专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]布线电路基板的制造方法和布线电路基板片-CN202011545978.8在审
  • 凑屋贵浩;高野誉大;山路正高 - 日东电工株式会社
  • 2020-12-24 - 2021-06-25 - H05K3/06
  • 本发明提供布线电路基板的制造方法和布线电路基板片。在形成导体图案(5)的工序中,一边将包含第4遮光标记(43)的第4掩模(39)和包含第6遮光标记(46)的第5掩模(40)沿长度方向依次配置,一边对光致抗蚀层(49)进行多次曝光,并进行显影而形成镀敷抗蚀层(51),使用镀敷抗蚀层进行镀敷。在对光致镀敷抗蚀层进行曝光的工序中,使光致抗蚀层中的与第1次曝光时的第4掩模相对的相对部分(55)和第2次曝光时的第5掩模重叠。通过隔着第4遮光标记进行的光致抗蚀层的第1次曝光、使用镀敷抗蚀层进行的镀敷,从而形成第1导体标记。通过隔着第5掩模进行的光致抗蚀层的第2次曝光、使用镀敷抗蚀层进行的镀敷,从而形成第3导体标记。
  • 布线路基制造方法
  • [发明专利]布线电路基板的制造方法和布线电路基板集合体片-CN202011191071.6在审
  • 高野誉大;市川和志 - 日东电工株式会社
  • 2020-10-30 - 2021-05-11 - H05K3/00
  • 本发明提供布线电路基板的制造方法和布线电路基板集合体片。在布线电路基板(3)的制造方法中,使用镀敷抗蚀层(50)来形成导体图案(5),该镀敷抗蚀层(50)通过光刻法而形成,在该光刻法中,使1张光掩模(40)相对于干膜抗蚀层(60)沿第1方向依次移动并进行多次曝光。导体图案(5)具有倾斜的导体中间部(23)。1张光掩模(40)具有第3光致图案(43)。第3光致图案(43)包含第1光致线型图案(46)和第2光致线型图案(47)。在沿第1方向进行投影时,第1光致线型图案(46)的第1部(65)与第2光致线型图案(47)的第2部(66)重合。
  • 布线路基制造方法集合体

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