专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]切割设备-CN202210037988.3在审
  • 张瑞斌;邹恒杉 - 伊利诺斯工具制品有限公司
  • 2022-01-13 - 2023-07-25 - B08B5/02
  • 本申请公开了一种切割设备,包括:壳体;门;以及气体清洁装置,所述气体清洁装置被配置为通过所述气体入口接收清洁气体,并使所述清洁气体从所述至少一个主气体出口朝向所述门吹出,以清洁所述门。本申请利用气体清洁装置来清洁门,清洁气体形成的气帘使切门上附着的削冷却液、切屑和沙粒等向下滴落到挡液板上,然后回到操作容腔中。并且通过控制清洁气体的吹出角度和压力,使切削冷却液、切屑和沙粒等能够被保留在操作容腔的范围内,而不会滴落到切割设备的外部。此外,随着门的打开,门与气体清洁装置发生相对移动,使得气体清洁装置清洁门的过程与门打开的过程是基本同步的,经过气体清洁装置的门的部分不会再有液体滴落到工作台或地面上。
  • 切割设备
  • [发明专利]真空安装系统的流体流量控制-CN201980007175.6有效
  • 张瑞斌;马修·罗伯特·卡拉汉;迈克尔·爱德华·基布尔;邹恒杉 - 伊利诺斯工具制品有限公司
  • 2019-03-22 - 2023-07-14 - B65D81/20
  • 公开了用于经由真空系统(100)来安装材料样品和控制通过真空系统(100)的管的流体流量的系统和方法。在一些示例中,真空系统(100)可以是可浇注安装和/或冷安装真空系统,该真空系统有助于在低压力、真空压力、和/或接近真空压力下将材料样品安装和/或封装在环氧树脂中。在一些示例中,真空系统(100)可以包括流量控制装置(500),该流量控制装置被配置成控制通过与中空真空室(104)连接的分配管的环氧树脂流量。在一些示例中,真空室(104)可具有由包夹在密封环(132)的上部部分与下部部分之间的边沿(130)限定的开口(134)。可移动的盖子(136)可被配置成当处于关闭位置时向下压在密封环(132)的上部部分上,以便密封开口(134)。
  • 真空安装系统流体流量控制
  • [发明专利]一种工件台平衡质量定位系统-CN200710172427.X有效
  • 王天明;袁志扬;严天宏;邹恒杉 - 上海微电子装备有限公司;上海微高精密机械工程有限公司
  • 2007-12-17 - 2008-06-25 - G03F7/20
  • 本发明为一种工件台平衡质量定位系统,用于光刻机中工件台的减振,其包括系统框架、基础框架、硅片承载台、气浮系统、纠偏防漂装置及运动限位装置,该系统框架通过气浮系统相对该基础框架运动,该运动限位装置位于系统框架的四个角点位置用以圈定该定位系统在基础框架上作平面运动的极限位置,X向和Y向长行程模块实现硅片承载台相对于系统框架在X、Y方向上的独立运动,纠偏防漂装置用以完成对工件台平衡质量定位系统的跟踪补偿和回零控制。本发明的平衡质量定位系统结构简单,采用特殊设计的纠偏防漂装置能使其运动完全解耦,并且易于制定跟踪控制策略,结合X、Y向力矩补偿装置,可以使硅片承载台作大行程运动的加速度得到进一步的提高。
  • 一种工件平衡质量定位系统
  • [发明专利]悬挂式支撑成像系统及光刻装置-CN200610147842.5无效
  • 严天宏;朱岳彬;袁志扬;王天明;邹恒杉;唐海明;刘育 - 上海微电子装备有限公司
  • 2006-12-22 - 2007-09-26 - G03F7/20
  • 本发明属于投影曝光技术领域,具体公开了一种悬挂式支撑成像系统,以及带有此种成像系统的光刻装置。其包括成像系统和支撑装置,其特征在于:还包括状态检测传感器和主动执行装置,所述状态检测传感器固定设置在成像系统上;所述主动执行装置设置在成像系统外侧,其与状态检测传感器相连用于接收位置状态传感器得到的信号并控制校正成像系统的位置;支撑装置为悬挂构件,成像系统悬挂在悬挂构件的下端。本发明成像系统通过采用悬挂式连接结构,使整个成像系统与光刻装置实现分系统分离式的主动隔振,从而改善掩模支撑与投影物镜的相对振动模态,以降低掩模版与曝光系统光轴间的相对误差对同步扫描质量的影响。
  • 悬挂支撑成像系统光刻装置
  • [发明专利]一种精密可调定位装置-CN200510024016.7有效
  • 邹恒杉;袁志扬 - 上海微电子装备有限公司
  • 2005-02-23 - 2005-09-21 - G03F7/20
  • 一种精密可调定位装置,包括二定位机构调节机构和二锁紧机构;调节机构由柔性块右螺母左螺母和调节螺栓构成,左右螺母用调节螺栓靠螺纹配合连接;一定位销固定在柔性块的顶部,整个调节机构靠紧二定位块;二锁紧机构分别包括四个固定螺钉、二个锁定销、锁定板、楔形块、锁紧螺钉、弹簧垫圈,二锁定销插入到柔性块的侧面孔中,通过固定螺钉与锁定板把锁定销固定在柔性块内,楔形块插入二个锁定销间,用锁紧螺钉和弹簧垫圈把楔形块的斜面压紧于锁定销的斜面上,楔形块与柔性块的中间间隙小于楔形块的长度。它解决现有凸轮结构的调节定位机构,精度低,易受摩擦温度影响的技术问题,用于具有高精度定位要求,并且有间距微调要求的物体间。
  • 一种精密可调定位装置

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