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[发明专利]信息处理装置、信息处理系统、信息处理方法及记录介质-CN201780092299.X有效
发明人： 远藤浩太郎;中岛宏 -专利权人：株式会社东芝;东芝数字解决方案株式会社
申请日： 2017-09-26 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G06F9/455 文献下载
摘要：函数节点控制部(110)将输入消息和程序的组作为日志记录而记录，并将该组向虚拟机部(130)传送。虚拟机部(130)以该消息为自变量执行程序，将该结果向函数节点控制部(110)传送。函数节点控制部(110)将该结果输出。恢复部(140)在信息处理装置(100)起动时，将虚拟机部(130)复原为过去的某个时刻的状态，将该时刻以后的日志依次取出，通过虚拟机部(130)依次进行基于该自变量的程序的重新执行，将虚拟机部(130)前滚为最新的状态。
信息处理装置系统方法记录介质

[发明专利]篡改检测系统及篡改检测方法-CN201880091348.2有效
发明人： 远藤浩太郎 -专利权人：株式会社东芝;东芝数字解决方案株式会社
申请日： 2018-04-27 - 公布日： 2023-05-02 - 主分类号： H04L9/32 文献下载
摘要：实施方式的篡改检测系统，是具备能够与1个以上的对等体中的某1个连接的1个以上的第1终端和检测装置的篡改检测系统，所述第1终端具备：取得部，从所述对等体取得块链中包含的块哈希；及发送部，将包含第1签名对象数据及所述第1签名对象数据的电子签名的第1交易记录发送至所述对等体，所述第1签名对象数据包含所述块哈希和基于所述第1终端的交易内容的数据，所述检测装置具备：接收部，从所述对等体接收所述块链；及检测部，在所述块链的块中包含的第1交易记录中包含的所述电子签名不是有效的、或者与所述块中包含的所述第1交易记录中包含的所述块哈希相同的块哈希未包含于所述块链的情况下，检测所述块链的篡改。
篡改检测系统方法

[发明专利]篡改验证方法以及篡改验证系统-CN201980100214.7在审
发明人： 远藤浩太郎 -专利权人：株式会社东芝;东芝数字解决方案株式会社
申请日： 2019-10-21 - 公布日： 2022-04-15 - 主分类号： G06F21/64 文献下载
摘要：实施方式的篡改验证方法包括以下步骤：根据多个其它区块的其它区块哈希和固有信息来计算区块哈希，并生成连接了包括所计算出的区块哈希的区块的区块链；当接收到所述区块链中包括的验证区块的验证请求时，对所述其它区块哈希生成证书，该证书被用于重新计算区块的重新计算中，该重新计算区块包括依赖于所述验证区块的区块哈希的区块哈希；以及当接收到所述证书时，使用所述证书来重新计算所述重新计算区块的区块哈希，从而验证所述验证区块。
篡改验证方法以及系统

[发明专利]信息处理装置、信息处理系统、信息处理方法、存储介质及程序-CN202080025399.2在审
发明人：铃木贤;后藤隼人;辰村光介;远藤浩太郎;酒井良哲 -专利权人：株式会社东芝;东芝数字解决方案株式会社
申请日： 2020-03-27 - 公布日： 2021-11-12 - 主分类号： G06N10/00 文献下载
摘要：提供一种在实用性的时间内计算组合最优化问题的解的信息处理装置、信息处理系统、信息处理方法、存储介质及程序。作为本发明的实施方式的信息处理装置具备存储部和处理电路。上述存储部构成为，存储作为第1向量的要素的第1变量及作为第2向量的要素的第2变量。上述处理电路构成为，将上述第1变量基于对应的上述第2变量更新，将上述第1变量用第1系数加权并加上对应的上述第2变量，使用多个上述第1变量来计算问题项，将上述问题项加上上述第2变量，计算包含约束项与第2系数的积在内的第1修正项，将上述第1修正项加上上述第2变量，根据更新次数将上述第1系数及上述第2系数的绝对值增加。上述约束项基于表示约束条件的约束函数，具有上述第1变量作为自变量。
信息处理装置系统方法存储介质程序

[发明专利]信息处理设备、非暂态存储介质、信息处理方法和电子电路-CN202080004803.8在审
发明人：酒井良哲;后藤隼人;辰村光介;远藤浩太郎;铃木贤 -专利权人：株式会社东芝;东芝数字解决方案株式会社
申请日： 2020-02-20 - 公布日： 2021-05-11 - 主分类号： G06F17/11 文献下载
摘要：根据一个实施例，信息处理设备包括第一处理电路和第二处理电路。第一处理电路被配置为基于基本方程来更新第三矢量。每个基本方程是目标函数关于目标函数中任一变量的偏导数。第二处理电路被配置为更新第一矢量的元素并更新第二矢量的元素。第一矢量的小于第一值的元素被设定为第一值。第一矢量的大于第二值的元素被设定为第二值。
信息处理设备非暂态存储介质方法电子电路

[发明专利]多重化处理系统、多重化处理方法以及程序-CN201580082825.5有效
发明人： 远藤浩太郎 -专利权人：株式会社东芝;东芝数字解决方案株式会社
申请日： 2015-09-08 - 公布日： 2021-03-16 - 主分类号： G06F11/18 文献下载
摘要：实施方式的多重化处理系统是具备多个服务器装置的多重化处理系统。各个服务器装置具备存储部、处理部、决定控制部、恢复部、重新执行控制部以及输出部。处理部将确定性输出数据或者非确定性输出数据作为第1输出数据输出。决定控制部选择从本装置输出第1输出数据、或者从本装置以外的其他某个服务器装置输出的第1输出数据中的一个，决定为第2输出数据。在第2输出数据是确定性输出数据、并且第2输出数据与从本装置输出的第1输出数据不一致的情况下，重新执行控制部使本装置重新执行处理，直到第2输出数据与重新决定的第1输出数据一致、或者重新执行次数达到阈值以上为止。
多重处理系统方法以及程序

[发明专利]云系统管理装置、云系统、重新配置方法、及程序-CN201280077616.8在审
发明人： 远藤浩太郎 -专利权人：株式会社东芝;东芝解决方案株式会社
申请日： 2012-12-12 - 公布日： 2015-09-02 - 主分类号： G06F11/20 文献下载
摘要：实施方式的云系统管理装置具备：估计部，基于对在云系统内的服务器装置中动作的服务进程要保证的品质进行表示的品质信息，估计对服务进程不能达成品质的程度进行表示的违约信息；检测部，检测服务器装置的故障；决定部，当对在检测到故障的服务器装置中动作的至少一个第1服务进程进行重新配置时，将重新配置目的地的服务器装置中动作的至少一个第2服务进程的违约信息的总和小的服务器装置优先地、决定为重新配置目的地的服务器装置；以及重新配置部，通过将第1服务进程移动到重新配置目的地的服务器装置，来进行重新配置。
系统管理装置系统重新配置方法程序

[发明专利]用于控制对计算机共享的存储设备中的逻辑单元的访问的方法和系统-CN200710091361.1有效
发明人： 远藤浩太郎 -专利权人：株式会社东芝;东芝解决方案株式会社
申请日： 2007-03-30 - 公布日： 2007-10-17 - 主分类号： H04L12/28 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于控制对计算机共享的存储设备中的逻辑单元的访问的方法和系统。该方法包括用户终端(10－i)的采集单元(101)采集包括用户ID(102)和计算机ID(103)的发起者ID。该发起者ID由发送单元(104)发送，然后，由存储设备(30)的发送/接收单元(300)接收。LUDB(301)存储确定与若干用户中的每个用户ID对应的LU的信息。掩蔽单元(302)访问该LUDB，以确定与该用户ID(102)对应的LU。如果接收到的发起者ID与对应于该确定的LU而存储在该表(304)中的发起者ID不同，那么访问控制单元(306)就拒绝用户终端(10－i)对该LU的访问。
用于控制计算机共享存储设备中的逻辑单元访问方法系统

[发明专利]光刻胶保护膜形成用材料以及使用该材料的光刻胶图案的形成方法-CN200580025673.1有效
发明人： 远藤浩太郎;吉田正昭;石冢启太 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2005-07-29 - 公布日： 2007-08-15 - 主分类号： G03F7/11 文献下载
摘要：本发明在浸液曝光工艺中，能同时防止利用包括水在内的各种浸渍液的浸液曝光中的光刻胶膜的变质及所用的浸渍液的变质，且不会增加处理工序数量，可在浸液曝光下形成高分辨率的光刻胶图案。还可应用于更高折射率的浸液介质，通过与这样的高折射率浸液介质一起使用，能进一步提高图案精度。利用含有丙烯酸类树脂的组合物在所使用的光刻胶膜表面上形成保护膜，而所述丙烯酸类树脂具有相对于浸渍光刻胶膜的液体尤其是水实质上没有相溶性且可溶于碱的特性。
光刻保护膜形成用材以及使用材料图案方法

[发明专利]光刻胶保护膜形成用材料以及使用该材料的光刻胶图案形成方法-CN200580025663.8无效
发明人：石冢启太;远藤浩太郎;平野智之 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2005-07-29 - 公布日： 2007-08-15 - 主分类号： G03F7/11 文献下载
摘要：本发明在浸液曝光工艺中，能同时防止利用包括水在内的各种浸渍液的浸液曝光中的光刻胶膜的变质及所用的浸渍液的变质，且不会增加处理工序数，提高光刻胶膜的放置耐性，可形成利用浸液曝光的高分辨率的光刻胶图案。使用至少将可溶于碱的聚合物和交联剂及可溶解它们的溶剂作为构成成分的组合物在所使用的光刻胶膜表面上形成保护膜。
光刻保护膜形成用材以及使用材料图案方法

[发明专利]用于形成液浸曝光工艺用光刻胶保护膜的材料、以及使用该保护膜的光刻胶图案形成方法-CN200580012969.X无效
发明人：石冢启太;肋屋和正;远藤浩太郎;吉田正昭 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2005-04-25 - 公布日： 2007-04-11 - 主分类号： C08F20/10 文献下载
摘要：一种液浸曝光工艺，特别是通过在光刻曝光光线到达光刻胶膜的通路中，至少在前述光刻胶膜上设置特定厚度的，折射率比空气大并且比前述光刻胶膜小的液体的状态下，进行曝光提高光刻胶图案的分辨率，同时防止使用以水为首的各种浸渍液的液浸曝光中的光刻胶膜的变质和所使用浸渍液的变质，并且没有导致处理工艺步骤的增加，并可以形成使用液浸曝光的高分辨率光刻胶图案。在所使用的光刻胶膜的表面上形成了具有与浸渍光刻胶膜的液体特别是水实质上不相溶，而可溶于碱的特性的保护膜。
用于形成曝光工艺用光保护膜材料以及使用光刻图案方法

[发明专利]浸液曝光用正型光刻胶组成物及光刻胶图案的形成方法-CN200580006991.3无效
发明人：石冢启太;远藤浩太郎 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2005-03-07 - 公布日： 2007-03-14 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：浸液曝光用正型光刻胶组成物及光刻胶图案的形成方法，尤其是对水隔绝性好的具有耐浸液性的浸液曝光用正型光刻胶组成物及采用该光刻胶组成物的光刻胶图案的形成方法。浸液曝光用正型光刻胶组成物包含(A)通过酸的作用而使碱溶性增大的树脂成分和(B)通过曝光产生酸的酸发生剂成分，其特征在于，上述树脂成分(A)至少含有丙烯酸酯构成单元(a1)和具有酸离解性溶解抑制基的(甲基)丙烯酸酯构成单元(a2)，上述构成单元(a1)由与上述构成单元(a1)的丙烯酸酯键合的环状基和与该环状基键合的特定结构的氟化有机基形成。
浸液曝光用正型光刻组成图案形成方法

[发明专利]分布式系统和冗余控制方法-CN200510053883.3有效
发明人： 远藤浩太郎 -专利权人：东芝解决方案株式会社
申请日： 2005-03-14 - 公布日： 2005-09-14 - 主分类号： G06F15/16 文献下载
摘要：使用有效个数冗余方法的分布式系统，其中冗余处理由N个彼此可通信的处理元素中的至少Q个处理元素所执行，N个处理元素中的每个包括：重新同步判决装置(132)，用于判决在这样的情况下所述处理元素自身的执行状态可以与所述分布式系统中最新的执行状态重新同步，其中在所述情况中，所述处理元素可以在重启所述处理元素的时刻与所述N个处理元素中的至少F+1个已经同步的元素(F＝N－Q)进行通信；以及重新同步装置(133)，用于根据所述重新同步判决装置的判决结果，将所述处理元素自身的执行状态重新同步到所述至少F+1个处理元素的执行状态中的最新一个上。
分布式系统冗余控制方法

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