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- [发明专利]用于基片补偿定位的定位装置-CN202010501382.1有效
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冀然
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青岛天仁微纳科技有限责任公司
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2020-06-04
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2023-10-27
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G03F7/00
- 本发明提出一种用于基片补偿定位的定位装置，包括：基盘，其上表面设置有第一真空槽组以及第二真空槽组；定位装置，其放置于所述基盘的上表面，且底部覆盖所述第一真空槽组和/或第二真空槽组，所述定位装置的中心设置有与基片尺寸相同的容纳槽，所述容纳槽贯通所述定位装置，基片位于所述容纳槽内，所述定位装置的上表面与基片的上表面位于同一水平面内；真空装置，其与所述第一真空槽组及第二真空槽组连通，以将基片以及所述定位装置真空吸附在所述基盘的上表面上。本发明易制作，造价低，且使用方法非常简单，能实现各种形状的基片的精确定位，并且根据基片的厚度进行厚度补偿，同时又能避免了溢出的胶体流入基盘内，进而延长基盘的使用寿命。
- 用于补偿定位装置
- [发明专利]一种纳米压印晶圆缺陷定位方法-CN202311168100.0在审
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冀然;于洪超
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青岛天仁微纳科技有限责任公司
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2023-09-12
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2023-10-20
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G06T7/00
- 本发明公开了一种纳米压印晶圆缺陷定位方法，属于图像处理技术领域，本发明中取多张标准图像，计算出各张标准图像之间喷涂区域误差阈值和晶圆区域误差阈值，再将实时图像与任一标准图像进行比较，得到实时喷涂区域差值和实时晶圆区域差值，通过喷涂区域误差阈值和晶圆区域误差阈值先筛选出存在缺陷的实时图像的喷涂区域和存在缺陷的实时图像的晶圆区域，即喷涂区域误差阈值和晶圆区域误差阈值是用于初步筛选出存在缺陷的实时图像，再通过对实时图像的喷涂区域、晶圆区域和标准图像的喷涂区域、晶圆区域进行切分，实现分区对比，从而找到缺陷位置，实现更广范围的缺陷检测和定位。
- 一种纳米压印缺陷定位方法
- [发明专利]一种新型纳米压印设备及其压印方法-CN202110357714.8有效
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冀然
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青岛天仁微纳科技有限责任公司
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2021-04-01
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2023-09-19
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G03F7/00
- 本发明提出一种新型纳米压印设备，包括：吸盘，支撑装置，其设置有两个，分别位于吸盘的左侧及右侧；滴胶装置，其位于左侧支撑装置与吸盘之间；涂布装置，具有可伸缩的涂布块，通过涂布块的伸缩涂布胶液；固定装置，用于固定PET；压印曝光装置，具有可伸缩的压印头，并向第二固定装置的方向伸缩，压印头上具有透光区以及与透光区对应的紫外灯；胶液回收装置，收集压印溢出的废胶液。一种新型纳米压印设备的压印方法，包括以下步骤：S1：上料；S2：点胶；S3：涂布及废胶液回收；S4：压印；S5：脱模。本发明不仅能够自动点胶、涂布、压印曝光以及脱模，无需人工干预，且压印过程中产生无气泡产生，自动化程度高。
- 一种新型纳米压印设备及其方法
- [发明专利]用于方形基片的旋涂设备-CN202310406583.7在审
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冀然;李铭
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青岛天仁微纳科技有限责任公司
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2023-04-17
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2023-08-01
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G03F7/16
- 本申请涉及纳米压印技术领域，公开一种用于方形基片的旋涂设备。包括旋转单元，点胶单元，去胶边单元，排放单元。其中所述旋转单元包括组合吸盘，中部设置有方形的凹陷区，所述凹陷区开设有多条真空气槽，所述凹陷区外侧设置有补偿区；多个顶针，与升降电机相连接，可穿过所述真空气槽上的多个顶针针孔到达所述组合吸盘上方，对方形基片进行上下料。其中，所述补偿区与所述凹陷区之间的高度差小于或等于第一高度。本方案提供的用于方形基片的旋涂设备利用压差将方形基片固定，通过组合吸盘将方形基片补偿为圆形基片，避免了气流扰动影响胶层均匀性，从而提高了方形基片旋涂胶层的均匀性。
- 用于方形设备
- [发明专利]便携式晶圆对位冷板及其使用方法-CN202211727853.6在审
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冀然;张显龙
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青岛天仁微纳科技有限责任公司
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2022-12-30
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2023-07-28
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H01L21/68
- 本申请涉及纳米压印技术领域，公开一种便携式晶圆对位冷板，包括吸笔本体、降温板、小型真空泵和对位结构，吸笔本体的支撑部上设置有若干第一真空吸孔和若干排气口，第一真空吸孔位于在支撑部的上表面，排气口位于支撑部的侧部，降温板安装在支撑部上，降温板上设置有若干与第一真空吸孔位置对应的第二真空吸孔；小型真空泵安装在吸笔本体的手持部上，包括开关按钮、与真空吸孔连通的抽气嘴和与排气口连通的排气嘴；对位结构用于对吸笔本体和晶圆定位。本公开能够用于转移晶圆，也可作为对位工装，且在晶圆转移过程中，即可实现晶圆降温，节省设备空间，便捷且成本低，操作简单。本申请还公开一种便携式晶圆对位冷板的使用方法。
- 便携式对位及其使用方法
- [发明专利]双面压印设备及其使用方法-CN202310259130.6在审
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冀然;彭华
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青岛天仁微纳科技有限责任公司
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2023-03-17
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2023-07-18
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G03F7/00
- 本申请涉及纳米压印技术领域，公开一种双面压印设备，其第一压印单元可升降安装在壳体内的上部，包括上压印腔体和上模具，上模具安装在上压印腔体的下表面；第二压印单元可升降安装在壳体内的下部，包括下压印腔体和下模具，下模具安装在下压印腔体的上表面；夹持单元位于第一压印单元与第二压印单元之间，夹持单元固定在壳体的内部，夹持单元用于夹持基片；抽真空结构用于抽取压印腔内的气体，以使压印腔内为负压状态。本公开的双面压印设备气密性好，有利于纳米压印胶填充在纳米结构中，实现高深宽比结构等难度较大的结构的压印。本发明设备可两面同时进行压印，提高压印效率。本申请还公开一种双面压印设备的使用方法。
- 双面压印设备及其使用方法
- [发明专利]一种具有双面压印功能的纳米压印设备-CN202111316483.2有效
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冀然
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青岛天仁微纳科技有限责任公司
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2021-11-09
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2023-07-18
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G03F7/00
- 本发明公开了一种具有双面压印功能的纳米压印设备，包括：压印板、对位单元和曝光单元，所述压印板包括第一压印板，第二压印板和第三压印板，所述对位单元位于所述设备腔体内部，并固定在设备上方；所述第一压印板位于所述设备腔体内部上方、对位单元下方；所述第三压印板位于设备腔体内下方、对位单元下方；所述第二压印板位于设备腔体内下方、所述第三压印板的一侧，所述曝光单元位于所述第三压印板的下方；还包括基片、工作模具。本发明的有益效果是：第一压印板，第二压印板和第三压印板，结合对位单元，实现基片自动动对位和旋转，既可以完成单面压印动作，也可完成双面压印动作；曝光单元发出紫外光将纳米压印胶固化。
- 一种具有双面压印功能纳米设备
- [发明专利]桌面型旋涂设备-CN202310229813.7在审
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冀然;李铭
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青岛天仁微纳科技有限责任公司
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2023-03-10
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2023-06-27
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G03F7/16
- 本申请涉及纳米压印技术领域，公开一种桌面型旋涂设备，包括壳体、托盘单元、点胶单元、去边单元和背洗单元，壳体包括外壳主体和盖板，盖板安装在外壳主体上部，外壳主体内部设置有匀胶腔体；托盘单元安装在壳体内，托盘单元包括位于匀胶腔体内的基片托盘，基片托盘用于承载基片；点胶单元安装在盖板上，点胶单元与基片位置对应，点胶单元用于对基片点胶；去边单元安装在壳体上，与基片的边缘位置对应，去边单元用于去除基片边缘的纳米压印胶；背洗单元安装在外壳主体内，背洗单元用于清洗反弹到基片背面的纳米压印胶。本公开体积小，集成点胶、去边和背洗等功能单元，可实现自动滴胶功能，保证基片正面胶层的均匀性和背面清洁功能齐全。
- 桌面型旋涂设备
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