“高桥光人”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果15个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]合成石英玻璃基板用的抛光剂及该抛光剂的制备方法、以及合成石英玻璃基板的抛光方法-CN202180035593.3在审
发明人： 高桥光人 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2021-03-12 - 公布日： 2023-01-13 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明为一种合成石英玻璃基板用的抛光剂，其是至少含有抛光颗粒及水的合成石英玻璃基板用的抛光剂，所述抛光颗粒含有铈与钇的复合氧化物颗粒及铈与钇的复合无定形颗粒，所述铈与钇的复合氧化物颗粒的平均一次粒径为30nm以上且80nm以下，并且所述铈与钇的复合无定形颗粒的平均一次粒径为100nm以上且300nm以下。由此，可提供一种具有高抛光速度、同时能够充分减少因抛光导致的缺陷的产生的合成石英玻璃基板用的抛光剂。
合成石英玻璃基板用抛光制备方法以及

[发明专利]合成石英玻璃基板用的抛光剂及合成石英玻璃基板的抛光方法-CN201880074332.0有效
发明人： 高桥光人 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2018-10-18 - 公布日： 2022-04-26 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明为一种合成石英玻璃基板用的抛光剂，其为用于合成石英玻璃基板的抛光剂，其特征在于，所述抛光剂包含湿式二氧化铈颗粒与非球形二氧化硅颗粒，所述湿式二氧化铈颗粒的平均一次粒径为30nm～50nm，所述非球形二氧化硅颗粒的平均一次粒径为80nm～120nm。由此，提供一种具有高抛光速度、同时能够充分减少因抛光导致的缺陷的产生的合成石英玻璃基板用的抛光剂。
合成石英玻璃基板用抛光方法

[发明专利]合成石英玻璃基板用的抛光剂及其制备方法、以及合成石英玻璃基板的抛光方法-CN201980027717.6有效
发明人： 高桥光人 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2019-02-20 - 公布日： 2022-03-11 - 主分类号： C09K3/14 文献下载
摘要：本发明提供一种合成石英玻璃基板用的抛光剂，其为包含抛光颗粒及水的合成石英玻璃基板用的抛光剂，其特征在于，所述抛光颗粒为铈与钇的复合氧化物颗粒，所述抛光颗粒中所含有的所述铈的含有率为71mol％以上79mol％以下。由此，可提供一种能够充分减少因抛光导致的合成石英玻璃基板表面的缺陷的产生且不会降低抛光速度的合成石英玻璃基板用的抛光剂。
合成石英玻璃基板用抛光及其制备方法以及

[发明专利]稀土类碳酸盐微粒的制造方法及稀土类碳酸盐微粒-CN202080040294.4在审
发明人： 高桥光人 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2020-04-16 - 公布日： 2022-01-07 - 主分类号： C01F17/247 文献下载
摘要：本发明为一种稀土类碳酸盐微粒的制造方法，其特征在于，通过制作在包含稀土类离子与相对于所述稀土类离子过量的尿素的水溶液中，以添加量相对于所述稀土类离子为10～200mol％的方式添加有具有下述式(1)所表示的结构的烷基二甲基氧化胺化合物或甲基吗啉氧化物化合物的反应溶液，并对所述反应溶液进行水热处理，从而制造稀土类碳酸盐微粒。由此，提供一种亚微米以下且分散性优异的稀土类碳酸盐微粒的制造方法。[化学式1]其中，R表示C1～C14的烷基。
稀土碳酸盐微粒制造方法

[发明专利]合成石英玻璃基板用研磨剂及其制备方法以及合成石英玻璃基板的研磨方法-CN201880024428.6有效
发明人： 高桥光人;野岛义弘 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2018-03-19 - 公布日： 2021-06-25 - 主分类号： C09K3/14 文献下载
摘要：本发明为一种合成石英玻璃基板用研磨剂，其含有研磨颗粒及水而成，其特征在于，所述研磨颗粒以二氧化硅颗粒为母体颗粒，在该母体颗粒的表面担载有铈与选自除铈以外的其他三价稀土元素中的至少一种稀土元素的复合氧化物颗粒。由此，可提供一种具有高研磨速度且能够充分降低因研磨导致的缺陷的产生的合成石英玻璃基板用研磨剂。
合成石英玻璃基板用研磨剂及其制备方法以及研磨

[发明专利]合成石英玻璃基板用研磨剂及合成石英玻璃基板的研磨方法-CN201780024422.4有效
发明人： 高桥光人;野岛义弘 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2017-02-23 - 公布日： 2021-04-27 - 主分类号： C09K3/14 文献下载
摘要：本发明为一种合成石英玻璃基板用研磨剂，其由研磨颗粒及水组成，其特征在于，所述研磨颗粒以二氧化铈颗粒为母体颗粒，在该母体颗粒的表面担载有铈与选自除铈以外的其他三价稀土元素中的至少一种稀土元素的复合氧化物颗粒。由此，可提供一种具有高研磨速度且能够充分降低因研磨导致的缺陷的产生的合成石英玻璃基板用研磨剂。
合成石英玻璃基板用研磨剂研磨方法

[发明专利]合成石英玻璃基板用研磨剂以及合成石英玻璃基板的研磨方法-CN201680026694.3有效
发明人： 高桥光人;野岛义弘 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2016-03-31 - 公布日： 2020-06-02 - 主分类号： C09K3/14 文献下载
摘要：本发明是一种合成石英玻璃基板用研磨剂，其包含研磨磨料、研磨促进剂及水，所述合成石英玻璃基板用研磨剂的特征在于，前述研磨磨料是湿式氧化铈粒子，前述研磨促进剂是聚磷酸或其盐、偏磷酸或其盐、以及钨酸或其盐中的任一种。据此，提供一种合成石英玻璃基板用研磨剂，其具有高研磨速度，并且能够充分减少由于研磨而产生缺陷的情况。
合成石英玻璃基板用研磨剂以及研磨方法

[发明专利]合成石英玻璃基板的研磨用研磨粒子及其制造方法，与合成石英玻璃基板的研磨方法-CN201911045409.4在审
发明人： 高桥光人 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2019-10-30 - 公布日： 2020-05-08 - 主分类号： C09K3/14 文献下载
摘要：本发明涉及合成石英玻璃基板的研磨用研磨粒子及其制造方法，与合成石英玻璃基板的研磨方法。提供一种可充分地减低因研磨所造成的缺陷的产生的合成石英玻璃基板的研磨用研磨粒子。作为本发明的合成石英玻璃基板的研磨用研磨粒子，其是一种合成石英玻璃基板的研磨用研磨粒子，特征在于，前述研磨粒子为铈系研磨粒子且以压缩试验机所测得的破坏强度为30MPa以上。
合成石英玻璃研磨粒子及其制造方法

[发明专利]化学机械抛光研磨剂及其制造方法、以及基板的研磨方法-CN201580054292.X有效
发明人： 高桥光人 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2015-08-28 - 公布日： 2019-10-11 - 主分类号： C09K3/14 文献下载
摘要：本发明是一种化学机械抛光研磨剂，其包含研磨粒子、保护剂及水，所述化学机械抛光研磨剂的特征在于，前述保护剂是具有极性基的倍半硅氧烷聚合物。据此，提供一种化学机械抛光研磨剂，其在化学机械抛光步骤中，能够减少由于研磨而产生的研磨损伤，并且具有高研磨选择性。
化学机械抛光研磨剂及其制造方法以及研磨

[发明专利]CMP研磨剂及其制造方法、以及基板的研磨方法-CN201580024264.3有效
发明人： 高桥光人 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2015-03-26 - 公布日： 2018-10-30 - 主分类号： C09K3/14 文献下载
摘要：本发明是一种CMP研磨剂，包括研磨粒子、保护膜形成剂及水，所述CMP研磨剂的特征在于，所述保护膜形成剂是苯乙烯和丙烯腈的共聚物，所述共聚物的平均分子量是500以上且20000以下。据此，提供一种研磨剂及其制造方法、以及基板的研磨方法，其中，在CMP步骤中，能够在低研磨损伤的状态下研磨绝缘膜，进一步，绝缘膜相对于研磨停止膜具有高研磨选择性。
cmp 研磨剂及其制造方法以及研磨

[发明专利]研磨组合物及其制造方法、以及研磨方法-CN201680033515.9在审
发明人：野岛义弘;高桥光人 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2016-05-06 - 公布日： 2018-02-27 - 主分类号： C09K3/14 文献下载
摘要：本发明是一种研磨组合物，其包含二氧化锆作为磨粒，所述研磨组合物的特征在于，pH值是11.0以上且未满12.5；前述二氧化锆中所包含的钠、镁、铝、钾、钙、钛、铬、铁、锰、镍、铜、锌、铅及钴的元素浓度各自未满1ppm。由此，提供一种研磨组合物，其可生产性良好地获得一种半导体基板，所述半导体基板不仅内周部的平坦性高，外周部的平坦性也高，并且由金属杂质所造成的污染少。
研磨组合及其制造方法以及

[发明专利]太阳能电池和太阳能电池模件-CN201180065728.7有效
发明人：桥上洋;渡部武纪;高桥光人;月形信太郎;村上贵志;三田怜;远洞阳子;大塚宽之 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2011-12-01 - 公布日： 2017-02-08 - 主分类号： H01L31/0224 文献下载
摘要：本发明涉及太阳能电池，是在结晶硅基板的受光面侧形成添加了具有与上述硅基板相反的导电型的掺杂剂的发射极层，在上述硅基板的表面形成钝化膜，形成了将光生成的电荷从硅基板取出的取出电极和至少部分地与上述取出电极相接、收集用上述取出电极收集的电荷的集电极的太阳能电池，其特征在于，上述取出电极包含第1电极，该第1电极是含有赋予硅以导电性的掺杂剂的导电性糊的烧结体，以至少上述第1电极贯通上述钝化层的方式形成，上述集电极包含具有比上述第1电极高的导电性的第2电极，根据本发明，在使硅与电极的接触电阻损失和在电极电阻的电阻损失减小的同时，能够使发射极层的光学的和电的损失减小，能够使太阳能电池特性大幅地提高。
太阳能电池模件

[发明专利]太阳能电池的制造方法、以及通过该制造方法制造了的太阳能电池-CN201380042132.4有效
发明人： 高桥光人;渡部武纪;大塚宽之 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2013-07-30 - 公布日： 2016-11-23 - 主分类号： H01L31/0216 文献下载
摘要：一种生产率良好地形成钝化效果优良的由氮化硅构成的反射防止膜的太阳能电池的制造方法，其特征在于，使用具备成膜室(101)、具有使氨气激发的激发部(111a、112a)和对激发了的氨气导入硅烷气体而活性化的活性化反应部(111b、112b)的等离子体室(111、112)、以及针对每个等离子体室(111、112)调整氨气和硅烷气体的流量比的流量控制器(113)的远程等离子体CVD装置(100)，在成膜室(101)中输送半导体基板(102)的同时，通过来自第一等离子体室(111)的等离子体流，在半导体基板(102)上形成第一氮化硅膜，接着通过来自导入了流量比与第一等离子体室(111)不同的氨气和硅烷气体的第二等离子体室(112)的等离子体流，形成组成与第一氮化硅膜不同的第二氮化硅膜。
太阳能电池制造方法以及通过

[发明专利]太阳能电池及其制造方法-CN201180053691.6有效
发明人：森山隼;渡部武纪;村上贵志;月形信太郎;高桥光人;大塚宽之 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2011-09-05 - 公布日： 2013-07-10 - 主分类号： H01L31/04 文献下载
摘要：一种在单晶硅基板表面具有纹理构造的太阳能电池，涉及以在该基板的表面近旁具有基于单晶硅基板制作时的切割加工历史的破损层的太阳能电池，根据本发明，基于单晶硅基板表面近旁存在的基板制作时的切割加工历史的破损层作为吸附站实现功能，对基板的少数载流子的寿命提高有贡献。根据该效果，太阳能电池特性飞跃性地提高。此外，不是重新附加破损，而是利用切割所带来的破损，所以不增加工时。
太阳能电池及其制造方法

[发明专利]太阳能电池的制造方法和制膜装置-CN201180035025.X有效
发明人：三田怜;高桥光人;桥上洋;村上贵志;月形信太郎;渡部武纪;大塚宽之 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2011-07-12 - 公布日： 2013-06-12 - 主分类号： H01L31/04 文献下载
摘要：一种太阳能电池的制造方法，其特征在于，对半导体基板，在电极形成工序之前实施退火工序。根据本发明，通过如上所述实施退火，能够不损害可靠性和外观，改善太阳能电池的电气特性。因此，可以广泛地利用于具有高电气特性和可靠性的太阳能电池的制造方法。
太阳能电池制造方法装置

1
共 15 条