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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]固态电池及形成固态电池的方法-CN202180084075.0在审
发明人： 金暲祐 -专利权人：瓦特里股份有限公司
申请日： 2021-07-27 - 公布日： 2023-09-01 - 主分类号： H01M10/0562 文献下载
摘要：公开了使用非惰性气体形成电化学电池单元的方法。示例性方法包括在向电池单元施加电流和电压中的一个或多个之前提供第一气体。第一(例如，非惰性)气体可促进固体电解质界面(SEI)的形成。本公开的又一个示例涉及通过电喷涂包含聚合材料的溶液形成电化学电池单元或其一部分的方法。该等方法可能消除在超过100兆帕的压力下压缩电池单元的步骤，并延长循环寿命，同时防止火灾。
固态电池形成方法

[发明专利]可再充电的金属卤化物电池-CN201980008474.1有效
发明人： 金暲祐;罗英惠;金昊彻 -专利权人：国际商业机器公司
申请日： 2019-01-07 - 公布日： 2023-08-11 - 主分类号： H01M4/66 文献下载
摘要：一种电池，包括：阳极；电解质，所述电解质包含：氧化气体；用作活性阴极材料的金属卤化物；以及包括腈化合物的溶剂；以及接触所述阴极材料的集电器。
充电金属卤化物电池

[发明专利]具有嵌入阳极的可再充电金属卤化物电池-CN202180061301.3在审
发明人： 金暲祐;A·T·泰克 -专利权人：国际商业机器公司
申请日： 2021-05-20 - 公布日： 2023-05-16 - 主分类号： H01M4/58 文献下载
摘要：一种金属卤化物电池包括：嵌入阳极；阴极，其包括被并入到导电材料中的金属卤化物；氧化气体；以及与嵌入阳极、阴极和氧化气体接触的电解质。该电池在使电池能够在10‑15分钟内充电的电流密度下具有达到1000次循环的循环寿命。可用在金属卤化物电池中的电解质包括(i)具有至少一个乙基的基于碳酸酯的化合物和离子导电盐，以及/或者(ii)至少一种环酯化合物。
具有嵌入阳极充电金属卤化物电池

[发明专利]用于可再充电金属卤化物电池的多孔硅负极-CN202080077824.2在审
发明人：罗英惠;金暲祐;R·D·艾伦;J·德索扎;J·科林斯;D·萨达纳 -专利权人：国际商业机器公司
申请日： 2020-10-22 - 公布日： 2022-06-21 - 主分类号： H01M10/0568 文献下载
摘要：一种电池，包括：正极，该正极具有金属卤化物和导电材料，其中该金属卤化物充当活性正极材料；多孔硅负极，该多孔硅负极具有含有孔的表面，该孔具有约0.5微米至约500微米的深度，并且该多孔硅负极包括在该表面上和在该孔中的至少一些中的金属；以及与该负极和该正极接触的电解质，其中该电解质包括腈部分。
用于充电金属卤化物电池多孔负极

[发明专利]可再充电的金属卤化物电池-CN202080054900.8在审
发明人： 金暲祐;罗英惠;R·艾伦 -专利权人：国际商业机器公司
申请日： 2020-06-16 - 公布日： 2022-03-11 - 主分类号： H01M4/66 文献下载
摘要：一种电池，包括阳极，包括溶剂和至少一种离子导电盐的电解质，以及包括结合导电材料中的金属卤化物盐的阴极。电解液与阳极、阴极和氧化气体接触。
充电金属卤化物电池

[发明专利]可再充电金属卤化物电池-CN202080018029.6在审
发明人： 金暲祐;罗英惠;G·布雷耶塔 -专利权人：国际商业机器公司
申请日： 2020-03-02 - 公布日： 2021-10-15 - 主分类号： H01M6/14 文献下载
摘要：一种电池，包括：阳极；电解质，包括：氧化气体；包含金属卤化物的活性阴极材料；以及包含杂环化合物的溶剂；以及接触所述活性阴极材料的集电器。
充电金属卤化物电池

[发明专利]掩模框架组件和制造该掩模框架组件的方法-CN201510557180.8有效
发明人：金柾勋;吴允灿;金暲祐;卢熙锡;朴封俊;安太龙;张大植;郑哲珪;洪宰敏 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2015-09-03 - 公布日： 2020-03-20 - 主分类号： H01L51/56 文献下载
摘要：一种掩模框架组件包括框架和掩模，掩模包括具有图案孔的图案部分和形状记忆合金部分。一种制造掩模框架组件的方法包括：在掩模上形成具有图案孔的掩模部分和形状记忆合金部分，形状记忆合金部分在沉积温度下在第一方向上延伸；以及通过使掩模在室温下在垂直于第一方向的第二方向上延伸将掩模联接到框架。
框架组件制造方法

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