溅镀制程中，提供对应的玻璃窗口有效的遮蔽，使材料粒子不会镀制于该玻璃窗口上，故提升溅镀装置的使用便利性并可降低维护成本。
镀膜影响外部检出装置

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