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[发明专利]嵌段共聚物、树脂组合物、涂膜、树脂膜及其应用-CN201880059392.5有效
发明人：依田昌子;高桥夕佳;山广干夫 -专利权人：捷恩智株式会社
申请日： 2018-09-12 - 公布日： 2021-12-07 - 主分类号： C08G18/32 文献下载
摘要：本发明提供一种具有透明性、耐热性及机械物性优异的特性的、分子内具有脲键或氨基甲酸酯键的新颖嵌段共聚物、树脂组合物、涂膜、树脂膜及其应用。本发明是作为下述交替共聚物1与交替共聚物2的加成聚合共聚物的、包含式(3)的重复单元的嵌段共聚物。‑[(交替共聚物1)‑(交替共聚物2)]‑式(3)交替共聚物1：聚脲系交替共聚物，为二异氰酸酯＜A＞与二胺＜B＞的加成聚合共聚物，且包含‑[(A)‑(B)]‑式(1)的重复单元；交替共聚物2：聚脲系交替共聚物2‑1、或聚氨基甲酸酯系交替共聚物2‑2，为二异氰酸酯＜A＞与二胺＜C1＞或二醇＜C2＞的加成聚合共聚物，且包含‑[(A)‑(C1)]‑式(2‑1)或‑[(A)‑(C2)]‑式(2‑2)的重复单元。
共聚物树脂组合涂膜及其应用

[发明专利]模内成形用转印膜、其制造方法及模内成形体的制造方法-CN201811113000.7在审
发明人：伊藤贤哉;大熊康之;田仲拓郎;高桥夕佳;黒松亜纪;山广干夫 -专利权人：捷恩智株式会社
申请日： 2012-06-18 - 公布日： 2019-05-07 - 主分类号： B29C45/16 文献下载
摘要：本发明涉及一种模内成形用转印膜、其制造方法及模内成形体的制造方法。本发明提供耐溶剂性、耐热性、耐久性、抗黏连性、成形性优异，且可抑制浇口流动的产生的模内成形用转印膜及其制造方法。该膜包括：转印层(11)，其被转印至模内成形体上，且于转印后通过照射活性能量线而硬化；以及膜状的基材(L0)。转印层(11)具有层合于基材(L0)上，且于模内成形后配置在成形体的最表面的IMD层(L2)；IMD层(L2)包含混合组分，上述混合组分含有分别至少1种的活性能量线硬化性树脂与热硬化性树脂。
模内成形成形体转印膜制造转印层基材转印耐热性活性能量线硬化热硬化性树脂活性能量线耐溶剂性成形性树脂层合浇口膜状硬化照射配置流动

[发明专利]模内成形用转印膜及其制造方法-CN201280030246.2在审
发明人：伊藤贤哉;大熊康之;田仲拓郎;高桥夕佳;黒松亜纪;山广干夫 -专利权人：捷恩智株式会社
申请日： 2012-06-18 - 公布日： 2014-02-26 - 主分类号： B29C45/16 文献下载
摘要：本发明提供一种耐溶剂性、耐热性、耐久性、抗黏连性、成形性优异，且可抑制浇口流动的产生的模内成形用转印膜及其制造方法。该膜包括：转印层(11)，其被转印至模内成形体上，且于转印后藉由照射活性能量线而硬化：以及膜状的基材(L0)。转印层(11)具有层合于基材(L0)上，且于模内成形后配置在成形体的最表面的IMD层(L2)；IMD层(L2)包含混合组分，上述混合组分含有分别至少1种的活性能量线硬化性树脂与热硬化性树脂。
成形用转印膜及其制造方法

[发明专利]积层体及其制造方法-CN201180049985.1有效
发明人： 高桥夕佳;田仲拓郎;平野幸夫;大熊康之;山广干夫 -专利权人：捷恩智株式会社
申请日： 2011-10-13 - 公布日： 2013-06-12 - 主分类号： B32B27/30 文献下载
摘要：本发明提供一种在一个层中具备具有防污功能、低折射率、高折射率的层的积层体及其制造方法。积层体1包括：透明的基材10；以及于基材10上侧，使射入的光折射的折射层11。折射层11至少包含选自由氟倍半硅氧烷及氟倍半硅氧烷聚合物所组成的组群中的一种以上的氟化合物(ss)、及具有比所述氟化合物(ss)更高的折射率的树脂(p1)。折射层11内的氟化合物(ss)的浓度对于基材10侧(背面s2侧)及其相反侧(表面s1侧)而言，相反侧(表面s1侧)更高，且折射层11于层内形成低折射率与高折射率的倾斜构造层。
积层体及其制造方法